
- •Введение
- •1.Физические основы строения материалов
- •1.1. Квантово-механическая теория строения атома
- •1.2. Волновое уравнение электронов
- •1.3. Электронная конфигурация атомов
- •2. Строение твердого тела
- •2.1. Химическая связь в молекулах
- •2.2. Агрегатные состояния вещества
- •2.3. Строение твердых тел. Кристаллическая решетка
- •2.4. Дефекты кристаллических решеток твердых тел
- •2.5. Химические связи в кристаллах
- •2.6. Электронные состояния твердых тел
- •2.7. Металлы, диэлектрики, полупроводники с точки зрения зонной теории
- •3. Электропроводность полупроводников
- •3.1. Собственные полупроводники
- •3.2. Статистика свободных носителей заряда
- •3.3. Эффективная масса электрона
- •3.4. Концентрация свободных носителей и положение уровня Ферми в собственном полупроводнике
- •3.5. Примесные полупроводники
- •3.5.1. Донорные полупроводники
- •3.5.2. Акцепторные полупроводники
- •3.5.3. Оценка энергии активации и размеров примесных атомов
- •3.6. Рекомбинация носителей заряда
- •3.7. Концентрация свободных носителей заряда в примесном полупроводнике
- •3.7.1. Донорный полупроводник
- •3.7.2. Акцепторный полупроводник
- •3.7.3. Уравнение электронейтральности
- •3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
- •3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
- •3.9. Электрический ток в полупроводниках
- •3.10. Физические основы анализа полупроводниковых приборов
- •3.10.1. Общий порядок расчета
- •3.10.2. Неравновесные носители заряда
- •3.10.3. Уравнения непрерывности
- •4. Контактные явления в полупроводниках
- •4.1. Неоднородный полупроводник одного типа электропроводности
- •4.2. Электронно-дырочный переход в условиях равновесия
- •4.3. Энергетическая диаграмма р-n перехода в условиях равновесия
- •4.4. Расчет концентраций носителей заряда в электронно-дырочном переходе
- •4.5. Электронно-дырочный переход под воздействием внешнего напряжения
- •4.6. Толщина р-n перехода
- •4.7. Методика определения параметров р-п перехода
- •4.7.1. Основные параметры перехода
- •4.7.2. Граничные условия в области пространственного заряда
- •4.7.3. Анализ идеализированного диода
- •4.8. Вольт-амперная характеристика электронно-дырочного перехода
- •4.9. Генерация и рекомбинация в электронно-дырочных переходах
- •4.10. Емкости p-n перехода
- •4.10.1. Барьерная емкость перехода
- •4.10.2. Диффузионная емкость перехода
- •4.11. Контакт между полупроводниками с одним типом электропроводности
- •4.12. Работа выхода
- •4.13. Контакт металл – полупроводник
- •4.14. Влияние состояния поверхности на характеристики электронно-дырочного перехода
- •4.14.1. Теория приповерхностной области пространственного заряда
- •4.14.2. Поверхностная проводимость
- •4.14.3. Расчет поверхностных токов
- •4.15. Гетеропереходы
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода
- •5.1. Лавинный пробой
- •5.2. Туннельный пробой
- •5.3. Тепловой пробой
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках
- •6.1. Эффект Холла
- •6.2. Эффект Эттингсгаузена
- •6.3. Эффект Зеебека
- •6.4. Эффект Пельтье
- •6.5. Эффект Томсона
- •7.Фотопроводимость и поглощение света полупроводниками
- •7.1. Природа фотопроводимости
- •7.2. Зависимость фотопроводимости от интенсивности облучения
- •7.3. Люминесценция полупроводников
- •Заключение
- •Библиографический список
- •Оглавление
- •1.Физические основы строения материалов 4
- •2. Строение твердого тела 16
- •3. Электропроводность полупроводников 31
- •4. Контактные явления в полупроводниках 56
- •5. Пробой электронно-дырочного перехода 108
- •6. Кинетические и термоэлектрические явления в полупроводниках 116
- •7.Фотопроводимость и поглощение света 123
- •Владимир Михайлович Бардаков Алефтина Алексеевна Лессинг Основы физики полупроводников
3.7.3. Уравнение электронейтральности
Валентная оболочка доноров содержит на один электрон больше, а акцепторов меньше, чем у атомов полупроводника. Поэтому доноры и акцепторы могут ионизоваться, отдавая один электрон в зону проводимости или принимая один электрон из валентной зоны. При этом нейтральные атомы доноров и акцепторов превращаются в примесные ионы.
