Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Физика полупроводниковых систем. Основные понятия

.pdf
Скачиваний:
0
Добавлен:
08.09.2026
Размер:
2 Мб
Скачать
☆
Полупроводниковые приборные структуры 261
# Электрические переключатели Овшинского
Пороговые переключатели С. Овшинского (1968 г.) обычно со­стоят из химически осажденной из газовой фазы пленки халь­когенидного стекла (As2Se3; Ge2Sb2Te5и др.) толщиной ≈ 1 мкм между двумя плоскими электродами из молибдена или графита.
Переключение
Переключение
Возврат
Включено
Сила тока
Типичные вольт-амперные характеристики электрических переключате­лей: а) без запоминания электропроводящего состояния, б) с запомина­нием электропроводящего состояния
Порог
Сила тока
Выключено
Электрическое напряжениеЭлектрическое напряжение
а) б)
Порог
а) Переключение пленки в электропроводящее состояние про­исходит при увеличении приложенного к ней поперечного элек­трического напряжения. Это состояние пленки достигается тогда, когда все присутствующие в ней положительно и отрицательно заряженные ловушки (дефекты структуры) заполнятся (нейтрали­зуются) инжектированными в пленку электронами и/или дырка­ми. Заполнение ловушек приводит к резкому увеличению време­ни жизни инжектируемых из электродов в пленку носителей тока приложенным к ней электрическим полем. Если до заполнения ло­вушек оно было много меньше времени, за которое носители тока успевают пересечь всю толщину пленки, то после заполнения ло­вушек оно становится много больше этого времени. Переключение в непроводящее состояние происходит, когда плотность тока через пленку падает ниже критического значения.
б) Переключатель, в котором электропроводящее состояние со­храняется после снятия порогового электрического напряжения. Непроводящее состояние может быть восстановлено только про­пусканием сквозь пленку большого импульса тока. Стеклообраз­ные материалы в переключателях с запоминанием под действи­ем внешнего порогового электрического поля обладают свойством формировать внутри себя нити и/или кластеры с металлическим типом электрической проводимости (на постоянном токе).
262 Глава 14
# Фотодиод и солнечный элемент на p–n-переходе
E
E
E
c
v
n-тип
ћω
v-зона
E
l
−
e
c-зона
E
g
I
l
+
I
R
s
R
U
p
I
l
−
+
h
p-тип
E
in
I
1
I
0
s
x
I
r
2
06 r < ∞
U
0
а) б) в)
R
s
r
R
p
I
U
а) Зонная диаграмма (зависимость в одноэлектронном прибли­жении энергии E электрона от его координаты x) для p–n-перехода при освещении; энергия фотона ћω больше ширины запрещенной энергетической щели Eg= Ec−Ev. Электрическое поле напряжен­ностью Einв двойном электрическом слое обусловлено разностью химических потенциалов электронов p- и n-областей полупровод­ника за счет их легирования акцепторами и донорами. Поле E возникает вследствие разделения фотогенерированных (неравно­весных) электронов (e−) и дырок (h+) вдоль оси x полем Ein.
б) Статическая вольт-амперная характеристика фотодиода (1 — темновая, 2 — при освещении). Эквивалентная схема включает: источник (генератор) фототока Il, последовательное сопротивле­ние Rs(определяется степенью легирования), параллельное сопро­тивление Rp(обусловлено токами утечки). Сила тока I , разность потенциалов U , создаваемая на фотодиоде внешним источником, и фототок Ilудовлетворяют уравнению
e(U −I Rs)
ζkBT
= ln1 +
(I + Il)
I
s
(U − I Rs)
−
IsR
,
p
где e — элементарный заряд, ζ > 1 — фактор неидеальности p–n­перехода, kBT — тепловая энергия, Is— ток насыщения.
в) Эквивалентная схема солнечного элемента, представляюще­го собой фотодиод в вентильном (фотогальваническом) режиме работы. Ток Irчерез активную нагрузку r, разность потенциалов
Urна ней и фототок Ilсвязаны уравнением:
Ir= Il− I
e(Ur+ IrRs)
exp
s
ζkBT
− 1−
(Ur+ IrRs)
R
p
.
