5.3. Види баз

В залежності від призначення баз вони розподіляються на такі бази.

(ГОСТ 21495 -76)

Бази по призначенню

Проектна база – база яка вибрана при проектуванні виробу, технологічного процесу виготовлення, або ремонту цього виробу.

Дійсна база – база, яка фактично використовується в конструкції при виготовленні експлуатації або ремонті.

Конструкторські бази – бази, які використовується для визначення положення деталі або складальної одиниці в виробі.

Основні конструкторські бази – бази, які належать даній деталі або складальній одиниці і використовуються для визначення її положення у виробі (рис.7а)

рис.7а Комплект основних баз 1; 11; 111

Допоміжні конструкторські бази – бази, які належать даній деталі або складальній одиниці і використовуються для визначення положення виробу, що приєднується до них.(рис.7б)

рис.7б. Комплект допоміжних баз валу зі втулкою; 1 приєднувальна деталь

Технологічні бази – бази які використовуються для визначення положення заготовки або виробу в процесі виготовлення або ремонту (рис.7в)

.

рис.7в Комплект технологічних баз – 1,11,111, які визначають положення заготовки в пристосуванні; 1 – заготовка, 2 – пристосування.

Вимірювальні бази – бази, які використовуються для визначення відносного положення заготовки або виробу і засобів вимірювання.(рис7г)

рис.7г. Вимірювальна база - А

Бази по позбавленим ступеням свободи

Установочна база – база, яка позбавляє заготовку або виріб трьох ступенів свободи

Направляюча база – база, яка позбавляє заготовку або виріб двох ступенів свободи

Упорна база - база, яка позбавляє заготовку або виріб однієї ступені свободи (рис.7д)

рис.7д. 1 – установочна база заготовки, яка позбавляє заготовку переміщення вздовж осі Z і обертання навколо осей Х і У; 11 – направляюча база заготовки яка збавляє переміщення вздовж осі У і обертання навколо осі Z; 111 – упорна база заготовки яка позбавляє переміщення вздовж осі Х;

1 – заготовка; 2- упори пристосування.

Подвійна направляюча база – база, яка позбавляє чотирьох ступенів свободи (рис.7є)

рис.7є.Подвійна направляюча база яка позбавляє переміщення вздовж осей Y i Z і повороту навколо осей Y i Z ; 1 – деталь

Подвійна опорна база – база, яка позбавляє двох ступенів свободи (рис.7ж)

рис.7ж 1 – подвійна опорна база деталі яка усуває її переміщення вздовж осей X i Y; 1 - деталь

Бази за характером прояву (рис.7з)

Скрита база – база заготовки або виробу у вигляді уявлюваної площини, осі або точки.

Явна база – база заготовки або виробу у вигляді реальної поверхні, риски або точки перетину рисок

рис.7з 1 – установочна явна база заготовки; 11 – направляюча скрита база заготовки; 111 – скрита опорна база заготовки; 1 – 6 – опорні точки; 7 – заготовка; 8 – губки самоцентрувальних лещат.