- •Тема 1. Комплексная микроминиатюризация и автоматизированные
- •Цели и задачи микроэлектронной аппаратуры
- •Основные пути выбора конструктивно-компоновочной схемы и методов монтажа мэа
- •Элементная база и ее влияние на конструкцию мэа
- •Корпусированная элементная база
- •Динамика развития основных исходных конструкторских
- •Бескорпусная элементная база
- •Исходные данные задания
- •Порядок выполнения задания
- •Пример выполнения задания практического занятия
- •Результаты, полученные при выполнении задания
- •Тема 2. Конструктивные исполнения и современные технологии сборки элементной базы.
- •Микросхемы, элементы, компоненты
- •Классификация микросхем
- •Современные корпуса дискретных полупроводниковых приборов или их сборок
- •Современные корпуса дискретных полупроводниковых приборов или их сборок
- •Бескорпусная элементная база
- •Имс с проволочными выводами
- •Термокомпрессионная сварка
- •Сварка с косвенным импульсным нагревом
- •Кристаллы с балочными выводами
- •Имс с организованными шариковыми выводами
- •Имс с организованными выводами на гибком носителе
- •Классификация типов ленточных носителей
- •Одноточечная автоматизированная сборка на ленту-носитель
- •Резисторы
- •Основные сведения об объемных резисторах
- •Конденсаторы
- •Относительные диэлектрические проницаемости
- •Катушки индуктивности
- •Технология монтажа пассивных компонентов
- •Практическое занятие оптимизация технологических режимов процесса микроконтактирования бескорпусных кристаллов сбис в электронных устройствах с высокоплотным монтажом
- •Теоретические сведения Элементная база для сборки и монтажа мэу
- •Оценка и анализ качества микроконтактирования
- •Порядок выполнения заданий
- •Примеры выполнения заданий практического занятия Задание 1
- •Задание 2
- •Тема 3. Многоуровневые коммутационные системы.
- •Монтаж микросборок и ячеек мэа
- •Сводные характеристики многослойных керамических плат
- •Типы печатных плат
- •Двухсторонние печатные платы
- •Многослойные печатные платы
- •Гибкие печатные платы
- •Рельефные печатные платы (рпп)
- •Характеристики рельефных плат
- •Сравнение технологических и стоимостных характеристик рельефной и многослойной печатной платы
- •Гибкие печатные платы
- •Основные элементы конструкции гибких печатных плат
- •Полиимидные пленки
- •Адгезивы
- •Гибко-жёсткие печатные платы
- •Миниатюрные охлаждающие агрегаты
- •Радиаторы
- •Теплопроводящие трубки
- •Углеродные нанотрубки
- •Охлаждение элементом Пельтье
- •Плоские теплоотводы
- •Охлаждение микросхем распылением на них жидкости
- •Капиллярная система теплоотвода ibm
- •Особенности обеспечения теплоотвода в теплонапряженных модулях
- •Обеспечение теплоотвода при монтаже высокоскоростных модулей на основе бескорпусных бис
- •Конструкции и компоновочные схемы радиоэлектронных ячеек
- •Особенности конструктивно-технологических принципов построения мэа свч диапазона и источников вторичного электропитания.
- •Особенности монтажа микросборок и ячеек свч диапазона.
- •Теоретические сведения
- •Сравнительные параметры мкп, выполненных по различным технологиям
- •Исходные данные заданий
- •Пример выполнения задания практического занятия
- •Тема 4. Технологии внутриячеечного монтажа.
- •Лекция 18. Паяные соединения. Особенности и способы пайки. Бесфлюсовая пайка. Контроль качества. Бессвинцовая технология пайки. Общее понятие процесса пайки и паяных швов.
- •Технология пайки
- •Основный виды пайки.
- •Способы пайки.
- •Типы паяных соединений.
- •Подготовка деталей к пайке и пайка.
- •Дефекты паяных соединений и контроль качества. Типы дефектов паяных соединений.
- •Контроль качества.
- •Возможные дефекты
- •Выбор припойной пасты.
- •Состав припойных паст.
- •Характеристики частиц в припойных пастах.
- •Свойства флюсов.
- •Трафаретный метод нанесения припойной пасты.
- •Диспенсорный метод нанесения припойной пасты
- •Нанесение припойной пасты.
- •Результаты выполнения задания
- •Тема 5. Конструкторско-технологические особенности
- •Лекция 24,25. Герметизация компонентов рэа. Способы контроля герметичности.
