- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
4.7.3. Анализ идеализированного диода
Процессы, протекающие в полупроводниковом диоде при подаче на него внешнего напряжения, весьма сложны. Поэтому для количественного анализа вольтамперной характеристики (ВАХ) диода необходимо сделать некоторые упрощающие предположения.
Положительное напряжение вызывает инжекцию электронов из эмиттера в базу и дырок из базы в эмиттер, в результате чего концентрации неосновных носителей заряда в базе и эмиттере вблизи перехода увеличиваются. При этом нейтральность базы и эмиттера нарушается, и возникающее электрическое поле втягивает из контактов в базу дырки, а в эмиттер – электроны. В результате электрическая нейтральность базы и эмиттера восстанавливается практически полностью (имеет место «квазинейтральность» базы и эмиттера). Условия квазинейтральности базы и эмиттера имеют вид:
;
.
Будем считать, что площадь поперечного сечения диода постоянна в направлении оси х, тогда полная плотность тока, которую можно определить как сумму электронной и дырочной составляющих, не будет зависеть от координаты х
.
Механизмами переноса электронов и дырок являются диффузия и дрейф:
;
.
Если эмиттер и база легированы однородно (Nэ(x) = const, Nб(x) = const), то в состоянии равновесия напряженность поля Е0 вне перехода равна нулю. При положительном напряжении на диоде поле вне перехода связано с омическими сопротивлениями областей эмиттера и базы и направлено против оси х. Поскольку удельное сопротивление квазинейтральных областей эмиттера и базы весьма малы по сравнению с удельным сопротивлением перехода, поля в эмиттере и базе малы.
Если приложенное к диоду напряжение не слишком велико, концентрации неосновных носителей в базе и эмиттере во много раз меньше, чем основных (низкий уровень инжекции). Дрейфовые токи неосновных носителей при этом много меньше, чем дрейфовые токи основных носителей и, следовательно, много меньше полного тока через диод. В то же время ввиду условий квазинейтральности градиенты концентраций основных и неосновных носителей в каждой точке эмиттера и базы одинаковы и диффузионные токи имеют одинаковый порядок величины. Поэтому токи неосновных носителей заряда в квазинейтральных областях могут считаться чисто диффузионными:
, ;
, .
Приложенное к диоду напряжение UD складывается из падений напряжения на р-n переходе U и на квазинейтральных областях эмиттера и базы
.
Если ток через диод не слишком велик, основная часть U полного напряжения UD падает на переходе, так как области базы и эмиттера имеют значительно меньшее удельное сопротивление.
Изменения дырочного и электронного токов в области перехода могут быть связаны только с нарушением равновесия процессов термогенерации и рекомбинации носителей заряда в переходе. Поскольку электроны и дырки рекомбинируют и генерируются парами, должны выполняться равенства
; ,
где jg r – плотность тока, связанного с генерацией и рекомбинацией электронно-дырочных пар в переходе. Если ширина перехода достаточно мала, ток jg r много меньше полного тока через диод.
С учетом изложенных соображений модель идеализированного диода основана на следующих допущениях.
Поперечные размеры диода много больше продольных (в направлении оси х), в результате чего задача может считаться одномерной (величины p, n, jp, jn зависят только от координаты х).
Эмиттер и база легированы однородно.
Падением напряжения на квазинейтральных областях базы и эмиттера можно пренебречь: UD = U.
Приложенное к переходу напряжение не слишком велико, так что уровень инжекции в базе (и, тем более, в эмиттере) можно считать низким:
;
.
При низком уровне инжекции дрейфовые токи неосновных носителей малы, а напряженности электрического поля в квазинейтральных областях базы и эмиттера можно считать равными нулю.
Токами генерации и рекомбинации носителей заряда в области перехода можно пренебречь.