- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
Рассмотрим изолированные полупроводники р- и п-типа. В отсутствие контакта энергетические зоны в полупроводниках p- и n-типа распределены так, как показано на рис. 4.8. То есть в n-полупроводнике уровень Ферми смещен в сторону свободной зоны, а в р-полупроводнике в сторону валентной.
Поскольку потенциальная энергия электрона и потенциал связаны соотношением , образование нескомпенсированных объемных зарядов вызывает понижение энергетических уровней n-области и повышение энергетических уровней р-области. Смещение энергетических диаграмм прекратится, когда уровни Ферми WFn и WFp совпадут. При этом на границе раздела при x = 0 уровень Ферми проходит через середину запрещенной зоны. Это означает, что в плоскости сечения x = 0 полупроводник характеризуется собственной э лектропроводностью и обладает по сравнению с остальным объемом повышенным сопротивлением. В связи с этим его называют запирающим слоем.
Совпадение уровней Ферми n- и p-областей соответствует установлению динамического равновесия между областями и возникновению между ними потенциального барьера для диффузионного перемещения через p-n переход электронов n-области и дырок p-области.
Е сли создать электронную и дырочную области в одном монокристалле, то при термодинамическом равновесии и в отсутствие внешнего поля уровень Ферми будет общим для всего полупроводника и располагаться внутри запрещенной зоны. На границе раздела п- и р-областей, где n = p = ni, уровень Ферми проходит через середину запрещенной зоны. Поскольку в полупроводнике п-типа уровень Ферми смещен в сторону зоны проводимости, а в полупроводнике р-типа – в сторону валентной зоны, то энергетические уровни в электронно-дырочном переходе будут искривляться (рис. 4.9).
Из рис. 4.9 видно, что середины запрещенных зон в п- и р-областях отличаются на величину потенциального барьера. Отсюда легко определить величину потенциального барьера, который, как видно из рисунка, равен сумме расстояний середин запрещенных зон п- и р-областей от уровня Ферми.
Из энергетической диаграммы видно, что высота потенциального барьера определяется энергетическим интервалом между собственными уровнями Ферми в р- и п-областях
. (4.3)
Концентрации электронов и дырок в п- и р-областях можно выразить через концентрацию собственных носителей заряда:
; .
Отсюда можно выразить энергию Ферми для п- и р-областей полупроводника:
;
.
Подставим полученные выражения в уравнения (4.3)
.
В соответствии с законом действующих масс
получим
.
Контактная разность потенциалов определится выражением
.
Обратим внимание, что по оси ординат отложена энергия для электрона (отрицательного заряда), тогда как потенциал характеризует энергию положительного заряда, именно поэтому кривые для потенциала и энергии электронов взаимно обратные.
4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
При строгой количественной оценке явлений в электронно-дырочном переходе все процессы необходимо рассматривать в трехмерном пространстве. Однако для идеального перехода, для которого текущие нормально к плоскости перехода токи значительно превышают тангенциальные, можно использовать одномерную задачу.
Рассмотрим распределение носителей заряда в электронно-дырочном переходе (рис. 4.10).
Плотность диффузионных токов в переходе, как выяснили ранее, определяется выражениями:
– для дырок, – для электронов. (4.4)
Плотности дрейфовых токов в электрическом поле, соответственно:
; . (4.5)
Коэффициенты диффузии и подвижности носителей заряда связаны между собой соотношением Эйнштейна:
.
Выражая отсюда μп и μр и подставляя эти соотношение в выражения (4.5), получим:
; .
Поскольку в равновесном состоянии диффузионный и дрейфовый токи электронов и дырок уравновешивают друг друга, то есть выполняются соотношения: jnD = –jnE, jpD = –jpE., то с учетом выведенных соотношений уравнение (4.3) для электронов перепишется в следующем виде:
→ ,
и аналогично для дырок
→ .
Проинтегрируем эти соотношения по ширине перехода в пределах от хп до хр (см. рис. 4.10), учитывая, что концентрация электронов при переходе из n-области в р-область меняется от nn0 до np0, а дырок, соответственно от pn0 до pp0.
или ,
отсюда .
При выводе этих выражений мы учли, что интеграл от напряженности электрического поля представляет собой разность потенциалов между точками и , то есть контактную разность потенциалов –
.
Величину φТ = kT/e0 называют тепловым или температурным потенциалом.
Соответственно для дырок будем иметь:
или ,
отсюда
или .
Полученные выражения показывают соотношения между концентрациями неосновных и основных носителей в зависимости от высоты потенциального барьера.