![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Содержание
- •Тема 1. Введение. Твердое тело. Силы
- •1.1 Введение 9
- •Тема 2. Строение твердого тела 23
- •Тема 3. Дефекты. Роль дефектов в твердом теле 57
- •3.2. Точечные дефекты решетки 57
- •Тема 4. Диаграммы состояния двухкомпонентных
- •Тема 5. Некоторые положения квантовой механики 99
- •Тема 6. Элементы зонной теории твердого тела. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций квантовой механики 119
- •Тема 7. Полупроводники. Собственный полупро-
- •Тема 8 . Размерное квантование и квантово-размер-
- •Тема 9. Основные положения термодинамики, механизмы роста пленок и образование зародышей 192
- •Тема 10. Технология получения, механизмы и режимы роста гетероэпитаксиальных структур 232
- •Тема 11. Методы получения нанообъектов и квантово-размерных структур 267
- •Тема 12. Методы исследования наноматериалов 341
- •Тема 1. Введение. Твердое тело. Силы взаимодействия. Типы связи.
- •1.1. Введение
- •1.2. Твердое тело. Силы взаимодействия. Типы связи.
- •Тема 2. Строение твердого тела. Цели и задачи изучения темы:
- •2.1. Кристалл.
- •2.2. Решетка Бравэ. Трансляция. Элементарная ячейка.
- •2.3.Элементы симметрии.
- •2.4. Группы симметрии. Сингонии.
- •2.5. Плотнейшие упаковки частиц в структурах.
- •2.6. Жидкие кристаллы.
- •2.7.Наночастицы с гранецентрированной решеткой. Кубоктаэдр.
- •Элементы симметрии.
- •Тема 3. Дефекты. Роль дефектов в твердом теле.
- •3.1. Дефекты кристаллических решеток.
- •3.2. Точечные дефекты решетки
- •3.3. Линейные дефекты кристаллической решетки.
- •3.4 Поверхностные дефекты кристаллической решетки.
- •3.5. Объёмные дефекты кристаллической решетки.
- •3.6. Энергетические дефекты кристаллической решетки.
- •3.7. Твёрдые растворы
- •Поверхностные дефекты кристаллической решетки.
- •Тема 4. Диаграммы состояния двухкомпонентных систем.
- •4.1. Типы диаграмм состояния.
- •Тема 5. Некоторые положения квантовой механики.
- •5.1.Возникновение квантовой механики.
- •5.2. Волновая функция ψ. Плотность вероятности.
- •5.3. Соотношение неопределенности Гейзенберга.
- •5.4. Общее уравнение Шредингера. Уравнение Шредингера для стационарных состояний.
- •5.5. Принцип причинности в квантовой механике.
- •5.6. Движение свободной частицы
- •5.7. Частица в одномерной прямоугольной «потенциальной яме» с бесконечно высокими «стенками».
- •5.8. Прохождение частицы сквозь потенциальный барьер. Туннельный эффект
- •5.9. Линейный гармонический осциллятор в квантовой механике.
- •Принцип причинности в квантовой механике.
- •Движение свободной частицы.
- •Тема 6. Элементы зонной теории твердого тела. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций квантовой механики.
- •6.1. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций кванто-вой механики.
- •6.1.1. Современный взгляд на строение и свойства
- •6.1.2. Взгляд на строение атома с позиций квантовой механики.
- •6.2. Элементы зонной теории.
- •6.2.1.Основные положения зонной теории.
- •6.2.2. Волновая функция электрона в периодическом поле.
- •6.2. 3. Зоны Бриллюэна.
- •6.2.4. Методы расчета энергетической структуры кристаллов.
- •6.2.4.1. Приближение сильносвязанных электронов.
- •6.2.4.2. Приближение свободных электронов. Энергетический спектр электронов в прямоугольной потенциальной яме.
- •6.2.4.3. Приближение слабосвязанных электронов.
- •6.2.5. Модель Кронига – Пенни.
- •6.2.6. Заполнение зон электронами. Металлы, диэлектрики, полупроводники.
- •Тема 7. Полупроводники. Собственный полупроводник. Генерация и рекомбинация носителей зарядов. Уровень Ферми. Эффективная масса носителя заряда. Примесный полупроводник. Цели и задачи изучения темы:
- •7.1. Полупроводники.
- •7.2.Собственные и примесные полупроводники. Носители заряда в полупроводниках.
