- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
3.3. Эффективная масса электрона
Пусть электрон движется в периодическом поле кристалла под действием внешнего поля напряженностью Е. Как и в том случае, когда электрон находится в свободном пространстве, это поле действует на электрон, находящийся в периодическом поле, с силой , направленной против действия поля.
Для электрона в свободном пространстве характер движения определяется только этой силой. На электрон, находящийся в периодическом поле, кроме внешней силы, действуют более мощные внутренние силы, создаваемые полем кристалла. Поэтому результирующее движение электронов в кристалле является более сложным, чем движение электронов в свободном пространстве.
Связь между ускорением, с которым движется электрон в периодическом поле кристалла под действием внешней силы F, и действующей силой выражается вторым законом Ньютона:
,
где W – работа, которая совершается внешней по отношению к кристаллу силой, действующей на электрон, в течение некоторого времени t; k – волновое число, которое связано с импульсом частицы и постоянной Планка соотношением:
.
Из этой формулы следует, что под действием внешней силы F электрон в периодическом поле кристалла движется в среднем так, как двигался бы свободный электрон, если бы он обладал массой
,
которая называется эффективной массой электрона. Таким образом, приписывая электрону, находящемуся в периодическом поле кристалла, массу тп*, можно описывать его движение во внешнем поле так же, как и движение обычного электрона в свободном пространстве.
3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
Для определения концентраций свободных носителей заряда в собственном полупроводнике воспользуемся соотношениями, выведенными в курсе квантовой механики. Концентрация электронов dn в некотором элементарном диапазоне энергий dW с плотностью энергетических уровней S(W) пропорциональна произведению общего числа энергетических уровней S(W)dW в этом диапазоне на вероятность их заполнения fn(W). Концентрацию электронов в зоне проводимости можно найти, интегрируя по всем энергетическим уровням, занятым электронами
.
Здесь WCk – энергия k-го уровня в зоне проводимости. Плотность энергетических уровней S(W) – это число разрешенных состояний, приходящихся на единичный интервал энергий в единичном объеме кристалла. В квантовой механике доказывается, что
.
Для невырожденных полупроводников можно для определения вероятности распределения электронов по энергиям можно воспользоваться статистикой Максвелла – Больцмана
.
Подставляя под интеграл выражения для плотности энергетических уровней свободной зоны и вероятность нахождения электрона на некотором определенном уровне в этой зоне, проинтегрируем от уровня, соответствующего дну свободной зоны WC до некоторого k-го уровня в свободной зоне
.
В зоне проводимости электронами заполнены самые нижние энергетические уровни, вероятность заполнения верхних уровней практически равна нулю. С другой стороны, вероятность заполнения электроном бесконечно удаленного уровня тоже равна нулю, поэтому верхний предел интегрирования без большой погрешности можно заменить на бесконечность:
.
Введем обозначение
, (3.1)
где NC – эффективная плотность состояний в зоне проводимости, приведенная ко дну зоны проводимости WC. Тогда концентрация электронов в зоне проводимости определится соотношением
.
Аналогично можно определить концентрацию дырок:
, где . (3.2)
NВ – эффективная плотность состояний в валентной зоне, приведенная к потолку валентной зоны WВ.
Найдем положение уровня Ферми. В собственном полупроводнике концентрации электронов и дырок равны п = р, следовательно,
= .
Преобразуем это выражение
.
Прологарифмируем последнее выражение
.
Отсюда положение уровня Ферми в собственном полупроводнике определится выражением
.
С учетом выражений (3.1) и (3.2) получим
. (3.3)
Здесь – середина запрещенной зоны.
Из выражения (3.3) следует, что при равенстве эффективных масс электронов и дырок уровень Ферми в собственном полупроводнике расположен посередине запрещенной зоны, а при незначительно смещается относительно центра зоны.
Обозначим собственную концентрацию носителей заряда ni . Поскольку в собственном полупроводнике п = р = пi, то
.
Здесь ΔWЗ = WC – WВ – ширина запрещенной зоны. Отсюда собственная концентрация носителей заряда определится выражением
.