- •1. Розповсюдження світла в неоднорідному середовищі і проблема управління хвильовим фронтом. Модель турбулентності Колмогорова
- •2. Системи фазового спряження
- •3. Навчання нейромережі без вчителя
- •1. Генерация електромагнитного излучения
- •Критерії ефективності ацкп
- •3. Оптична обробка та розпізнавання зображень
- •2. Основні етапи точнісних розрахунків. Розрахунок інструментальної та динамічної похибок
- •3. Види функцій активації. Модель формального нейрона
- •1. Квантрон – базисний елемент оптоелектронної схемотехніки
- •2. Попередній вибір приймача випромінювання і його узгодження з електронним трактом
- •1. Сигнал, як носій вимірювальної інформації. Квантування за часом, за рівнем та в просторі
- •2. Тепловізійні методи діагностики
- •3. Основні функціональні задачі стз, вимоги до стз адаптивних роботів, узагальнена структура стз
- •1.Твердотельный лазер.
- •2. Загальна характеристика атмосферних оптичних перешкод
- •3. Методи та засоби кореляційної обробки зображень
- •2. Структура засобів вимірювань (зв). Принцип дії, вимірювальне коло і види схем зв.
- •3. Методи та засоби оптичної фільтрації
- •1. Секціонування дзеркал. Суцільні деформовані дзеркала.
- •2. Теплові впливи на тканину. Вплив лазерного випромінювання
- •3. Методи та засоби оптичної двовимірної кореляції
- •Оптическая голография
- •2. Структура оптичного кабелю
- •3. Оптичні та оптоелектронні процесори для обробки та аналізу зображень
- •Параметри стандартного тв сигналу
- •2. Передача світлової енергії на далекі відстані. Оптична астрономія. Світлові пучки в установах термоядерного синтезу, системах оптичної локації, технології і інших областях сучасної техніки.
- •3. Біологічний нейрон, його структура. Модель формального нейрона
- •1. Требования в голографии к:
- •Особливості оптоелектронних івс. Приклад структури паралельної оптоелектронної івс обробки зображень
- •1. З’єднання тривимірних оптичних хвилеводів на загальній підложці
- •3. Основні показники та характеристики оптоелектронних засобів
- •Система трьох зв’язаних ох та її характеристики
- •Принцип формирования лазерного излучения
- •3. Оптоелектронна елементна база, її особливості
- •1. Одномірні інтегральні перекривання полів тривимірних оптичних хвилеводів
- •2. Оптоелектронні аналого-цифрові картинні перетворювачі (ацкп) для паралельних івс обробки зображень
- •3. Оцінка складності оптоелектронних структур
- •Просторово-часові модулятори світла як базові компоненти систем оптоелектронної обробки в оптоелектронних івс.
- •1. Хвилеводні повороти
- •2. Реакція біотканини, залежність від температури
- •3. Види паралелізму обчислювальних алгоритмів
- •2. Характеристики адаптивних дзеркал. Вимоги, що пред’являються до адаптивних дзеркал
- •3 . Ознаки зображення: детерміновані, ймовірнісні, логічні, структурні
- •2. Порівняльна характеристика сенсорів хвильового фронту
- •3. Метод розв’язку задачі розпізнавання
- •3 . Класифікація систем розпізнавання
- •Структурні схеми зв і види перетворень. Узагальнена структурна схема інформаційно-вимірювальної системи (івс).
- •Методи сортування великих масивів даних
- •2. Структурна організація та архітектура оптоелектронних засобів
- •3. Кластерний аналіз
- •1. Порівняльна характеристика сенсорів хвильового фронту
- •2. Особливості різноманітних конструкцій і використовуваних приводів для побудови адаптивних дзеркал
- •3. Оптичні та оптоелектронні комутаційні схеми
- •1. Побудова адаптивних оптичних систем. Особливості роботи адаптивних оптичних систем.