- •Структура процесса герметизации
- •Входной контроль
- •Приготовление герметизирующего состава
- •Подготовка герметизируемого изделия
- •Герметизация изделий
- •Сварка.
- •Пропитка
- •Обволакивание
- •Заливка
- •Опрессовка
- •Герметизация капсулированием
- •Герметизация в вакуум-плотных корпусах
- •Практическое занятие герметизация эвс и их конструктивов
- •Теоретические сведения
- •Исходные данные задания
- •Пример выполнения задания практического занятия
- •Порядок выполнения задания
- •Пример выполнения задания практического занятия
Порядок выполнения заданий
Определить электропроводящие материалы, используя критическое усилие отрыва (а) (см. табл. 1.3 и табл. 1.1).
Представить данные табл. 1.3 в виде табл. 1.2 и выполнить необходимые вычисления (пользуясь формулами (1.1) и (1.2)).
Таблица 1.3
Исходные данные к заданию 1
Усилие отрыва (сдвига), г |
Критическое усилие отрыва (а), г |
|||||
Для первой разновидности микросварочного инструмента |
Для второй разновидности микросварочного инструмента |
|||||
Режим 1 |
Режим 2 |
Режим 3 |
Режим 1 |
Режим 2 |
Режим 3 |
|
33 38 35 |
28 34 37 |
31 37 33 |
42 36 34 |
34 40 30 |
36 32 38 |
35 |
Таблица 1.4
Значения граничного критерия для разных уровней достоверности
-
Количество измерений, n
Уровень достоверности, %
95
99
3
0,885
2,111
С учетом табличных значений граничных критериев (см. табл. 1.4) проанализировать расчетные критерии оценки экспериментальных данных (см. табл. 1.2) и выбрать оптимальный режим и лучший инструмент для микроконтактирования.
Изобразить структуру организованного вывода кристалла либо структуру межсоединения в системе БК – КП, либо фрагмент конструкции кристаллодержателя на КП.
Используя данные табл. 1.5 определить параметры , , b, , в соответствии с формулами (1.4)…(1.7) и пользуясь сведениями табл. 1.6 и 1.7.
Построить график зависимости .
Сформулировать выводы, аргументированно отразив в них:
− какие выбраны материалы в составе токопроводящей системы кристаллодержатель – КП;
− какой инструмент более эффективен для выбранного способа микросварки;
− указать характер зависимости распределения температуры от размера контактной площадки и приемлемость рассчитанного режима для заданных материалов в сопряженной системе.
Таблица 1.5
Исходные данные к заданию 2
Материал диэлектрического основания носителя выводов |
Полиимид |
U, B |
60 |
h, мм |
0,07 |
r, мкм* |
1000 |
* - контактные площадки приняты квадратными.
Таблица 1.6
Характеристики материалов (к заданию 2)
Материал основания носителя (ОН) |
Нагрево-стойкость ОН, оС |
Плотность ОН ρ, кг/м3 |
Теплоемкость ОН с, Дж/(кг·К) |
Теплопроводность ОН , Вт/(м·К) |
Материал контактной площадки носителя (КПН) |
Теплопроводность материала КПН , Вт/(м·К) |
Полиимид |
250 |
1400 |
1070 |
0,2 |
Cr-Cu+Sn/Bi |
88,6 |
Таблица 1.7
Данные для расчета параметров задания 2
Постоянные параметры |
Обозначение |
Численное значение |
Размерность |
КПД |
|
0,85 |
отн. ед. |
Сопротивление микросварного контакта |
R |
1 |
Ом |
Длительность импульса |
|
0,1 |
c |
Коэффициент теплоотдачи |
|
3800 |
Дж/(м2·с·К) |
Время воздействия |
t |
0,05 |
c |
Форма табл. 1.8
Результаты, полученные при выполнении заданий 1 и 2
-
Обозначение параметра
Варьируемые факторы ТП
Численные значения параметров
Инстр.1, реж1.
Инстр.1, реж2.
Инстр.1, реж3.
Инстр.2, реж1.
Инстр.2, реж2.
Инстр.2, реж3.
R
Инстр.1, реж1.
Инстр.1, реж2.
Инстр.1, реж3.
Инстр.2, реж1.
Инстр.2, реж2.
Инстр.2, реж3.
Инстр.1, реж1.
Инстр.1, реж2.
Инстр.1, реж3.
Инстр.2, реж1.
Инстр.2, реж2.
Инстр.2, реж3.
Q(U), Дж
а10-5, м2/с
b, 1/с
T(0), K
T(r/2), K