- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
7.1. Природа фотопроводимости
Явлением фотопроводимости называется уменьшение удельного сопротивления вещества под воздействием электромагнитного излучения. Фотопроводимость связана с квантовой природой света. Если полупроводник облучать светом, энергия фотона которого равна W = hf = 1,23/λ, то в собственном полупроводнике она затрачивается на образование электронно-дырочных пар за счет переброса электронов из валентной зоны в зону проводимости.
Для того чтобы могла образоваться электронно-дырочная пара, необходимо, чтобы энергия кванта была не меньше ширины запрещенной зоны, то есть была бы достаточной для возбуждения электрона с самого верхнего уровня валентной зоны на самый нижний уровень зоны проводимости. Зависимость фотопроводимости от длины волны показана на рис. 7.1.
П ороговую длину волны λп можно определить, экстраполировав круто спадающий участок, то есть по длинноволновому краю фотопроводимости. По этой длине волны можно найти граничную энергию фотоэффекта, а, соответственно, и ширину запрещенной зоны. Так как запрещенная зона различных полупроводников имеет ширину от нескольких десятых до двух-трех электрон-вольт, то фотопроводимость может наблюдаться в инфракрасной, видимой и ультрафиолетовой областях спектра.
При длинах волн короче пороговой фотопроводимость определяется возбуждением электронов с более низких уровней валентной зоны на более высокие уровни зоны проводимости. Наличие «хвоста», то есть небольшой фотопроводимости при длинах волн длиннее пороговой можно объяснить двумя физическими явлениями:
1) отдельные электроны могут оказаться под суммарным воздействием энергии фотонов и энергии тепловых колебаний кристаллической решетки, тогда эти электроны перейдут в возбужденное состояние при более низких энергиях фотона;
2) ширина запрещенной зоны не является абсолютно постоянной величиной и подвержена флуктуациям, так как тепловые колебания решетки приводят к колебаниям мгновенной величины локальной плотности в объеме кристалла и, следовательно, к изменениям мгновенных расстояний между атомами. Фотон с энергией, hf < ΔW, поглощенный в том месте объема кристалла, где величина запрещенной зоны меньше средней, возбуждает пару электрон – дырка.
Таким образом, «хвост» имеет тепловую природу, его величина составляет порядка kТ.
В области малых длин волн наблюдается спад фотопроводимости. Это объясняется быстрым увеличением коэффициента поглощения с частотой и уменьшением глубины проникновения падающей электромагнитной энергии. Поглощение происходит в тонком поверхностном слое, где и образуется основное количество носителей заряда. Появление большого количества носителей заряда только у поверхности слабо отражается на проводимости всего объема полупроводника, потому что скорость поверхностной рекомбинации больше, чем объемной, а также потому, что проникающие внутрь неосновные носители заряда увеличивают скорость рекомбинации в объеме полупроводника.
Рассмотрим механизм поглощения электромагнитного излучения.
Н а рис. 7.2 показана зависимость коэффициента поглощения энергии от длины волны.
Возрастающий участок при малых длинах волн соответствует поглощению света с образованием пары электрон – дырка и появлением фотопроводимости. Спадающий участок кривой – переходная область, соответствует длинноволновому порогу фотопроводимости. Вновь возрастающий участок в длинноволновой части спектра связан с поглощением свободными носителями заряда.
К вантовая механика установила, что существуют определенные правила отбора при фотоэлектрических переходах электронов из одной энергетической зоны в другую. Электрон и оставляемая им дырка должны иметь в момент образования равные импульсы. Энергия и импульс дырки измеряются вниз от верхнего уровня валентной зоны, а для электрона – вверх от нижнего уровня зоны проводимости. Закон сохранения импульса требует, чтобы при образовании пары электрон и дырка занимали уровни, симметричные относительно соответствующих границ зон (переходы 1 на рис. 7.3).
Переходы, запрещенные правилом отбора (переход 2 на рис. 7.3), встречаются, но их вероятность будет тем меньше, чем сильнее отступление от правила отбора.
Оптическое поглощение при длинах волн, соответствующих энергиям возбуждения донорных и акцепторных примесей, наблюдается в некоторых полупроводниках с большой концентрацией примесей и при таких низких температурах, при которых примеси термически не ионизированы.
У некоторых полупроводников наблюдается большое поглощение в области длин волн, где энергия квантов достаточна для образования электронно-дырочных пар, но заметной фотопроводимости при этом не наблюдается. Предполагается, что в этом случае время жизни образовавшихся носителей мало, они сразу же рекомбинируют и не вносят вклад в проводимость полупроводника.
Частотная зависимость поглощения может смещаться в сторону длинных волн из-за образования экситонов.
Экситон – это система, состоящая из взаимосвязанных собственными электростатическими полями электрона и оставленной им дырки. Он напоминает атом водорода, в котором роль ядра играет дырка. Электростатическое поле дырки обусловливает наличие ряда дискретных энергетических уровней, из которых некоторые могут оказаться в запрещенной зоне полупроводника.
Из приведенной энергетической диаграммы (рис. 7.4) видно, что экситон может быть образован фотоном с энергией, недостаточной для переноса электрона в зону проводимости. Экситонное состояние может блуждать по кристаллу, передаваясь от одного атома к другому. При этом первый атом переходит в нормальное невозбужденное состояние.
Так как экситон представляет собой в целом нейтральное сочетание электрона с дыркой, то наложение слабого внешнего электрического поля не способно нарушить связь между ними и не влияет на хаотическое движение экситонов по кристаллу, следовательно, не создает электрического тока. Экситон при столкновении с примесными атомами может либо разорваться с образованием двух носителей заряда электрона и дырки, либо рекомбинировать и перевести атом в невозбужденное состояние. Первое требует сообщения экситону тепловой энергии, необходимой для перевода электрона с экситонного уровня в зону проводимости, второе сопровождается либо излучением кванта энергии, либо обычно отдачей энергии экситона решетке полупроводника в виде тепла.