- •40.Диференціальні підсильвальні каскади.
- •1. Класифікація твердих тіл за їх електрофізичними властивостями. Модельні уявлення щодо електропровідності твердих тіл. Елементи зонної теорії твердих тіл.
- •Модельні уявлення щодо електропровідності тв. Тіл
- •Елементи зонної теорії тв. Тіл
- •2. Класична теорія електропровідності. Рухомість носіїв заряду, питомий опір та провідність.
- •3. Статистика електронів та дірок в напівпровідниках. Густина квантових станів. Функція розподілу Фермі – Дірака для електронів та дірок.
- •4. Залежність положення рівня Фермі від концентрації домішок та температури в напівпровідниках.
- •5. Дифузійний та дрейфовий струми в напівпровідниках. Рівняння неперервності.
- •6. Напівпровідник у зовнішньому електричному полі. Дебаєвська довжина екранування.
- •7. Модельні уявлення, щодо контакту двох напівпровідників із різними типами провідності. Ефект випрямлення струму на p-n переході.
- •9. Товщина шару об΄ємного заряду p-n переходу. Бар΄єрна та дифузійна ємність p-n переходу. Варікапи, їх характеристики та параметри.
- •10. Контакт вироджених n- та p- напівпровідників. Тунельний діоди, їх характеристики та параметри.
- •11. Пробой p-n-перехода. Стабилитрон.
- •12. Внутрішній фотоефекти. Фотодіоди та фототранзистори, їх характеристики та парметри.
- •13. Контакт метал – напівпровідник. Товщина шару об΄ємного заряду в контакті метал – напівпровідник.
- •14. Ефект випрямлення струму в контакті метал – напівпровідник. Діоди Шотки, їх характеристики та параметри.
- •15. Біполярні транзистори, їх характеристики та параметри.
- •16. Распределение носителей заряда в базе биполярного транзистора. Эффект модуляции толщины базы биполярного транзистора.
- •17. Динамічний режим роботи біполярного транзистора.
- •18. Схемы питания и стабилизации режима работы транзистора
- •21. Виды имс. Методы фотолитографии. Конструктивно-технологічні особливості біполярных имс, мдн- імс та гібридних імс.
- •23. Параллельный Колебательный Контур. Резонанс Токов.
- •24.Связанные контуры. Резонанс в индуктивно связанных контурах.
- •26 Четырехполюсники.
- •27. Електричні кола з розподіленими параметрами.
- •28.Не линейные электрические цепи.
- •29. Методы преобразования цепей
- •30. Методы расчёта сложных цепей. Метод Сигнальных графов
- •31. Переходные процессы в rc-цепях.
- •32. Переходные процессы в rl-цепях
- •33.Переходные процессы в rlc цепях
- •34.Операторный метод анализа переходных процессов.
- •35. Спектральный метод ряд фурье и его свойства.
- •36.Классификация усилителей. Основные хар-ки и параметры усилителей,
- •37. Классы усиления.
- •38. Усилитель низкой частоты
- •39. Обратные связи в усилителях.
- •40. Дифференциальные усилительные каскады
- •41. Выходные каскады усиления, характеристики и параметры.
- •46. Чм и фм –модуляция колебания.
- •45. Амплитудная модуляция
- •47. Детектирование сигналов. Детектор.
- •49. Мінімізація логічних пристроїв. Мінімізація із застосуванням карт Вейча.
- •50. Комбінаційні логічні пристрої. Типові функціональні вузли цифрових комбінаційних логічних пристроів
- •51.Перетворювачі кодів. Дешифратори.
- •52.Цифрові компаратори
- •53. Синхронний rs-тригери
- •57. Регістри
- •58. Лічильники
- •59. Дискретизация непрерервних сигналiв
- •60. Квантование сигналов
- •61.Фурье перетворення дискретных сигналiв
- •62. Алгоритми швидкого перетворення Фурьє
- •64. Рекурсивные и нерекурсивные фильтры
- •65 Методи синтезу цифрових фільтрів з нескінченною імпульсною характеристикою. Метод білінійного z-перетворення.
- •67.Ефекти кванування в цифрових фільтрах.
- •68. Явище епр. Тонка, надтонка та спер надтонка структура спектрів епр.
- •69. Форма ліній епр. Однорідне та неоднорідне розширення ліній епр.
- •71. Явище ямр. Ямр в рідинах та твердому тілі.
- •73.Двойные резонансы.
- •76. Отрицательные температуры и отрецательный коефициент поглощения.
- •79. Физические принципы лежащие в основе построения модуляторов лазерного излучения. Типы модуляторов.
3. Статистика електронів та дірок в напівпровідниках. Густина квантових станів. Функція розподілу Фермі – Дірака для електронів та дірок.
Для определения числа частиц, необходимо знать число квантовых состояний и вероятность нахождения частиц в этих состояниях. Следовательно, для определения концентрации носителей заряда в п∕п необходимо знать фактическое число состояний, занятых электронами и дырками.
Пусть в кристалле единичного объема в интервале энергий от Е до Е + dE имеется dZ квантовых состояний (с учетом спина). Обозначим через N (Е) плотность состояний, т. е. число состояний в единичном интервале энергии для единичного объема кристалла. Тогда согласно определению: N(E)=dZ∕dE (1).
