![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Содержание
- •Тема 1. Введение. Твердое тело. Силы
- •1.1 Введение 9
- •Тема 2. Строение твердого тела 23
- •Тема 3. Дефекты. Роль дефектов в твердом теле 57
- •3.2. Точечные дефекты решетки 57
- •Тема 4. Диаграммы состояния двухкомпонентных
- •Тема 5. Некоторые положения квантовой механики 99
- •Тема 6. Элементы зонной теории твердого тела. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций квантовой механики 119
- •Тема 7. Полупроводники. Собственный полупро-
- •Тема 8 . Размерное квантование и квантово-размер-
- •Тема 9. Основные положения термодинамики, механизмы роста пленок и образование зародышей 192
- •Тема 10. Технология получения, механизмы и режимы роста гетероэпитаксиальных структур 232
- •Тема 11. Методы получения нанообъектов и квантово-размерных структур 267
- •Тема 12. Методы исследования наноматериалов 341
- •Тема 1. Введение. Твердое тело. Силы взаимодействия. Типы связи.
- •1.1. Введение
- •1.2. Твердое тело. Силы взаимодействия. Типы связи.
- •Тема 2. Строение твердого тела. Цели и задачи изучения темы:
- •2.1. Кристалл.
- •2.2. Решетка Бравэ. Трансляция. Элементарная ячейка.
- •2.3.Элементы симметрии.
- •2.4. Группы симметрии. Сингонии.
- •2.5. Плотнейшие упаковки частиц в структурах.
- •2.6. Жидкие кристаллы.
- •2.7.Наночастицы с гранецентрированной решеткой. Кубоктаэдр.
- •Элементы симметрии.
- •Тема 3. Дефекты. Роль дефектов в твердом теле.
- •3.1. Дефекты кристаллических решеток.
- •3.2. Точечные дефекты решетки
- •3.3. Линейные дефекты кристаллической решетки.
- •3.4 Поверхностные дефекты кристаллической решетки.
- •3.5. Объёмные дефекты кристаллической решетки.
- •3.6. Энергетические дефекты кристаллической решетки.
- •3.7. Твёрдые растворы
- •Поверхностные дефекты кристаллической решетки.
- •Тема 4. Диаграммы состояния двухкомпонентных систем.
- •4.1. Типы диаграмм состояния.
- •Тема 5. Некоторые положения квантовой механики.
- •5.1.Возникновение квантовой механики.
- •5.2. Волновая функция ψ. Плотность вероятности.
- •5.3. Соотношение неопределенности Гейзенберга.
- •5.4. Общее уравнение Шредингера. Уравнение Шредингера для стационарных состояний.
- •5.5. Принцип причинности в квантовой механике.
- •5.6. Движение свободной частицы
- •5.7. Частица в одномерной прямоугольной «потенциальной яме» с бесконечно высокими «стенками».
- •5.8. Прохождение частицы сквозь потенциальный барьер. Туннельный эффект
- •5.9. Линейный гармонический осциллятор в квантовой механике.
- •Принцип причинности в квантовой механике.
- •Движение свободной частицы.
- •Тема 6. Элементы зонной теории твердого тела. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций квантовой механики.
- •6.1. Взгляд на строение атома и твердого тела с позиций кванто-вой механики.
- •6.1.1. Современный взгляд на строение и свойства
- •6.1.2. Взгляд на строение атома с позиций квантовой механики.
- •6.2. Элементы зонной теории.
- •6.2.1.Основные положения зонной теории.
- •6.2.2. Волновая функция электрона в периодическом поле.
- •6.2. 3. Зоны Бриллюэна.
- •6.2.4. Методы расчета энергетической структуры кристаллов.
- •6.2.4.1. Приближение сильносвязанных электронов.
- •6.2.4.2. Приближение свободных электронов. Энергетический спектр электронов в прямоугольной потенциальной яме.
- •6.2.4.3. Приближение слабосвязанных электронов.
- •6.2.5. Модель Кронига – Пенни.
- •6.2.6. Заполнение зон электронами. Металлы, диэлектрики, полупроводники.
- •Тема 7. Полупроводники. Собственный полупроводник. Генерация и рекомбинация носителей зарядов. Уровень Ферми. Эффективная масса носителя заряда. Примесный полупроводник. Цели и задачи изучения темы:
- •7.1. Полупроводники.
- •7.2.Собственные и примесные полупроводники. Носители заряда в полупроводниках.
- •7.3. Энергия Ферми.
