Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:
Зебрев Физические основы кремниевой 2008.pdf
Скачиваний:
161
Добавлен:
16.08.2013
Размер:
5.66 Mб
Скачать

переменные и дифференцируя (9.1.5) по химическому потенциалу

ζ :

 

 

 

 

 

dζ

 

 

 

 

 

C

 

 

 

C

C

2

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

κ =

 

=

 

 

 

1

1+

 

 

S

 

.

 

(9.6.2)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

dϕS

 

 

 

 

dnS dζ

 

 

C1(CS +C2 )

 

 

Это же выражение можно переписать в виде

 

 

 

 

 

 

 

 

 

CSC2

 

 

 

 

 

C1(1+ηFD )

 

 

C1(1+ηFD )εD

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(9.6.3)

κ =

 

C1

+

 

 

Cinv

 

=

 

nS

q

,

Cinv

(CS +C2 )

 

 

гдеηFD – коэффициент электрической связи двух затворов ПО КНИ МОПТ, имеющий смысл коэффициента влияния подложки

ηFD CS C2 C1(CS + C2 ).

(9.6.4)

9.7. Решение уравнения непрерывности в канале

Явное решение уравнения (9.6.1) дает формулы, аналогичные полученным для невырожденного случая с заменой теплового потенциала на потенциал диффузии. В частности, для распределения электрического поля вдоль канала имеем

E(y)=

 

E(0)

 

,

(9.7.1)

 

 

q E(0)

 

1κ

 

 

y

 

 

εD

 

 

 

 

 

 

 

где E(0) – электрическое поле в окрестности истока

 

ε

D

 

 

 

κ

 

qV

 

 

E(0) =

 

 

1

exp

 

 

DS

,

(9.7.2)

qκ

 

 

 

 

L

 

1+κ εD

 

и полный вид распределения поля вдоль канала дается выражением

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

κ

 

 

qV

 

 

 

 

εD

 

 

 

1

exp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

DS

 

 

 

 

 

 

 

1+κ

εD

 

 

E( y) =

 

 

 

 

 

 

 

.

(9.7.3)

qκ L

 

 

 

 

y

 

 

 

 

 

 

κ

 

 

qV

DS

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

1

exp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

+

κ εD

 

 

Интегрирование (9.7.3) дает распределения химического и электростатического потенциалов вдоль длины вырожденного канала (L)

218

(9.7.7)

ϕS ( y) ϕS (0)

ζ( y) ζ (0)

 

 

ε

 

 

 

 

y

 

 

 

 

 

κ

 

 

qV

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=−

 

ln 1

 

 

1

exp

 

 

 

 

 

 

DS

,

qκ

 

 

1+

κ ε

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ε

 

 

 

y

 

 

 

 

 

 

 

κ

 

qV

 

 

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=

 

ln 1

 

 

1exp

 

 

 

 

 

 

 

DS

 

,

q

 

 

1

+κ ε

 

 

 

L

 

 

D

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

(9.7.4)

(9.7.5)

где диффузионная энергия εD соответствует плотности электронов

в канале вблизи истока.

Полное падение электрохимического потенциала на длине канала определяется смещением исток-сток VDS и в используемом приближении делится между электрическим и химическим потенциа-

лом:

 

 

 

μ(L) μ(0) = q (ϕ(L) ϕ(0))+ q(ζ (0) ζ (L))=

=

qVDS

+

κ qVDS

= qV .

(9.7.6)

 

 

 

1+κ

1+κ

DS

 

 

 

 

Вслучае сильной инверсии (когда κ << 1) имеем

ζ( y) ζ (0) κ Ly VDS ,

ϕ( y) ϕ(0) Ly VDS .

Таким образом, при сильной инверсии полное падение химического потенциала мало по сравнению с электростатическим потенциалом, но его учет остается очень важным при описании режима насыщения.

Аналогично тому, как это было сделано в п. 7.11, получаем компактную формулу для времени пролета, справедливую для всех

режимов работы транзистора

 

 

 

 

 

 

 

 

 

τTT

=

L2

κ

 

 

κ V

DS

 

 

 

 

 

 

coth

 

 

 

 

.