- •Фотометричні прилади для вимірювань
- •3. Навчання нейромережі з вчителем
- •2. Схеми класифікації обчислювальних систем для обробки зображень
- •3. Постановка задачі розпізнавання
- •2. Особливості двовимірного перетворення Фур'є
- •1. Системи апертурного зондування
- •2. Конструкторські та технологічні показники якості оеп та лс
- •3. Налаштування нейромережі на розв’язання прикладних задач
- •2. Згортка та кореляція оптичних сигналів
- •3. Захист оеп від впливу зовнішніх факторів
- •1. Класифікація волоконно-оптичних датчиків для діагностики
- •1. Сенсори гартманівського типу
- •2. Оптична система людського ока. Інструменти офтальмологічної оптики
- •3. Аналітичні та імітаційні моделі
- •1. Засоби повернення хвильового фронту в нелінійних середовищах
- •2. Електрично-керовані та оптично керовані транспаранти як базові елементи оеп. Seed – прилади
Фотометричні прилади для вимірювань
Фотометричні прилади – призначені для дослідження та вимірювання енергетичних параметрів потоків випромінювання, як складного спектра, так і монохроматичного. Задачі, які розвязуються за їх допомогою зводяться до вимірювання енергії, яку приносить хвиля оптичного діапазона або до вимірювання фотометричних величин, повязаних з цією енергетичною характеристикою. Фотометричні прилади є одними із класів приладів вимірювання (поряд із спектральними приладами, інтерференційними приладами, поляризаційними та вимірювальними оптико-електроними приладами).
Одним із видів фотометричних приладів є візуальний люксметр (Рис.1), який є широко розповсюдженим фотометричним пристроєм, який застосовуютьдля вимірювання освітленості на робочих місцях.
Промені світла І від еталонної лампи порівняння 2, положення якої можна регулювати гвинтом 1, проходять кольоровий 3 або нейтральний 4 світлофільтри і попадають на прийомну пластинку 6, освітленість якої залежить від кута її нахилу. Відбитий від пластинки 6 світловий пучок дзеркалом 7 направляється на плстинку 8, що полідляє та направляє його окуляр 11. В результаті такого хода променів створюється одне поле порівняння ІІ, яскравість якого залежить від освітленості пластинки 6.
Рис. 1 Принципова схема візуального люксметра
Друге поле порівняння ІІІ утворює прийомна пластинка 10, яка освітлюється або безпосередньо досліджуваним джерелом світла, або через нейтральний світловий фільтр 9. Світловий пучок ІІ, відбившись від пластинки 10, направляється на пластинку поділу 8.
Порівняння полів здійснюється поворотом пластинки 6 за допомогою рукоятки через косинусний кулачок. З рукояткою 6 звязан відліковий індекс, за допомогою якого по шкалі 5 відліковують величину освітленості в люксах.
Іншим фотометричним приладом є лінійний фотометр (рис. 2), він відноситься до найбільш простих фотометричних пристроїв.
І е І
І І І
lе l
Рис. 2 Лінійний фотометр
а – схема скамї; б – схема фотометричної головки
Його застосовують для візуального порівняння сили світла двух джерел. Еталонне джерело 1 з силою світла Іе та джерело 3, що випробовується, з силою свтла І встановлюють на скамї по обидві сторони фотометричної головки 2.
Фотометричної рівноваги полів порівняння домагаються переміщенням головки 2 або одного із джерел. Відстань lе та l (Рис.2 а) ламп 1 і 3 до прийомної пластинки фотометричної головки вимірюють по лінійній шкалі. Відношення сил світла джерел випромінювання рівне відношенню квадратів виміряних відстаней:
І / Іе = l2 / l2е
Принципова оптична схема фотометричної головки приведена на Рис. 2 б. Промені світла І та І І від еталонного джерела світла 1 та джерела3, що випробовується, освітлюють двусторонню прийомну білу матову пластинку 2. Відбиті від поверхні пластинки 2 промені направляються призмами 4 і 5 через фотометричний куб Люммера 6 в окулярну трубу головки 7, де утворюють суміжні поля порівняння ІІ та І ІІ . Переміщуючи одине із джерел або головку, домагаються однакової освітленості полів порівняння. Для схеми, приведеної на Рис. 2 б, при рівних освітленостях на сторонах прийомної пластини будемо мати:
Еє = Е,
Де Еє – освітленість, яка створюється еталонним джерелом випромінювання – образцовою лампою 1; Е – освітленість, яка створюється джерелом, що випробовується – лампою 3.
Так як Еє = Іе / l2е та Е = І / l2
то lе / l2е = l / l2
звідси сила світла лампи 3, що досліджується
І= Іе ( l2 / l2е)
При зміні сили світла, освітленості, світлового потоку в якості еталонного джерела випромінювання застосовують лампи накалювання особливої конструкції, які мають стійкі світлові та електричні характеристики.