- •Рекомендуемая литература
- •1.1. Значение исследований поверхности
- •XIX - первая половина ХХ века
- •Роль поверхностных явлений
- •Катализ
- •Твердотельная электроника
- •Исследования в четко контролируемых условиях
- •1.2. Методы получения чистой поверхности
- •1.2.1.Прогрев при высоких температурах
- •1.2.2.Химические методы очистки
- •1.2.3. Ионная бомбардировка
- •Рецепты
- •1.2.4. Раскалывание в сверхвысоком вакууме
- •1.2.5.Некоторые специфические методы
- •1.3.Термодинамика поверхности
- •1.4. Анизотропия удельной поверхностной энергии
- •Литература к разделу II
- •II. АТОМНАЯ СТРУКТУРА ЧИСТЫХ ПОВЕРХНОСТЕЙ
- •2.1. Двумерная кристаллическая решетка
- •2.2. Обозначения поверхностей монокристаллов и атомных структур
- •2.3. Изменение межплоскостных расстояний у поверхности
- •2.3. Изменение межплоскостных расстояний у поверхности
- •2.4. Релаксация неполярных поверхностей ионных кристаллов
- •2.5.Реконструкция поверхности
- •2.5.1. Реконструкция на поверхности тугоплавких металлов
- •Золото (001)
- •Корреляция Энгеля
- •2.6. Реконструкция на поверхности полупроводников. Кремний (111).
- •2.7. Фасетирование поверхности
- •2.8. Влияние дефектов на структуру поверхности
- •2.9. Структура поверхности и ее физические свойства
- •2.10.Колебания поверхностных атомов
- •Термическое расширение
- •Литература к III разделу
- •III.ЭЛЕКТРОННЫЕ СВОЙСТВА ПОВЕРХНОСТИ ТВЕРДОГО ТЕЛА
- •3.2.Поверхностные состояния. Метод ЛКАО
- •3.3 Поверхностные состояния Шокли
- •3.4. Поверхностные состояния. Приближение почти свободных электронов
- •3.6. О возможности изменения ширины запрещенной зоны на поверхности
- •3.7. Поверхностная (проектированная) зона Бриллюэна
- •3.8. Экспериментальное исследование электронной структуры поверхности металлов
- •Фотоэлектронная спектроскопия
- •GaAs (110)
- •3.9. Изменение потенциала и распределение электронной плотности у поверхности
- •3.9.2. Метод функционала плотности
- •3.9.2.A. Электронный газ с почти постоянной плотностью
- •3.9.2.Б. Плавно меняющаяся электронная плотность
- •3.9.3. Способы реализации метода функционала плотности
- •3.9.3.Б. Усовершенствованный метод Хартри
- •3.9.3.В.Вариационный метод
- •3.9.4. Электронная плотность и потенциал у поверхности
- •3.9.5. Работа выхода
- •3.9.6. Поверхностная энергия
- •3.9.7. Учет атомной структуры поверхности
- •Расчеты электронной структуры различных граней металлов
- •3.8.8. Взаимодействие заряда с поверхностью
- •3.8.9.Влияние внешнего электрического поля
- •IV. АДСОРБЦИЯ
- •4.1. Кинетика адсорбции. Теория Ленгмюра.
- •4.2. Полимолекулярная адсорбция
- •4.3. Физическая и химическая адсорбция
- •4.3.1.Силы, приводящие к физической адсорбции
- •4.3.Б. Метод валентных связей
- •4.3.В.Заселенность перекрывания
- •4.3.3. Химическая связь
- •4.4. Электронное состояние адатома
- •4.5. Энергия связи адатомов с поверхностью
- •4.6. Латеральное взаимодействие адатомов
- •4.7. Структура адсорбированных слоев
- •4.8. Изменение работы выхода
- •4.9. Поверхностная диффузия
- •Солитонный механизм
- •V. ТОНКИЕ ПЛЕНКИ НА ПОВЕРХНОСТИ ТВЕРДОГО ТЕЛА
- •5.1. Механизмы роста пленок
- •5.2.Эпитаксия
- •5.3.Зародыши и их образование
- •5.4. Диспергированные пленки
- •5.5.Электропроводность тонких сплошных пленок
- •Удачи!
Литература к разделу II
Б.А.Нестеренко, В.Г.Ляпин “Фазовые переходы на свободных гранях и межфазных границах в полупроводниках”.
Киев, “Наукова Думка”, 1990, 152 с
М.А.Васильев “Структура и динамика поверхностей переходных металлов” Киев, “Наукова Думка”, 1988, 245 с.
А.Г.Наумовец, “Исследование структуры поверхностей методом ДМЭ”,
УФЖ, 23, 10 (1978)
Inglesfield “Reconstruction and relaxations on metal surfaces”. Progr. Surface Sci., 20, 2 (1985) 105-164.
K.Muller, “Reconstructed surface”, Phys.Stat.Sol.(a), 49, 1 (1978) 39-49
F.Jona, “LEED crystallography”, J.Phys.C:Solid State, 11, 21 (1978) 4271.
II. АТОМНАЯ СТРУКТУРА ЧИСТЫХ ПОВЕРХНОСТЕЙ
Изменения в расположении атомов |
|
сопровождается изменением |
Изменение физико-химических |
энергетического и пространственного |
свойств поверхностной области |
распределения электронов |
|
Идеализированная поверхность - атомы располагаются в местах, соответствующих объемной кристаллической структуре
GaAs (110)
Идеализиро- |
В запрещенной зоне |
|
ванная |
||
локализованные на |
||
поверхность |
||
поверхности электронные |
||
|
состояния, |
|
|
частично заполненные |
|
|
электронами |
|
|
Эксперимент не подтверждает |
В ФЭЭспектре должны быть электроны с большей кинетической энергией, чем у эмитированных из валентной зоны.
Si(111)
Идеализиро- |
Двукратно вырожденные |
|
ванная |
||
поверхностные |
||
поверхность |
||
энергетические уровни |
||
|
||
Эксперимент |
Изменение геометрии |
|
расположения атомов |
||
|
||
|
приводит к расщеплению |
Металлическая
проводимость
Нижний из уровней целиком заполнен, верхний - свободен. В спектре поглощения присутствует пик при hν = 0.5 эВ.
Интерес к расположению |
Отражает систему |
атомов вызывается |
связей, существующих |
информативностью |
между частицами, |
характеристики. |
химическое состояние |
Можно пытаться предсказать физ.-хим.свойства поверхностных слоев, их реакцию на появление чужеродных частиц.
Важно, что равновесное расположение атомов определяется особенностями электронной структуры именно в поверхностной области.
Поверхности всех без исключения кристаллических твердых тел имеют упорядоченное расположение атомов практически до Тплавл
Реальная поверхность не идеальна
φ грани (011) вольфрама
Присутствуют дефекты в виде ступеней (1), изломов (2), имеются вакансии (3), атомы в адсорбированном состоянии (4), кластеры (5)
и т.д. Наличие дефектов структуры необходимо.
Это условие термического равновесия системы.
|
æ |
|
ε |
def |
ö |
Ndef |
ç |
- |
|
÷ |
|
|
|
||||
= C expç |
kT |
÷ |
|||
|
è |
|
ø |
||
С - некоторая постоянная,
εdef - энергия образования дефекта
|
ì5,3 |
- 5.4 |
эВ - крупный кристалл |
ϕW |
ï |
- 5,7 |
эВ - острие |
= í5,6 |
|||
|
ï |
|
- острие после ДП |
|
î6,0 |
||