- •7.4. Генерация и рекомбинация носителей зарядов.
- •7.5. Собственная проводимость полупроводника.
- •7.6. Примесные полупроводники.
- •7.6.1. Примесные уровни.
- •7.6.2. Примесная проводимость полупроводников.
- •7.6.3. Полупроводник р-типа.
- •7 .6.4. Сильно легированный полупроводник. Роль беспорядка в кристалле.
- •7.7. Температурная зависимость проводимости примесных полупроводников.
- •7.8. Дрейфовый и диффузионный токи в полупроводнике.
- •А плотность дырочного дрейфового тока
- •Вопросы для повторения:
- •Резюме по теме:
- •Тема 8 . Размерное квантование и квантово-размерные структуры.
- •8.1. Принцип размерного квантования
- •8.2. Условия наблюдения квантовых размерных эффектов.
- •8.3. Структуры с двумерным электронным газом.
- •8.4. Структуры с одномерным электронным газом (квантовые нити).
- •8.5. Структуры с нуль-мерным электронным газом
- •8.6. Структуры с вертикальным переносом.
- •Тема 9. Основные положения термодинамики, механизмы роста пленок и образование зародышей.
- •9.1. Основные понятия термодинамики.
- •9.2. Три начала термодинамики.
- •9.3. Термодинамические потенциалы.
- •9.4. Термодинамическая теория фазовых равновесий.
- •9.4.1. Термодинамические системы.
- •9.4.2. Условия фазового равновесия.
- •9.4.3. Фазовые переходы.
- •9.5. Принцип локального равновесия.
- •9.6. Самоорганизация систем.
- •9.7. Поверхностные явления.
- •9.7.1. Поверхностная энергия.
- •9.7.2. Поверхностное натяжение.
- •9.7.3. Капиллярные явления.
- •9.7.4. Адсорбция, десорбция и испарение с поверхности.
- •9.8. Массоперенос и ионизация на поверхности.
- •9.8.1. Массоперенос и ионизация на поверхности.
- •9.8.2. Межфазные характеристики.
- •9.9. Механизмы роста пленок на реальных подложках.
- •Тема 10. Технология получения, механизмы и режимы роста гетероэпитаксиальных структур.
- •10.1. Гетерогенные процессы формирования наноструктур
- •10.1.1. Молекулярно-лучевая эпитаксия.
- •10.2. Газовая эпитаксия из металлоорганических соединений.
- •10.3. Метод нанолитографии.
- •10.4. Самоорганизация квантовых точек и нитей.
- •10.4.1. Режимы роста гетероэпитаксиальных структур.
- •10.4.2. Рост наноструктур на фасетированных поверхностях.
- •10.4.3. Трехмерные массивы когерентно-напряженных островков.
- •10.4.4. Поверхностные структуры плоских упругих доменов.
- •1 0.4.5. Структуры с периодической модуляцией состава в эпи-таксиальных пленках твердых растворов полупроводников.
- •1 0.5. Изготовление наноструктур и наноприборов с помощью стм и асм.
- •Тема 11. Методы получения нанообъектов и квантоворазмерных структур.
- •11.1. Коллоидная и золь-гельная технология.
- •11.1.1. Формирование структур на основе коллоидных растворов.
- •11.1.2. Организация и самоорганизация коллоидных структур.
- •11.1.3. Оптические и электронные свойства коллоидных кластеров.
- •11.1.4. Коллоидные кристаллы. Формирование упорядоченных наноструктур.
- •11.1.5. Золь-гель технология.
- •11.1.6. Методы молекулярного наслаивания и
- •11.1.7. Методы получения металлов и диэлектриков.
- •11.2. Методы получения упорядоченных наноструктур. Гетероструктуры.
- •11.2.1. Гетероструктуры – основа получения наноструктур.
- •11.2.2. Формирование полупроводниковых и металлических нановолокон и спиралей.
- •11.2.3 Самоорганизация при эпитаксиальном росте.
- •12.2.3.1. Наногофрированные структуры.
- •11.2.3.2. Самоорганизация гетероэпитаксиальных структур.
- •11.3. Пучковые методы нанолитографии.
- •11.3.1. Литографические методы формирования структур.
- •11.3.2. Оптическая литография.
- •11.3.3. Рентгеновская литография.
- •11.3.4. Электронная литография.
- •11.3.5. Ионная литография.
- •11.3.6. Возможности пучковых методов нанолитографии в наноэлектронике.