- •7.3. Энергия Ферми.
- •7.4. Генерация и рекомбинация носителей зарядов.
- •7.5. Собственная проводимость полупроводника.
- •7.6. Примесные полупроводники.
- •7.6.1. Примесные уровни.
- •7.6.2. Примесная проводимость полупроводников.
- •7.6.3. Полупроводник р-типа.
- •7 .6.4. Сильно легированный полупроводник. Роль беспорядка в кристалле.
- •7.7. Температурная зависимость проводимости примесных полупроводников.
- •7.8. Дрейфовый и диффузионный токи в полупроводнике.
- •А плотность дырочного дрейфового тока
- •Вопросы для повторения:
- •Резюме по теме:
- •Тема 8 . Размерное квантование и квантово-размерные структуры.
- •8.1. Принцип размерного квантования
- •8.2. Условия наблюдения квантовых размерных эффектов.
- •8.3. Структуры с двумерным электронным газом.
- •8.4. Структуры с одномерным электронным газом (квантовые нити).
- •8.5. Структуры с нуль-мерным электронным газом
- •8.6. Структуры с вертикальным переносом.
- •Тема 9. Основные положения термодинамики, механизмы роста пленок и образование зародышей.
- •9.1. Основные понятия термодинамики.
- •9.2. Три начала термодинамики.
- •9.3. Термодинамические потенциалы.
- •9.4. Термодинамическая теория фазовых равновесий.
- •9.4.1. Термодинамические системы.
- •9.4.2. Условия фазового равновесия.
- •9.4.3. Фазовые переходы.
- •9.5. Принцип локального равновесия.
- •9.6. Самоорганизация систем.
- •9.7. Поверхностные явления.
- •9.7.1. Поверхностная энергия.
- •9.7.2. Поверхностное натяжение.
- •9.7.3. Капиллярные явления.
- •9.7.4. Адсорбция, десорбция и испарение с поверхности.
- •9.8. Массоперенос и ионизация на поверхности.
- •9.8.1. Массоперенос и ионизация на поверхности.
- •9.8.2. Межфазные характеристики.
- •9.9. Механизмы роста пленок на реальных подложках.
- •Тема 10. Технология получения, механизмы и режимы роста гетероэпитаксиальных структур.
- •10.1. Гетерогенные процессы формирования наноструктур
- •10.1.1. Молекулярно-лучевая эпитаксия.
- •10.2. Газовая эпитаксия из металлоорганических соединений.
- •10.3. Метод нанолитографии.
- •10.4. Самоорганизация квантовых точек и нитей.
- •10.4.1. Режимы роста гетероэпитаксиальных структур.
- •10.4.2. Рост наноструктур на фасетированных поверхностях.
- •10.4.3. Трехмерные массивы когерентно-напряженных островков.
- •10.4.4. Поверхностные структуры плоских упругих доменов.
- •1 0.4.5. Структуры с периодической модуляцией состава в эпи-таксиальных пленках твердых растворов полупроводников.
- •1 0.5. Изготовление наноструктур и наноприборов с помощью стм и асм.
- •Тема 11. Методы получения нанообъектов и квантоворазмерных структур.
- •11.1. Коллоидная и золь-гельная технология.
- •11.1.1. Формирование структур на основе коллоидных растворов.
- •11.1.2. Организация и самоорганизация коллоидных структур.
- •11.1.3. Оптические и электронные свойства коллоидных кластеров.
- •11.1.4. Коллоидные кристаллы. Формирование упорядоченных наноструктур.
- •11.1.5. Золь-гель технология.
- •11.1.6. Методы молекулярного наслаивания и
- •11.1.7. Методы получения металлов и диэлектриков.
- •11.2. Методы получения упорядоченных наноструктур. Гетероструктуры.
- •11.2.1. Гетероструктуры – основа получения наноструктур.
- •11.2.2. Формирование полупроводниковых и металлических нановолокон и спиралей.
- •11.2.3 Самоорганизация при эпитаксиальном росте.
- •12.2.3.1. Наногофрированные структуры.
- •11.2.3.2. Самоорганизация гетероэпитаксиальных структур.
- •11.3. Пучковые методы нанолитографии.
- •11.3.1. Литографические методы формирования структур.
- •11.3.2. Оптическая литография.
- •11.3.3. Рентгеновская литография.
- •11.3.4. Электронная литография.