Если вероятность заполнения состояний с энергией Е равна f (Е, Т), то число электронов dn, находящихся в состояниях dZ, составит величину
dn= f(E,T)dZ= f(E, T)N(E)dE (2)
Найдем выражение для плотности квантовых состояний в случае, когда поверхности равной энергии З.П. и В.З. являются сферами. Определим плотность состояний у нижнего края З.П. Энергия электронов у дна зоны может быть записана в виде
(3)
где Ес = Е (р0) - энергия электрона у дна
З.П; mn*- эффективная масса электрона.
Рис.1. Объем слоя в зоне Бриллюэна.
Выделим шаровой слой, заключенный между двумя изоэнергетическими поверхностями, соответствующими энергии Е(р) = const и Е(р) + dE = const (рис. 1). Объем этого слоя составляет величину: dVp=4πp²dp (4)
В каждой ячейке могут находиться два електрона с противоположно направленными спинами. С учетом этого число состояний в объеме dVp равно:
(5)
Исходя из равенства (3)
(6)
Откуда
(7)
Подставив (5), (6), (7) в соотнош. (1):
(8)
Определим плотность состояний вблизи верхнего края В. З. Для энергии дырок:
(9)
Здесь Еv = Е(р0)-энергия дырки у потолка В.З.; mp*- эффективная масса дырки. Из расчетов, аналогичных проделанным выше, будем иметь:
(10)
Т.е., если энергия носителей заряда является квадратичной функцией квазиимпульса, то плотность состояний N(Е) имеет зависимость от энергии вида (Е— Ес)1/2 или (Еv — Е) 1/2. Следовательно, выраж. (8) и (10) справедливы только для состояний вблизи экстремума энергии, т. е.у дна и потолка зоны.
Подсчитаем теперь плотность квантовых состояний для случая сложной зоны проводимости. Поскольку pox=poy=poz=0,a E(po)=Ec, то
(11)
где- 1∕m1,1∕m2, 1∕m3 –диагональные компоненты тензора обратной эффективной массы. Изоэнергетические поверхности в этом случае представляют собой эллипсоиды, уравнение кот. в канонической форме имеет вид:
(12)
Объем эллипсоида с полуосями a, b, c равен:
Объем слоя заключенного между двумя эллипсоидами равной энергии Е=const и E+dE=const, будет:
(14)В объеме dVp с учетом спина заключено следующее кол-во квантовых состояний:
(15)
Поэтому выраж. для плотности состояний у дна сложной З.П. примет вид:
Если положить m1m2m3=mdn*³ , где mdn* - эф. масса плотности состояний для электронов. При этом, как и для простой зоны получим:
(17)
Плотность состояний для кремния и германия. Для кремния m1=m2 (18)
Изоэнергетические поверхности обеих зон можно заменить одной приведенной сферой с плотностью состояний:
Для Ge выраж. (17).
Ф-ція розподілу Фермі-Дірака для електор. та дірок. Для определения числа частиц, имеющих энергию в заданном интервале, нужно знать ф-цию распределения f(E). В условиях теплового равновесия для частиц с полуцелым спином,подчиняющихся принципу Паули, справедливо распределение Ферми-Дирака:
где k — постоянная Больцмана; Т — абсолютная тем-ра; F — энергия Ферми или химич. потенциал, т. е. работа, кот. необходимо затратить для изменения числа частиц в системе на единицу. Рассмотрим вид ф-ции распред. Ферми-Дирака при различных тем-рах. Из соотнош. (1) видно, что в случае Т=0 в интервале энергии 0≤Е<F имеем fo=1 и fo=0 для Е>F. Это означает, что все квантовые состояния с энергией, меньшей энергии Ферми, заняты электронами, а уровни, лежащие выше уровня. Ферми, полностью свободны, не заняты электронами. Следоват., энергия Ферми есть максимально возможная энергия электронов в металле при т-ре абсол. нуля.
Рассмотрим случай, когда Т>0. Из выраж (1) для знач. энергии, равной знач. энергии Ферми (Е=F), имеем fo =1∕2.Т.о., ур. Ферми есть энергетический уровень, вероятность заполнения кот. при т-ре, отличной от абсол. нуля, равна 0,5. Вероятность заполнения состояний заметно отличается от единицы или нуля лишь в пределах (2÷3) kT вблизи значения Е = F (рис. 1).
Рис.1. Вид ф-ции распределения Ф-Д.
Ф-ция распред. Ферми-Дирака хар-т вероятность заполнения данного квантового состояния электроном. Вероятность того, что при тепловом равновесии в состоянии с энергией Е электрон отсутствует, т.е. оно занято дыркой, будет равно:
Следовательно, функция распределения для дырок аналогична функции распределения для электронов, если отсчитывать энергию дырок от уровня Ферми в противоположную сторону по сравнению с направлением отсчета энергии для электронов.
Для электронов, находящихся в состояниях с энергией E—F > kT, выражение для f0 принимает вид:
т. е. совпадает с ф-цией распределения Максвелла-Больцмана для частиц, подчиняющихся классическим законам.