- •11.3.7. Нанопечатная литография.
- •11.3.8. Ионный синтез квантовых наноструктур.
- •11.4. Рост на активированных поверхностях. Нановискеры.
- •11.5. Методы зондовой нанотехнологии.
- •11.5.1. Физические основы зондовой нанотехнологии.
- •11.5.2. Контактное формирование нанорельефа.
- •11.5.3. Бесконтактное формирование нанорельефа.
- •11.5.4. Локальная глубинная модификация поверхности.
- •11.5.5. Межэлектродный массоперенос.
- •11.5.6. Локальное анодное окисление.
- •11.5.8. Совместное использование лазера и стм
- •Тема 12. Методы исследования наноматериалов.
- •12.1. Введение.
- •12.2. Методы исследования химического состава поверхности.
- •12.2.1. Масс-спектроскопия.
- •12.2.3. Ионная масс-спектроскопия.
- •12.2.4. Фотоэлектронная спектроскопия.
- •12.2.5. Радиоспектроскопия.
- •12.3. Исследования физической структуры поверхности.
- •12.3.1. Рентгеноструктурный анализ.
- •12.3.2. Рентгеновская спектроскопия и дифракция.
- •1 2.3.2.1. Рассеяние на аморфных и частично упорядоченных объектах. Малоугловое рентгеновское рассеяние.
- •12.3.2.2. Рентгеновская спектроскопия поглощения: exafs, xans, nexafs.
- •12.3.3. Анализ поверхности электронным пучком.
- •12.3.4. Полевая эмиссионная микроскопия.
- •12.3.5. Сканирующая зондовая микроскопия.
- •12.3.5.1. Сканирующая туннельная микроскопия.
- •12.3.5.2. Атомно-силовая микроскопия.
- •12.3.6. Магнито – силовая микроскопия.
- •12.3.7. Электронная микроскопия.
- •12.3.8. Эллипсометрия.
- •12.4. Спектроскопия.
- •12.4.1. Инфракрасная и рамановская спектроскопия.
- •12.4.2. Фотоэмиссия и рентгеновская спектроскопия.
- •12.5. Методы исследования кинетических свойств объема и поверхности наноматериалов и наноструктур.
- •12.5.1. Исследование удельного сопротивления.
- •12.5.2. Диагностика поверхностных состояний.
- •12.5.3. Кинетические параметры.
12.4.2. Фотоэмиссия и рентгеновская спектроскопия.
Фотоэмиссионная спектроскопия (ФЭС) измеряет распределение энергий электронов, вылетающих из атомов и молекул с разным зарядом и в разных энергетических состояниях. Вещество, облучаемое ультрафиолето-выми (УФ) или рентгеновскими фотонами, может испускать электроны, называемые фотоэмиссионными. Они могли находиться на разных энергети-ческих уровнях в атоме и получить кинетическую энергию Еk, равную разности между энергией падающего фотона hvph и ионизационной энергией Eion соответствующего атомного уровня, то есть энергией, необходимой для удаления электрона из своего атома на бесконечность.
(12.4.4)
Схема фотоэлектронного спектрометра представлена на рис. 12.4.7.. Рентгеновский пучок падает на образец (левая нижняя часть рисунка) и выбивает фотоэмиссионные электроны, проходящие через анализатор скоростей, в котором электроны, попавшие в него через левую (входную) щель, только имея скорость в очень узком диапазоне могут находится на траекториях, заканчивающихся на правой (выходной) щели и попадать в детектор, находящийся за ней. Таким образом, детектор измеряет количество испущенных электронов, получивших определенную кинетическую энергию. Для энергий, удовлетворяющих условию 12.4.4, это количество может быть весьма значительным.
В
еличины
потенциалов ионизации энергетических
уровней атомов или молекулярных ионов
в валентной зоне отражают возмущение
уровней отдельных атомов окружающей
решеткой (кристаллическим полем), так
что данные фотоэмиссии несут информацию
об этом поле. Другие родственные методики,
такие как обращенная фотоэмиссионная
спектроскопия (IPS),
изохроматическая спектроскопия
Бремштраллунга (BIS),
спектроскопия потерь энергии электронами
(EELS),
спектроскопия Оже электронов, предоставляют
похожую информацию.