- •11.3.5. Ионная литография.
- •11.3.6. Возможности пучковых методов нанолитографии в наноэлектронике.
- •11.3.7. Нанопечатная литография.
- •11.3.8. Ионный синтез квантовых наноструктур.
- •11.4. Рост на активированных поверхностях. Нановискеры.
- •11.5. Методы зондовой нанотехнологии.
- •11.5.1. Физические основы зондовой нанотехнологии.
- •11.5.2. Контактное формирование нанорельефа.
- •11.5.3. Бесконтактное формирование нанорельефа.
- •11.5.4. Локальная глубинная модификация поверхности.
- •11.5.5. Межэлектродный массоперенос.
- •11.5.6. Локальное анодное окисление.
- •11.5.8. Совместное использование лазера и стм
- •Тема 12. Методы исследования наноматериалов.
- •12.1. Введение.
- •12.2. Методы исследования химического состава поверхности.
- •12.2.1. Масс-спектроскопия.
- •12.2.3. Ионная масс-спектроскопия.
- •12.2.4. Фотоэлектронная спектроскопия.
- •12.2.5. Радиоспектроскопия.
- •12.3. Исследования физической структуры поверхности.
- •12.3.1. Рентгеноструктурный анализ.
- •12.3.2. Рентгеновская спектроскопия и дифракция.
- •1 2.3.2.1. Рассеяние на аморфных и частично упорядоченных объектах. Малоугловое рентгеновское рассеяние.
- •12.3.2.2. Рентгеновская спектроскопия поглощения: exafs, xans, nexafs.
- •12.3.3. Анализ поверхности электронным пучком.
- •12.3.4. Полевая эмиссионная микроскопия.
- •12.3.5. Сканирующая зондовая микроскопия.
- •12.3.5.1. Сканирующая туннельная микроскопия.
- •12.3.5.2. Атомно-силовая микроскопия.
- •12.3.6. Магнито – силовая микроскопия.
- •12.3.7. Электронная микроскопия.
- •12.3.8. Эллипсометрия.
- •12.4. Спектроскопия.
- •12.4.1. Инфракрасная и рамановская спектроскопия.
- •12.4.2. Фотоэмиссия и рентгеновская спектроскопия.
- •12.5. Методы исследования кинетических свойств объема и поверхности наноматериалов и наноструктур.
- •12.5.1. Исследование удельного сопротивления.
- •12.5.2. Диагностика поверхностных состояний.
- •12.5.3. Кинетические параметры.
12.3. Исследования физической структуры поверхности.
Определив состав элементов поверхности, а также присутствующие на поверхности наночастицы, адатома, молекулы необходимо исследовать структуру поверхности.
12.3.1. Рентгеноструктурный анализ.
Рентгеновский структурный анализ представляет собой метод исследования атомного строения вещества по распределению в прост-ранстве интенсивности рассеянного исследуемым образцом рентгеновского излучения.
Широкое применение рентгеновского излучения в физике, химии, технике и медицине обусловлено его волновыми свойствами, а также достаточной простотой его регенерации.
Волновые свойства обеспечивают дифракцию рентгеновского излучения на периодических структурах, проникающую способность, многообразие механизмов взаимодействия излучения с веществами.
В основе рентгеноструктурного анализа лежит явление дифракции рентгеновских лучей на трехмерной структуре кристалла. Рассеяние излуче-ния происходит вдоль определенных направлений, определяемых соотно-шением Брэгга—Вульфа.
Длина волны рентгеновского излучения ≤ 1Ǻ сопоставима с межатомным расстояниями кристаллической структуры. Тут уместна кванто-вая теория рассеяния, однако во времена Лауэ и Брэгга с квантовой теорией еще не были знакомы, и поэтому квантовая электродинамика осталась вне поля зрения практиков рентгеноструктурного анализа, которые до сих пор исповедуют классические представления.
В соответствии с теорией, развитой М. Лауэ и У. Брэггом, атомы в узлах кристаллической решетки представляют собой диагональные гармони-ческие осцилляторы, колеблющиеся под действием рентгеновского пучка и когерентно переизлучающие волну рентгеновского излучения. Вторичные волны интерферируют, усиливая интенсивность излучения в одних направле-ниях и гася его в других. Полученная картина зависит от геометрии располо-жения и рассеивающей способности атомов. В свою очередь, рассеивающая способность атомов определяется электронной плотностью и пропорцио-нальна атомному номеру элемента.
