- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
6.1. Эффект Холла
Рассмотрим полупроводник с одним типом носителей заряда (рис.6.1).
Е сли поместить пластину из полупроводника с одним типом носителей заряда, например, с электронами, во внешнее поперечное магнитное поле с магнитной индукцией В и пропустить вдоль нее ток I, то вследствие смещения движущихся носителей заряда (электронов) к одной из граней пластины, возникает поперечная ЭДС ux, которую называют ЭДС Холла. Направление смещения носителей определяется по правилу левой руки: если расположить ладонь левой руки так, чтобы линии магнитной индукции входили в ладонь, а четыре пальца были направлены по направлению тока, то большой палец покажет направление смещения зарядов. Как видно из рис. 6.1, изменение типа электропроводности меняет и знак ЭДС, так как носители разных знаков смещаются к одной и той же грани полупроводника.
Смещение носителей заряда в поперечном поле полупроводника прекратится, когда сила Лоренца уравновесится силой возникшего поперечного электрического поля сместившихся зарядов
е0vB = е0Ex,
где v – средняя скорость направленного движения носителей, В – магнитная индукция, Ех – напряженность поперечного электрического поля.
Площадь поперечного сечения пластины
S = dh,
где d – ширина пластины, h – толщина.
Учитывая, что ток, протекающий по полупроводнику, определяется выражением
,
найдем скорость упорядоченного движения электронов:
.
Отсюда определим поперечную напряженность поля
.
Считая электрическое поле однородным, можно определить ЭДС Холла:
, или .
Коэффициент называется коэффициентом Холла.
Для электронного полупроводника коэффициент Холла отрицателен. Для дырочного полупроводника отличие будет только в знаке (направлении) напряженности поля.
Полученное значение коэффициента Холла справедливо только в том случае, когда можно не учитывать распределение электронов по скоростям. В противном случае необходимо учитывать коэффициент А, который для различных полупроводников и при различных температурах изменяется от 1 до 2, в частности для атомных решеток этот коэффициент равен 1,17 при рассеянии носителей заряда на тепловых колебаниях решетки и 1,95 при рассеянии на ионизированных примесях. Тогда для полупроводников n-типа
, а для р-типа .
Как видно из выражения, величина коэффициента Холла определяется концентрацией носителей. Кроме того, она зависит от температуры, так как с изменением температуры изменяется концентрация носителей заряда.
Для полупроводников с двумя типами носителей заряда выражение для коэффициента Холла получается более сложным
В германии и кремнии подвижность электронов заметно превышает подвижность дырок, поэтому у образца р-типа при низкой температуре коэффициент Холла будет положителен. При повышении температуры до состояния компенсации рμр2 = nμn2 знак коэффициента Холла становится отрицательным.
Эффект Холла является экспериментальным средством изучения свойств носителей заряда в полупроводниках. Измерив коэффициент Холла, можно определить концентрацию носителей заряда, а по направлению ЭДС Холла определить их знак.
Умножив коэффициент Холла на удельную проводимость полупроводника, получим
.
Из этого соотношения можно вычислить подвижность носителей заряда.
Наиболее интересными являются измерения зависимости коэффициента Холла от температуры. Они позволяют установить температурную зависимость концентрации носителей заряда, а в совокупности с измерением удельной проводимости – температурную зависимость подвижности. По температурной зависимости концентрации носителей или коэффициента Холла в области слабой ионизации примесей можно определить энергию активации примеси ΔWак, а в области собственной проводимости – ширину запрещенной зоны ΔWзз.