В резисторе r при облучении p–n-перехода светом выделяется теп­ловая мощность IrUr= U
2
/r.
r
r
r
l
Полупроводниковые приборные структуры 263
# Электронные переходы в пространстве “энергия – волновой вектор” и “энергия–координата”. N-образные зависимости плот-
ности тока J = (Jx, Jy, Jz) от напряженности электрического поля E = (Ex, Ey, Ez) в полупроводниковых приборных структурах
а)
Энергия электрона E
Ec(k)
E
F
E
g
2
h
Ev(k)
0
Волновой вектор k
+
c-зона
1
v-зона
−
e
x
n-GaAs
E
x
Электрод
(омический контакт)
kx-переходы
Плотность тока J
0
x
Напряженность поля E
x
а) В трехмерных кристаллах n-GaAs при стимулированных по- лем Exпереходах 1 электронов из центра зоны Бриллюэна (kx= 0) в высокоэнергетические долины c-зоны, где подвижность электро­нов меньше, наблюдается уменьшение Jxпри увеличении Ex(диод Ганна); 2 — прямой оптический или тепловой межзонный переход электрона в k-пространстве; Eg= Ec− Ev— ширина запрещенной энергетической зоны при kx= 0; EF— уровень Ферми.
б)
Энергия электрона E
1
E
F
2
+
h
Координата y
−
e
∆g> E
Ec(y)
g
Ev(y)
x
n-GaAs
AlνGa
1−ν
As
Плотность тока J
0
Напряженность поля E
z
y
x
y-переходы
x
б) Поле Exвдоль квазидвумерного слоя n-GaAs вызывает разо- грев и делокализацию электронов c-зоны по всей гетероструктуре. Дрейфовая подвижность электронов в c-зоне AlνGa
As меньше,
1−ν
чем в c-зоне GaAs, и переходы 1 ведут к N-образной зависимости Jxот Ex(диод Хесса); 2 — вертикальный переход электрона из v-
в c-зону. (Энергетическая щель ∆gкристаллического слоя GaAs шире запрещенной зоны Egтрехмерного кристалла GaAs.)
264 Глава 14
PSfrag replacements
# Мемристор — резистор с памятью. Четыре физические вели- чины (заряд Q, электрическое напряжение U, сила тока I, магнит­ный поток Φ) характеризуют состояния электрической и/или маг­нитной цепи. Они могут быть соотнесены друг с другом шестью возможными способами. Для пяти из этих соотношений имеются физические законы (dU = R dI , dQ = C dU, dΦ = L dI , dQ = I dt, dΦ = −U dt, где t — время) и существуют соответствующие эле- менты цепи: резистор, конденсатор и катушка индуктивности. При этом одна позиция — соотносящая заряд Q и магнитный поток Φ по закону dΦ = M dQ — осталась в этой картине без элемента цепи. Исходя из соображений симметрии, Л. Чуа (1971 г.) на ва­кантное место предложил “мемристор” — резистор с памятью.
U
Резистор
dU = R dI
I
Катушка
индуктивности
dΦ = L dI
Конденсатор
dQ = C dU
dΦ = −Udt
dQ = Idt
Мемристор
dΦ = M dQ
Φ
Q
Элементы электрической и магнитной цепей (резистор, конден­сатор, катушка индуктивности и мемристор). В отличие от элемен­тов R, C и L мемристору присуща память о своем прошлом. Это означает, что мемристор действует как резистор, у которого значе­ние “сопротивления” M изменяется в соответствии с проходящим через него зарядом, ассоциированным с магнитным потоком, при­чем это значение запоминается даже после выключения источни­ка электрического питания цепи. Вообще, мем-элементы способны подстраиваться под входные сигналы и обеспечивать такие ана­логовые возможности электрических и магнитных цепей, которые недоступны для пассивных элементов R, C и L.