Исходя именно из этих соображений, было расшифровано строение первых кристаллов алмаза и цинковой обманки (ZnS). Эта полуклассическая теория позволила определить координаты атомов с погрешностью 0,005 Ǻ.
Лауэ разработал теорию дифракции рентгеновских лучей на кристал-ле. В соответствии с этой теорией удалось связать длину волны λ с линейными размерами элементарной ячейки а,в,с и углами падающего α0, β0, γ0 и дифрагированного α, β, γ излучения следующими соотношениями:
,
(12.3.1)
,
где h, k, l — целые числа, или кристаллографические индексы.
Уравнения 12.3.1 получили названия уравнений Лауэ. Их смысл том, что разность хода между параллельными лучами, рассеянным атомами в кристаллической решетке, должна быть кратна λ.
У. Брэгг и Г. Вульф показали, что дифракционный рентгеновский пучок несет информацию о системе кристаллографических плоскостей с межплоскостным расстоянием d в соответствии с соотношением
2dsinθ = n λ , (12.3.2)
где θ — угол Брэгга, заключенный между отражающей плоскостью и дифрагирующим пучком.
Рассмотрим некоторые методы рентгеновского структурного анализа.
Метод Лауэ. Простейшим методом получения рентгенограмм крис-таллов является метод Лауэ.
Пусть коллимированный диафрагмами D1 и D2 пучок (диаметром 1 мм) рентгеновского излучения падает на монокристалл (рис. 12.3.1,а).
Р
ентгеновский
луч отражается от различных
кристаллографических плоскостей и
регистрируется в детекторе, например,
фотопленке (РР').
Центром
лауэграммы является точка О, а центром
кристалла является точка К.
ММ'— след
кристаллографической плоскости, a
KL –
отраженный пучок под углом Брэгга θ.
Анализ лауэграммы позволяет найти расположение различных кри-сталлографических плоскостей в пространстве и определить положение основных кристаллографических направлений, или осей, элементарной ячейки.
Метод Лауэ позволяет определить ориентацию монокристаллов и установить их симметрию. Одновременно по лауэграмме судят о степени совершенства кристалла. Пятна лауэграммы у деформированного кристалла расширяются, и по распределению интенсивности излучения в них можно оценить деформацию кристаллов.
Рентгеногониометрические методы. Для полного структурного исследования монокристаллов необходимо определить положение в пространстве и измерить интегральные интенсивности всех дифракционных изображений на заданной длине волны λ.
С этой целью образец нужно ориентировать так, чтобы выполнялись условия уравнения (12.3.1) последовательно для всего семейства кристал-лографических плоскостей образца. Такую возможность дает гониометр — прибор для измерения двугранных углов.
Метод Дебая-Шеррера. Метод исследования поликристаллов, или метод Дебая—Шеррера, основан на использовании дифракции монохро-матического рентгеновского излучения. Рентгенограмма от поликристал-лического образца называется дебаеграммой и представляет собой совокуп-ность концентрических колец. Схема получения дебаеграммы представлена на рис. 12.3.2,а.
К
оллимированный
пучок монохроматического рентгеновского
излу-чения падает на поликристаллический
образец. Дифрагированное излучение
распространяется вдоль образующих
соосных конусов, вершины которых
локализированы на образце – практически,
это «закрученная» вдоль оси пучка
лауэграмма. «Закрутка» обусловлена
произвольной ориентацией отдельных
монокристаллов в поликристаллическом
образце.
Дифрагированное излучение регистрируется на рентгеновской пленке. Дифракционная линия, или линия пресечения дифракционного конуса с фотопленкой, возникает при отражении излучения от одной из систем атомных плоскостей. Угол в связан с условием Брэгга – Вульфа и определяется межплоскостными расстояниями системы атомных плоскостей, формирующих данное отражение.
Определяя углы θ, можно вычислить межплоскостные расстояния в кристаллической решетке образца; эти данные, а также измерение интен-сивностей позволяют определить размеры элементарной ячейки, тип решет-ки, пространственную группу симметрии кристалла. По ширине размытия полос можно определить размеры монокристаллических областей в поликристаллическом образце.
Если вместо фотопленки использовать ионизационный метод реги-страции, то можно получить дифрактограмму (рис. 13.3.2,б). Цифры у дифракционных максимумов указывают на миллеровские индексы.