Если электронейтральный полупроводник содержит только донорную примесь, то концентрация электронов превышает концентрацию дырок:
.
В случае легирования акцепторами концентрация дырок превышает концентрацию электронов:
.
В первом случае полупроводник является полупроводником п-типа, электроны являются основными носителями заряда, а дырки – неосновными. Во втором случае – полупроводник р-типа, основными носителями являются дырки, а электроны – неосновными.
Довольно часто встречаются случаи, когда в одном и том же полупроводнике содержатся и донорные, и акцепторные примеси. Если концентрации доноров и акцепторов одинаковы, то избыточные электроны доноров поглощаются акцепторами. В этом случае полупроводник называется компенсированным, а концентрации электронов и дырок равны собственной концентрации носителей заряда ni.
В электронных приборах полупроводник обычно содержит оба типа примесей, но концентрации акцепторов и доноров различны. При этом тип электропроводности определяется тем, каких примесных атомов больше. Если Nd > Nа, то полупроводник п-типа, если Nа > Nd, то полупроводник р-типа.
В этом случае часть электронов и дырок рекомбинируют, а оставшиеся носители заряда подчиняются правилу электронейтральности полупроводника:
.
Концентрация заряженных частиц одного знака равна концентрации заряженных частиц противоположного знака.
3.7.4. Однородный вырожденный полупроводник
Пусть в полупроводнике п-типа концентрация доноров намного превосходит собственную концентрацию Nd >> пi, Особенностью такого полупроводника является расщепление примесного донорного уровня Wd в зону, которая перекрывается с зоной проводимости. При этом уровень Ферми расположен внутри объединенной разрешенной зоны.
Несмотря на то, что часть примесных уровней расположена выше уровня Ферми, в электропроводности могут участвовать все электроны введенных доноров, поскольку их волновые функции перекрываются. Поэтому все доноры считаются ионизированными, и концентрация основных носителей равна концентрации доноров пп = Nd .
Концентрация неосновных носителей, дырок может быть найдена из условия электронейтральности пп = pп + Nd с использованием распределения Максвелла – Больцмана, если известна зависимость от энергии плотности разрешенных состояний в результирующей разрешенной зоне:
.
Следует отметить, что в вырожденном полупроводнике вследствие перекрытия примесной зоны с зоной проводимости (для донорного полупроводника) или валентной зоной (для акцепторного полупроводника) эффективная ширина запрещенной зоны уменьшается.
3.8. Связь между концентрациями носителей заряда в примесном и собственном полупроводниках (закон действующих масс)
Концентрация электронов в собственном полупроводнике определяется выражением
.
Соответственно, концентрация дырок
.
Выразим отсюда эффективные плотности состояний NC и NВ:
;
.
В полупроводнике п-типа концентрации электронов и дырок определяются выражениями:
;
.
Подставим сюда плотности состояний свободной и валентной зон, выраженные через концентрацию собственных носителей заряда:
,
.
Следовательно, концентрацию электронов или дырок в примесном полупроводнике (вне зависимости от типа полупроводника) можно выразить через уровень Ферми данного полупроводника и собственного полупроводника и концентрацию собственных носителей заряда при данной температуре. Тогда
.
Таким образом, произведение концентраций электронов и дырок в данном полупроводнике при данной температуре есть величина постоянная, не зависящая от характера и количества содержащихся в нем примесей и равная квадрату концентрации электронов или дырок в беспримесном полупроводнике при той же температуре.