- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
Заключение
В настоящем учебном пособии авторами рассмотрены основные физические процессы, положенные в основу принципа действия большинства электронных приборов. Кратко, но в необходимом для понимания дальнейшего материала объеме изложены базовые положения квантовой механики и зонной теории твердого тела.
Основное внимание уделено электропроводности полупроводниковых материалов, процессам образования свободных носителей заряда в полупроводниках и контактным явлениям в контактах различной структуры. Рассмотрена методика расчета концентраций носителей заряда в собственных и примесных полупроводниках и положения уровня Ферми.
Кроме того, учебное пособие дает представление об основных видах пробоя в полупроводниках, поверхностных явлениях, кинетических и термодинамических явлениях. Кратко рассматриваются основы фотопроводимости полупроводников.
Библиографический список
Пасынков В.В. Полупроводниковые приборы / В.В. Пасынков Л.К. Чиркин – СПб. : Лань, 2002.
Петров К.С. Радиоматериалы, радиокомпоненты и электроника /
К.С. Петров – СПб. : Питер, 2006.
Старосельский В.И. Физика полупроводниковых приборов микроэлектроники / В.И. Старосельский – М. : ЮРАЙТ, Высшее образование, 2009.
Толмачев В.В. Физические основы электроники / В.В. Толмачев,
Ф.В. Скрипник – М. – Ижевск : НИЦ «Регулярная и хаотическая динамика», 2009.
Шалимова К.В. Физика полупроводников / К.В. Шалимова – М. : Лань, 2010.
Оглавление
Введение 3
1.Физические основы строения материалов 4
1.1. Квантово-механическая теория строения атома 4
1.2. Волновое уравнение электронов 10
1.3. Электронная конфигурация атомов 12
2. Строение твердого тела 16
2.1. Химическая связь в молекулах 16
2.2. Агрегатные состояния вещества 18
2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка 19
2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел 23
2.5. Химические связи в кристаллах 24
2.6. Электронные состояния твердых тел 26
2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники 28
с точки зрения зонной теории 28
3. Электропроводность полупроводников 31
3.1. Собственные полупроводники 31
3.2. Статистика свободных носителей заряда 34
3.3. Эффективная масса электрона 36
3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике 37
3.5. Примесные полупроводники 39
3.6. Рекомбинация носителей заряда 43
3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике 46
3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс) 50
3.9. Электрический ток в полупроводниках 50
3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов 52
4. Контактные явления в полупроводниках 56
4.1. Неоднородный полупроводник одного типа 56
электропроводности 56
4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия 59
4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия 64
65
4.4. Расчет концентраций носителей заряда 65
в электронно-дырочном переходе 65
4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием 67
внешнего напряжения 67
4.6. Толщина р-n перехода 71
4.7. Методика определения параметров р-п перехода 74
4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода 80
4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах 83
4.10. Емкости p-n перехода 85
4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности 89
4.12. Работа выхода 90
4.13. Контакт металл – полупроводник 91
4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода 94
4.15. Гетеропереходы 103