Полупроводниковые приборные структуры 265
# Квантовая электрическая емкость: приборная структура с плоским двумерным слоем и ее эквивалентная схема
U
s
1
z
y
x
s
2
s
3
1
ε
1
ε
2
d
1
C2=
d
2
ε1A
C1=
d
ε2A
d
2
Эквивалентная схема
U
1
1
e2mA
Cq=
πћ
2
Если толщина заземленной металлической пластины s2площа­дью A (в плоскости xy) много больше длины экранирования (вдоль оси z), то напряженность внешнего электрического поля от источ­ника U1имеется только в диэлектрике ε1. Если же пластина s тонкая (двумерный слой), то поле проникает сквозь такой слой, так что суммарный заряд на пластинах s2и s3равен заряду на пластине s1. Статическая электрическая емкость C — коэффициент пропорциональности между накопленным зарядом Q и обусловлен­ной этим зарядом разностью потенциалов U . Дифференциальная емкость C = dQ/dU, если величина C изменяется при зарядке кон­денсатора. Для заряжаемого от внешнего источника напряжения двумерного слоя s2имеем
1
C(U)
=
dU dQ
=
dϕ
dQ
+
d(E/e)
dQ
=
1
C
b
+
1
,
Cq(U)
где ϕ — электростатический потенциал (возникает из-за электро­статического взаимодействия накопленных на обкладках s1и s зарядов), E/e — отношение энергии электрона в c-зоне двумер­ного слоя s2к элементарному заряду, Cb— геометрическая ем­кость, обусловленная электростатическим взаимодействием заря­дов на обкладках s1и s3, т. е. 1/Cb= 1/C1+ 1/C2. При заполнении электронами только первого квантового уровня энергии в слое s связь между двумерной концентрацией электронов n2и уровнем Ферми EFдля низкой температуры имеет вид: n2= (m/πћ2)EF, где m — эффективная масса электрона, ћ = h/2π — постоянная План- ка. Если заполнение первого квантового уровня в двумерном слое
s2происходит только под влиянием источника напряжения U1, то EF= eU1, где e — элементарный заряд, тогда электрический заряд
на пластине s2равен Q2/A = en2= (em/πћ2)eU1= (e2m/πћ2)U1, а квантовая емкость этого 2D-слоя: Cq/A = Q2/AU1= e2m/πћ2. В классическом пределе ћ → 0, и квантовая емкость Cq→ ∞.
2
3
2
PSfrag replacements
PSfrag replacements
266 Глава 14
# Полупроводниковые гетероструктуры оптоэлектроники
а) Схема испускания света n–p-диодом, содержащем квантовую
яму (QW) с меньшей, чем в n- и p-областях, энергетической щелью
Ec− Ev, вследствие излучательной рекомбинации электронов (e−)
и дырок (h+) в яме при возбуждении тока между анодом (A) и катодом (C); “+1” и “−1” — зарядовые состояния атомов примесей.
а)
б)
n-тип p-тип
c-зона
+1+1+1+1 +1+1
QW
−
e
ћω
em
C A
Ev(x)
+
Энергия электрона E
v-зона
h
Координата x
E
E
c-зона
F
E
g
ћω ћω
Ev(x)
QW
v-зона
Ec(x)
−1−1−1−1 −1−1
Ec(x)
в)
E
ћω
C
ab
v-зона
−
e
+
h
QW
Координата x
c-зона
E
g
A
Координата x
б) Пропускание фотона с энергией ћω в гетероструктуре, со- держащей квантовую яму с шириной энергетической щели Eg> ћω между двумя полупроводниками n-типа; EF— уровень Ферми.
в) Поглощение фотона квантовой ямой при приложении внеш­него электрического поля из-за эффекта Франца – Келдыша.
