- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
3.7.1. Донорный полупроводник
Рассмотрим полупроводник п-типа. Электроны в зоне проводимости появляются за счет перехода как с примесных уровней, так и из валентной зоны. Чтобы узнать количество электронов, перешедших в зону проводимости с примесных уровней, необходимо из общего количества электронов, которое могут отдать все доноры, вычесть количество электронов, оставшихся на примесных уровнях.
.
Здесь Nd – плотность состояний донорных уровней, которая определяется концентрацией доноров, Wd – донорный энергетический уровень; WFn – уровень Ферми в полупроводнике п-типа.
При низких температурах и единицей в последнем выражении можно пренебречь, тогда вероятность распределения электронов по энергиям можно определить по статистике Максвелла – Больцмана, и концентрация электронов, поставляемых в зону проводимости примесными атомами, определится выражением
.
При низких температурах можно пренебречь также и переходами электронов из валентной зоны в зону проводимости и считать, что все электроны проводимости перешли с донорных уровней. Тогда пп = ппр, или
= .
Разделив переменные, получим выражение
.
Отсюда определим положение уровня Ферми:
.
И з этого выражения видно, что при температуре абсолютного нуля Т = 0 уровень Ферми лежит посередине между донорным уровнем и дном зоны проводимости (рис.3.5).
Подставляя выражение для энергии Ферми в выражение для концентрации электронов, получим:
,
или .
Здесь ΔWак = WC – Wd – энергия активации примеси.
С ростом температуры концентрация электронов в зоне проводимости будет возрастать до тех пор, пока все примеси не будут ионизованы, тогда концентрация электронов в зоне проводимости станет равна концентрации доноров
.
В этом случае положение уровня Ферми определится выражением
.
При дальнейшем повышении температуры начинается ионизация собственных атомов. При этом возрастает концентрация дырок, и когда она превысит концентрацию доноров, собственная электропроводность станет преобладать над примесной, полупроводник становится собственным и уровень Ферми смещается к середине запрещенной зоны.
3.7.2. Акцепторный полупроводник
Проводя аналогичные рассуждения для полупроводника р-типа, увидим, что концентрация дырок в валентной зоне, обеспечиваемая примесями, определится выражением
.
При низких температурах для дырок справедливо соотношение
,
где Na – концентрация акцепторных примесей; Wa –энергия акцепторного уровня; WFp – уровень Ферми в полупроводнике р-типа.
Положение уровня Ферми определится выражением
.
И з полученного выражения следует, что при абсолютном нуле температуры уровень Ферми расположен посередине между акцепторным уровнем и потолком валентной зоны (рис. 3.6).
С повышением температуры все акцепторы ионизуются и концентрация дырок становится равной концентрации акцепторов:
.
Отсюда положение уровня Ферми
.
При дальнейшем повышении температуры возрастает собственная электропроводность и уровень Ферми смещается к середине запрещенной зоны.