- •1. Розповсюдження світла в неоднорідному середовищі і проблема управління хвильовим фронтом. Модель турбулентності Колмогорова
- •2. Системи фазового спряження
- •3. Навчання нейромережі без вчителя
- •1. Генерация електромагнитного излучения
- •Критерії ефективності ацкп
- •3. Оптична обробка та розпізнавання зображень
- •2. Основні етапи точнісних розрахунків. Розрахунок інструментальної та динамічної похибок
- •3. Види функцій активації. Модель формального нейрона
- •1. Квантрон – базисний елемент оптоелектронної схемотехніки
- •2. Попередній вибір приймача випромінювання і його узгодження з електронним трактом
- •1. Сигнал, як носій вимірювальної інформації. Квантування за часом, за рівнем та в просторі
- •2. Тепловізійні методи діагностики
- •3. Основні функціональні задачі стз, вимоги до стз адаптивних роботів, узагальнена структура стз
- •1.Твердотельный лазер.
- •2. Загальна характеристика атмосферних оптичних перешкод
- •3. Методи та засоби кореляційної обробки зображень
- •2. Структура засобів вимірювань (зв). Принцип дії, вимірювальне коло і види схем зв.
- •3. Методи та засоби оптичної фільтрації
- •1. Секціонування дзеркал. Суцільні деформовані дзеркала.
- •2. Теплові впливи на тканину. Вплив лазерного випромінювання
- •3. Методи та засоби оптичної двовимірної кореляції
- •Оптическая голография
- •2. Структура оптичного кабелю
- •3. Оптичні та оптоелектронні процесори для обробки та аналізу зображень
- •Параметри стандартного тв сигналу
- •2. Передача світлової енергії на далекі відстані. Оптична астрономія. Світлові пучки в установах термоядерного синтезу, системах оптичної локації, технології і інших областях сучасної техніки.
- •3. Біологічний нейрон, його структура. Модель формального нейрона
- •1. Требования в голографии к:
- •Особливості оптоелектронних івс. Приклад структури паралельної оптоелектронної івс обробки зображень
- •1. З’єднання тривимірних оптичних хвилеводів на загальній підложці
- •3. Основні показники та характеристики оптоелектронних засобів
- •Система трьох зв’язаних ох та її характеристики
- •Принцип формирования лазерного излучения
- •3. Оптоелектронна елементна база, її особливості
- •1. Одномірні інтегральні перекривання полів тривимірних оптичних хвилеводів
- •2. Оптоелектронні аналого-цифрові картинні перетворювачі (ацкп) для паралельних івс обробки зображень
- •3. Оцінка складності оптоелектронних структур
- •Просторово-часові модулятори світла як базові компоненти систем оптоелектронної обробки в оптоелектронних івс.
- •1. Хвилеводні повороти
- •2. Реакція біотканини, залежність від температури
- •3. Види паралелізму обчислювальних алгоритмів
- •2. Характеристики адаптивних дзеркал. Вимоги, що пред’являються до адаптивних дзеркал
- •3 . Ознаки зображення: детерміновані, ймовірнісні, логічні, структурні
- •2. Порівняльна характеристика сенсорів хвильового фронту
- •3. Метод розв’язку задачі розпізнавання
- •3 . Класифікація систем розпізнавання
- •Структурні схеми зв і види перетворень. Узагальнена структурна схема інформаційно-вимірювальної системи (івс).
- •Методи сортування великих масивів даних
- •2. Структурна організація та архітектура оптоелектронних засобів
- •3. Кластерний аналіз
- •1. Порівняльна характеристика сенсорів хвильового фронту
- •2. Особливості різноманітних конструкцій і використовуваних приводів для побудови адаптивних дзеркал
- •3. Оптичні та оптоелектронні комутаційні схеми
- •1. Побудова адаптивних оптичних систем. Особливості роботи адаптивних оптичних систем.
- •Фотометричні прилади для вимірювань
- •3. Навчання нейромережі з вчителем
- •2. Схеми класифікації обчислювальних систем для обробки зображень
- •3. Постановка задачі розпізнавання
- •2. Особливості двовимірного перетворення Фур'є
- •1. Системи апертурного зондування
- •2. Конструкторські та технологічні показники якості оеп та лс
- •3. Налаштування нейромережі на розв’язання прикладних задач
- •2. Згортка та кореляція оптичних сигналів
- •3. Захист оеп від впливу зовнішніх факторів
- •1. Класифікація волоконно-оптичних датчиків для діагностики
- •1. Сенсори гартманівського типу
- •2. Оптична система людського ока. Інструменти офтальмологічної оптики
- •3. Аналітичні та імітаційні моделі
- •1. Засоби повернення хвильового фронту в нелінійних середовищах
- •2. Електрично-керовані та оптично керовані транспаранти як базові елементи оеп. Seed – прилади
3. Налаштування нейромережі на розв’язання прикладних задач
При налаштуванні нейромережі (НМ) на вирішення конкретної задачі необхідно провести попередні процедури:
Кодування вхідної і вихідної інформації.