Полупроводниковые приборные структуры 267
# Катоды на основе кристаллического кремния
а)
EA= 4.1 эВ
Eg=1.1 эВ
Энергия электрона E
v-зона
Уровень вакуума
c-зона
ћωab>E
p-Si
g
h
e
−
+
Cs + O
E
F
EA∗<0
EA> 0
Двойной электрический слой
Уровень вакуума
Координата x
SiO
2
б)
E
−
e
p-Si
+
h
Cs + O
y
−
e
x
B
C
n+-Si n-Si
p+-poly-Si
а) Энергетическая зонная диаграмма кремниевого фотокатода с эффективным отрицательным электронным сродством. В кристал­ле p-Si электрическое поле двойного электрического слоя (сформи­рованного переходом электронов с оксида Cs+ O на p-Si) притяги­вает электроны (поднимаемые из v-зоны в c-зону фотонами с энер­гией ћωab> Eg) к поверхности и способствует их выходу в ваку­ум. Вблизи поверхности энергетические зоны изогнуты вниз (элек­трическое поле ускоряет фотоэлектроны). Снижение электронного сродства (EA) приводит к тому, что, хотя EA > 0, уровень вакуума (энергия покоящегося электрона в вакууме) оказывается ниже дна c-зоны в объеме кремния p-типа. Это соответствует эффективному отрицательному электронному сродству EA∗< 0 фотокатода.
б) Сечение p–n-диода в плоскости xy. Электроны из эмиттера E (n+-Si) инжектируются в эпитаксиально выращенный на n-Si слой p-Si (база B с кольцевым контактом из p+-poly-Si). Малая часть электронов рекомбинирует с дырками, а остальные сквозь диск из оксида Cs + O выходят в вакуум и движутся к коллектору C.
Приложение. Начала статистической термодинамики и квантовой механики
# Часть Вселенной, выделенная для исследования, называется си­стемой, а все остальное — окружающей средой. Система — це-
лое, состоящее из частей, — может взаимодействовать с окружа­ющей ее средой следующими способами: диффузионным (обмен частицами), тепловым (обмен теплом) и силовым (совершение ра­боты). Систему можно тоже разделить на систему и среду и так далее. Окружающую среду называют также резервуаром (в част­ности, термостатом, маностатом).
# Состояние системы определяется совокупностью ее свойств (на­бором независимых принципиально наблюдаемых (измеряемых) величин, необходимых и достаточных для исчерпывающей харак­теристики системы). Микроскопическое состояние (или микросо- стояние) — состояние, для которого указано возможно полное, детальное состояние каждой частицы (структурной единицы) си­стемы. Допустимое микросостояние — это любое микросостоя­ние системы, которое совместимо с ее макроскопическим состоя­нием, задаваемым, например, объемом, давлением, температурой, числом и сортом частиц, энергией, “химическими” потенциалами частиц системы и т. д. Иными словами, каждое допустимое микро­состояние системы должно быть согласовано с макроскопической обстановкой (средой), в которой находится система. Состояние, в котором система может находиться неопределенно долгое время, называется равновесным. Когда в рамках квантовой механики описывают состояние одной частицы в многочастичной системе, то вместо термина “состояние” используют термин “орбиталь”.
# Степени свободы системы определяются как возможные неза- висимые изменения ее состояния. Степени свободы, не связанные с перемещением в пространстве центра масс системы и ее враще­нием как целого, называются внутренними.
# Число параметров, необходимых и достаточных для однозначно­го определения стационарного состояния системы, зависит от си­стемы и наложенных на нее пространственных и временн´ых огра­ничений. В зависимости от условий, в которых находится система, одна и та же величина может быть как внешним, так и внутрен­ним параметром. Пусть системой является газ в замкнутом сосуде
268
Начала статистической термодинамики и квантовой механики 269
с поршнем. Если положение поршня фиксировано, то объем V яв­ляется внешним параметром, а давление P — внутренним парамет­ром, так как зависит от координат и импульсов частиц системы. Если поршень двигается так, что давление остается постоянным, то давление P является внешним параметром, а объем V — внут­ренним параметром, так как объем определяется состоянием систе­мы. Вообще, различие между внешними и внутренними парамет­рами зависит от того, где проводится граница между системой и окружающей ее средой (резервуаром). Одним из параметров состо­яния является количество частиц (например, молекул) N 1 ве­щества, содержащегося в системе. Внутренние параметры, пропор­циональные N, называются экстенсивными (энтропия S, энергия E, энтальпия). Внутренние параметры, не зависящие от N , назы­ваются интенсивными (абсолютная температура T, парциальный химический потенциал ζ, молярная теплоемкость, плотность ве­щества). Экстенсивные параметры характеризуют систему как це­лое, а интенсивные параметры системы принимают те же значения, что и для подсистем. [Интенсивный (от лат. intensio “усиленный, напряженный”). Экстенсивный (от лат. extensio “расширяющий”); связанный с количественным (а не качественным) изменением.]