Исследования по методу Дебая – Шеррера позволяют изучать фазовый состав наноструктурированных материалов, а также структурные изменения под влиянием старения, термической или механической обработ-ки, кинетику рекристаллизации и т. д.
С
реди
других методов рентгеноструктурного
анализа следует упомя-нуть рентгенографию
аморфного вещества, метод малоуглового
рассеяния для структур, во много раз
превышающих длину волны рентгеновского
излучения.
Метод
малоуглового рассеяния применяют для
изучения порис-тых и мелкодисперсных
материалов, сплавов, биологических
объектов.
Отдельной,
весьма трудоемкой задачей рентгеноструктурного
анализа являя-ется анализ атомной
структуры кристаллов.
В эти
исследования входит установление формы
и размеров элементарной ячейки, симметрии
кристалла, координат базисных атомов
структуры.
С этой целью
применяются как уже описанные методы,
так и вычислительные.
Дело в том,
что теория М. Лауэ и У. Брэгга не
позволяет полностью обработать всю
информацию, содержащуюся в рассеянном
рентгеновском пучке. Если измерять
параметры отраженных рентгеновских
пучков с точностью ≈ 1 %, то на
основе квантово-механической
теории функционала плотности, описывающего
электронные свойства вещества, можно
вычислить также электронную плотность
крис-таллического поля, оценить величину
и характер химической связи и т. д. Это
идея метода прецизионного рентгеноструктурного
анализа. В нем используется, например,
дифрактометр с координатным детектором
(рис 12.3.3,а).
В качестве источника рентгеновского излучения используются рентгеновские трубки с молибденовым (λ = 0,71 Ǻ) или серебряным (λ = 0,56 Ǻ) анодом. Результаты измерений необходимо корректировать из-за когерентного и теплового диффузного рассеяния, поляризации, поглощения излучения в образце.
Обработка информации
осуществляется с помощью
электронно-дина-мической модели структуры
кристалла, которая обеспечивает
аналитическое описание электронной
плотности и теплового движения атомов
в кристалле. Распределение электронной
плотности позволяет судить о межатомных
в
заимодействиях
в кристалле.
Валентные электроны слабо связаны с атомными основаниями и распределяются по всему кристаллу. Электронная плотность атомных остовов в кристалле рассчитывается по табулированным атомным волновым функциям, а валентная электронная плотность вычисляется из данных рент-гено-дифракционных измерений.
Н
а
рис. 12.3.4 представлено распределение
валентной электронной плотности в
кубическом перовските SrTi03.
Линии соединяют точки с одинаковой
электронной плотностью в плоскости
(001), проходящей через октаэдр Ti06;
видно, что электроны смещены к атомам
О,
где их плотность выше. Валентная
электронная плотность характеризует
химическую связь Ti—О.
Электронная плотность и заряды ядер
формируют электростатические поля
внутри кристалла.
Метод прецизионного рентгеновского анализа с помощью компью-терного анализа уравнений Пуассона позволяет рассчитать электроста-тический потенциал (рис. 12.3.5).
Зная распределение электростатического потенциала, можно разрабо-тать модель для расчета электронной структуры, а также вычислить энергию взаимодействия частиц в кристалле, выявить структурообразующие факторы, формирующие строение кристалла.
Электростатический потенциал позволяет судить об энергетических свойствах кристаллических структурных каналов, что определяет природу диффузии примесных ионов.
Разные кристаллы фенакита Be2Si04 при одинаковой структуре обладают разными свойствами. Они определяются наличием в структуре кристаллов гексагональных каналов диаметром 4 ÷ 53 Ǻ, которые образу-ются цепочками тетраэдров SiOx. Это дает возможность одни кристаллы использовать в качестве твердых электролитов, другие – для производства люминофоров. Активные вещества – такие, как электролит, люминофор – заполняя эти каналы, придают совокупной структуре собственные свойства в объеме.
На рис. 12.3.5 представлена эквипотенциальная поверхность вдоль гексагонального канала в пределах одной элементарной ячейки Be2Si04. Электрический потенциал в канале имеет однородную область, где отсутствуют условия для локализации примесных атомов или ионов. В таких кристаллах нет препятствий для свободного перемещения по каналу, поэтому кристаллы такого типа будут вести себя как твердые электролиты.
Таковы некоторые иллюстрации современного метода прецизионного рентгеновского анализа.