Вибір архітектури НМ.
Вибір алгоритму навчання.
Вибір способів оцінювання та інтерпретації отриманих результатів.
Спочатку виконують апріорний аналіз об’єкта досліджень:
узагальнення знань про об’єкт;
вивчення попередніх рекомендацій від експертів;
збір даних та формування навчальної вибірки для НМ.
Технологія налаштування НМ на вирішення прикладної задачі має такий вигляд:
Налаштування НМ є ітераційною процедурою. У випадку, коли побудована НМ не задовольняє вимогам користувача, необхідно багаторазово звертатися до окремих блоків для уточнення параметрів моделі.
Білет №27
2. Згортка та кореляція оптичних сигналів
Одними із найважливіших задач цифрової обробки оптичних сигналів є задачі фільтрації, згортки, кореляції.
Цифровий фільтр – це пристрій, який формує нову числову послідовність даних на основі заданої вхідної послідовності за певним правилом.
Є два типи фільтрів: фільтр з кінцевим імпульсним відгуком та авторегресійний фільтр.
Схема фільтра з кінцевим імпульсним відгуком
Даний фільтр являє собою лінію затримки з відгалуженнями, в яких вихід кожного розряду множиться на фіксовану константу, а результати додаються. Вихідна послідовність s даного фільтра є так званою лінійною згорткою вхідної послідовності d, яка описує вагові множники в відгалуженнях фільтра.
Згортки бувають лінійні та циклічні. Для заданих двох послідовностей даних і послідовності фільтра лінійною згорткою називають нову послідовність , елементи якої визначаються за формулою , для . Обчислювальна складність операцій лінійної згортки складає N·L операцій множення.
Для заданих двох послідовностей та циклічною згорткою називається послідовність , в якій кількість елементів однакова. Елементи s визначаються за формулою , а над (i-k) виконується операція: modn (i-k).
Для послідовностей даних d і фільтра g кореляцією називається нова послідовність виду , елементи якої визначаються за формулою , для .
Кореляцією можна обчислювати згортку, якщо прочитати одну із послідовностей у зворотньому порядку. Обчислення лінійної згортки можуть перетворюватись в способи обчислення кореляції.
Схема авторегресійного фільтра
Дана схема є лінією затримки з відгалуженням і з від’ємним зворотнім зв’язком. Вихідна послідовність визначається за формулою: .
3. Захист оеп від впливу зовнішніх факторів
Вплив зовнішніх факторів виражається в появі процесів корозії, погіршення механічних та електричних властивостей матеріалів.
Алюміній відноситься до найбільш стійких до корозії металів, тому що на його поверхні утворюється захисна оксидна плівка. Мідь також покривається захисним шаром, але міцність його значно менша ніж у алюмінію. Сплави міді з нікелем, кремнієм, оловом більш стійкі до корозії. Швидкість корозії у сталі залежить від складу атмосфери, хімічного складу сталі, температури та стану поверхні. Мідь, хром, нікель підвищують стійкість до корозії. Сталі з вмістом хрому більше 12% називають нержавіючими. Сплави олова з свинцем характеризуються середньою корозійною стійкістю. З часом вони покриваються пасивним шаром, товщина, якого росте із швидкістю 0,4 - 0,7 мкм/ріх.
Ізоляційні матеріали поглинають вологу. При цьому їхні діелектричні властивості погіршуються і вони поступово руйнуються. Поглинання діелектриком вологи веде до зменшення опору ізоляції, збільшення діелектричних втрат, механічним пошкодженням. Більший коефіцієнт вологопоглинання мають піноскло, капрон, поліамід, менший - полістирол, прес-порошок, полікарбонат.
Для захисту поверхні металевих та неметалевих матеріалів застосовують захисні металеві та неметалеві покриття або герметизацію окремих елементів, вузлів, блоків або всього виробу.
Герметизацію можна здійснювати за допомогою ізоляційних матеріалів або оболонок, які не пропускають газів.
Захист ізоляційними матеріалами здійснюється за допомогою просочування, насичення, заливання, обволікання або опресування. Насичення здійснюють зануренням виробу в рідкий ізоляційний матеріал, який після витягання виробу твердіє. Для насичення використовують просочувальні лаки. Сушіння здійснюють при нормальній або підвищеній температурі протягом 0,5-6 год. При герметизації заливанням всю вільну порожнину в виробі заливають електроізоляційним матеріалом. Для зменшення механічних напружень, які можуть виникнути після затвердіння матеріалу, застосовують пластичні ізоляційні матеріали. При герметизації обволіканням використовують в'язкі ізоляційні матеріали, які після затвердіння створюють товстий захисний шар. В якості просочувальних, заливочних, обволікуючих матеріалів застосовують компаунди на основі епоксидних смол. До них добавляють наповнювачі, які змінюють властивості компаунду. Для герметизації використовують також пластичні компаунди та герметики. Опресування деталей виконують в спеціальних фермах термопластмасами.
Білет №28