(9.7.8)

2Dn 1

 

1

 

 

 

 

 

 

+κ

 

+κ 2εD

 

9.8. Распределение плотности электронов вдоль канала

Используя выражение для распределения химического потенциала вдоль канала (9.7.5) и выражение для плотности электронов в канале в случае заполнения одной подзоны (9.5.1), получаем выра-

219

жение для пространственного распределения плотности электронов вдоль канала

 

 

 

 

 

 

 

 

qζ0

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

εD

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

y

 

 

κ

 

qV

 

kBT

 

 

 

 

 

 

 

k T

 

 

DS

n

S

(y) g

2D

k

B

T ln 1

+ e

B

1

 

1

exp

 

 

 

 

,(9.8.1)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1+κ εD

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где ζ0 – химический потенциал вблизи истока.

Для невырожденного случая (ζ < 0, εD =kBT ) распределение плотности электронов вдоль канала принимает вид

 

(y) g2DkBT e

qζ 0

 

 

y

 

 

 

 

 

 

 

κ

 

 

qV

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

k T

 

 

 

 

 

DS

 

 

 

nS

B

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

1

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

=

 

 

 

 

 

1exp

1

+κ kBT

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

y

 

 

 

 

 

 

 

 

κ

 

 

qVDS

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

= nS (0) 1

 

1exp

1+κ

 

kBT

 

, (9.8.2)

где nS (0)

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

– поверхностная плотность электронов вблизи истока.

Полный заряд электронов в канале QC

 

для невырожденного

случая может быть вычислен как

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

L

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

κ

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

QC =W 0 nS (y)dy

=

QC0

 

 

 

 

 

 

 

 

qVDS

 

(9.8.3)

 

 

2

 

1+exp

1+κ

 

kBT

 

,

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

где QC0 nS (0)W L .

В случае вырожденного канала (ζ > 0, εD kBT ) общее выражение можно приближенно представить как

nS (y) nS (0)

y

 

g2DεD

 

 

 

 

κ

 

 

qVDS

 

(9.8.4)

 

 

 

 

 

 

 

L

2

1

exp

1+

 

 

 

,

 

 

 

 

κ εD

 

что после интегрирования по длине канала приводит к выражению

 

 

Q

 

 

κ

qV

 

 

Q

=

C0

1

+ exp

 

DS .

(9.8.5)

 

C

 

2

 

 

1+κ

εD

 

 

 

 

 

Таким образом, выражение (9.8.3) можно использовать как для вырожденного, так и для невырожденного случая.

220

I (V ) = QC (VDS ) .
D DS τTT (VDS )

9.9.Вольт-амперная характеристика (ВАХ) МОПТ

Вэтом разделе будет показано, что выражение для тока стока ID как функцию напряжения между стоком и истоком VDS можно

получить двумя согласованными способами.

A.Локальный подход

Первый подход состоит в том, что ток стока в канале шириной

W выражается через электрическое поле E(0), и плотность носителей nS(0) в районе истока (y = 0)

ID (VDS )= (1+κ)q W μn nS (0)E(y = 0,VDS ). (9.9.1)

Используя (9.9.1) и (9.7.2), общее выражение для тока может быть записано

 

W

 

1+

 

 

 

ID = q

Dn nS (0)

κ

 

L

κ

1

exp

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

κqVDS

1+κ εD

 

 

 

 

(9.9.2)

 

 

.

 

 

 

 

 

Эта формула непрерывным образом описывает все режимы работы МОПТ.

Б. Глобальный подход

Второй подход состоит в том, чтобы представить ток стока как отношение полного заряда в канале QC к времени переноса электрона из истока в сток τTT (см.

(9.9.3)

Используя выражение (9.7.8) для времени пролета τTT, непосредственно получаем

 

 

 

2D

(V

 

)

1+κ

 

κ qV

 

 

I

 

=

n

Q

 

 

tanh

 

DS .

(9.9.4)

 

 

 

 

 

 

D

 

L2 C

 

DS

 

κ

 

1+κ 2εD

 

После подстановки QC (9.8.5) в (9.9.5) в точности воспроизводим выражение для тока стока (9.9.2). Таким образом, два подхода полностью согласуются друг с другом.

Итак, общий вид вольт-амперной характеристики длинноканальных полностью обедненных КНИ транзисторов можно записать в той же форме, что и для транзисторов объемной технологии (ср. (7.8.2)). Единственным отличием является разный вид управляющего параметра κ , а для вырожденного случая канала вместо

221

Соседние файлы в предмете [НЕСОРТИРОВАННОЕ]