В качестве примера использования рентгеновской фотоэмиссионной спектроскопии можно привести измерение отношения количеств галлия и азота в образце GaN по измерению интенсивности пиков 3d в Ga с энергией 1,1185 кэВ и Is в N с энергией 0,3975 кэВ, что дало средний состав Ga0,95N. Исследование рентгеновской фотоэмиссии 10-нанометровых частиц InP показало асимметричную линию 3d5/2, приведенную на рис. 12.4.8,а, анализ которой позволил обнаружить суперпозицию двух линий. Основная линия на 444,6 эВ относится к индию в InP, а более слабая на 442,7 – к индию в оксиде In2Оэ. Линия 2р фосфора на рис. 12.4.8,б демонстрирует два хорошо разре-шаемых пика, один – от InP, а второй – от разных оксидов фосфора.
П
ереходы
внутренних глубоколежащих электронов
с уровня п1
на
п2
дают частоты,
которые можно оценить по хорошо известной
формуле Ридберга :
,
(12.4.5)
г
де
Z – атомное
число, другие символы имеют свое обычное
значение. Зависимость частоты v
от атомного
числа для линии Кα,
самого нижнего рентгеновского перехода
с п1
= 1 на п2
= 2
(12.4.6)
называется законом Мозли. Множитель (Z-1) появился в числителе вместо Z из-за экранирования заряда ядра одним оставшимся в состоянии п1 = 1 электроном, что понижает эффективный заряд ядра до Z-1. Аналогичное соотношение можно использовать и для следующей по энергии линии Lα, соответствующей переходу между п1 = 2 и п2 = 3.
На рис. 12.4.9 приведен график зависимости v от атомного числа Z экспериментально измеренных линий Кα и Lα для разных элементов периодической системы c Z 15 до Z = 60. Измерения на основе закона Мозли могут обеспечить информацию об атомарном составе наноматериалов почти для всех, за исключением самых легких элементов. Энергии ионизации внешних электронных оболочек атомов в большей степени зависят от количества электронов на незапол-ненных оболочках, чем от атомного номера, как можно видеть на рис. 12.4.10. Эти энергии лежат в видимом или ближнем ультрафиолетовом диапазоне.
В
ысокоэнергетический
фотон способен удалить электрон с любого
уровня атома, энергия ионизации которого
меньше энергии падающего фотона. Когда
энергия фотона становится меньше
максимального потен-циала ионизации,
соответствующего К-оболочке, электроны
с п =
1 более не могут быть удалены, и коэффициент
поглощения рентгеновского излучения
резко падает. Он, однако, не падает до
нуля, так как энергии фотонов все еще
достаточно для возбуждения электронов
с п = 1
на верхние незанятые уровни, такие как
3d
или 4р,
или для
выбивания электронов с L (п = 2),
М(п = 3)
и
других оболочек. Резкое падение
коэффициента поглощения называют краем
поглощения.
В данном случае – это
край К-поглощения. Из анализа относительных
расстояний между энергетическими
уровнями, показанными на рис. 12.4.11,
ясно,
что переходы этого типа по энергиям
близки к энергии ионизации, так что они
определяют то, что называется "тонкой
структурой края поглощения". Она дает
информацию о состоянии связей
рассматриваемого атома. Разрешение
отдельных
переходов в этой тонкой структуре может
быть улучшено при использовании
поляризованного рентгеновского
излучения. Для изучения тонкой структуры
имеется еще несколько родственных
методик спектроскопии поглощения
рентгеновского
излучения.
Д
ругим
способом получения информации о границе
поглощения является спектроскопия
электронных энергетических потерь. Она
заклюю-чается в облучении тонкой пленки
исследуемого вещества моноэнергети-ческим
пучком электронов с энергией, скажем,
170 кэВ. При прохождении сквозь пленку
электроны обмениваются импульсом с
решеткой и теряют энергию при возбуждении
или ионизации атомов. Поглощенная
энергия Eabs
измеряется
с помощью анализатора скоростей
электронов. Эта энергия соответствует
переходам, типа показанных на рис 12.4.11,
и равна разности кинетических энергий
падающего Е0
и рассеянного
Esc
электронов
(12.4.7)
График измеренной интенсивности как функции поглощенной энергии содержит пики при энергиях связи различных электронов в образце. Анало-гом оптических и рентгеновских экспериментов с поляризованным излуче-нием здесь является спектроскопия на разных направлениях изменения импульса Δр рассеянных электронов по отношению к кристаллографическим осям кристалла. Этот вектор Δр играет роль электрического поляри-зационного вектора Е в фотонной спектроскопии. Такая методика позволяет улучшить разрешение пиков поглощения.