# Правило фаз Гиббса. Фаза — это термодинамически равно- весное состояние однородной по химическому составу и свойствам части системы (вещества), отделенная от других частей (фаз) си­стемы поверхностями раздела. В определении фазы системы под­разумевается, что она состоит из большого числа атомов и/или молекул, когда проявляется их “тирания количества”. Мерой коли­чества служит число Авогадро. Воздух при лабораторных услови- ях является однофазной системой, хотя состоит из разных молекул (N2, O2, H2O), а также атомов Ar. Лед, вода и водяной пар — при­мер разных фаз одного вещества. Однако фазы не обязательно раз­личаются именно агрегатным состоянием, например графит и ал­маз — две аллотропные твердые фазы углерода. Если во внешней среде поддерживается постоянная температура, то такая же темпе­ратура устанавливается во всех фазах системы. Давление в разных фазах одинаково и равно внешнему давлению, если все поверхно­сти раздела между фазами являются (квази)плоскими. [Число сте­пеней свободы термодинамической системы (число интенсивных переменных, которым можно одновременно задать произвольные значения)] = [Число независимых переменных (параметров состо­яния системы)] − [Число независимых алгебраических уравнений
270 Приложение
их связи]. Если замкнутая термодинамическая система (вещество, находящееся в равновесии при постоянных температуре, давлении и числе атомов и/или молекул), состоит из C компонентов, имеет число степеней свободы F , то число фаз Φ в системе определяется (по Гиббсу) так: F = C + 2 − Φ > 0.
# Процесс — это эволюция состояний системы во времени. Об- ратимым называется процесс, который осуществляется таким об- разом, что при изменении направления процесса на обратное как система, так и ее ближайшее окружение могут быть возвращены в их начальные состояния без изменения в остальной части Вселен­ной. (Механизм явления) = (Состояния) + (Процессы).
# Функцией отклика называется величина, устанавливающая причинную связь (причина всегда предшествует по времени след­ствию) между воздействием на систему и его результатом (откли­ком): (Результат воздействия) = (Функция отклика) × (Воздей­ствие). Воздействие должно быть совершенно произвольной, спо­собной принимать любые наперед заданные значения величиной, а его источник не должен испытывать обратного влияния со стороны самой системы.
# Любой объект обладает энергией уже потому, что он суще- ствует, создан из чего-то. Энергию системы представляют кинети­ческая, потенциальная и внутренняя составляющие. Энергия спо­собной к распаду системы в некотором квазистационарном состоя­нии может быть определена лишь с точностью до величины поряд­ка ћ/τ, где 1/τ — вероятность распада системы в единицу времени.
# В квантовой теории электромагнитного поля в силу соотноше­ния неопределенностей число фотонов – фаза волны, δNδϕ > 1/2, фаза волны ϕ определена только в том случае, когда число со- ставляющих ее фотонов (квантов) N точно не определено.
# Положение (тезис) “тело (молекула, атом и т. д.) состоит из...” обладает сколь-нибудь отчетливым смыслом только тогда, когда тело можно с малой затратой энергии разложить на состав­ные части, энергия покоя которых заведомо больше этой затраты энергии. Сильное взаимодействие между частицами, например в атомном ядре, усложняет само понятие частицы.
# Постоянная Авогадро NA= 6.022·1023моль
−1
равна числу атомов12C, составляющих точно 12 г углерода-12. Атомная еди­ница массы (1 а.е.м. = 1.661·10
−24
г) составляет 1/12 массы ато-
ма12С. Моль определяется как количество вещества, в котором