Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

Физика полупроводниковых систем. Основные понятия

.pdf
Скачиваний:
0
Добавлен:
08.09.2026
Размер:
2 Мб
Скачать
☆
Оптические и электрические свойства полупроводниковых материалов 221
двумя объектами, когда их изображения еще не сливаются в одно изображение), определяется (Э. Аббе; 1872 г.) отношением длины световой волны λ к удвоенному показателю преломления n мате­риала: d
= λ/2n (для видимого света d
min
≈ 0.4–0.8 мкм).
min
# Антилазер — когерентный идеальный поглотитель светового излучения с определенной длиной волны. Электромагнитное излу­чение, падающее на объект, полностью поглощается в этом объ­екте, так что во внешней по отношению к объекту области отсут­ствует отраженное или рассеянное объектом излучение. Вся по­глощенная энергия излучения преобразуется в тепловую энергию. Идею антилазера предложил А. Хапалюк (1962 г.).
# Концентратор солнечного света — устройство, собирающие солнечное световое излучение (в диапазоне длин волн от 0.38 до
0.75 мкм) для повышения его интенсивности в ограниченной об­ласти пространства. На входе в атмосферу Земли интенсивность солнечного света ≈1367 Вт/м2, а на уровне моря (на экваторе) — 1020 Вт/м2. (Мощность излучения 1 Вт = 1 Дж/с.) На Земле ин­тенсивность солнечного света можно увеличить путем его концен­трации линзами и/или зеркалами. Далее повысить интенсивность света можно путем “сжатия” расходящихся от изображения сол­нечного диска лучей другим оптическим устройством, не форми­рующим изображение этого вторичного источника света. Простей­ший неизображающий концентратор солнечного света — это полая коническая воронка из металла (с зеркальной внутренней поверх­ностью): свет, попавший в воронку через большее отверстие, на­прямую или после одного-двух отражений от стенок воронки выхо­дит из воронки через меньшее отверстие. При прохождении светом воронки изображение его источника не формируется, но для цели лишь концентрации лучей света в этом нет необходимости.
# Структурный цвет — цвет материала, который в большей сте- пени определяется микро- и наноструктурой отражающей поверх­ности, чем ее химическим составом. Так, если на стеклянной пла­стине, покрытой тонким слоем серебра, создать регулярно располо­женные канавки (глубиной 170 нм, шириной 40 нм и расстоянием между канавками 180 нм), то канавки “захватывают” красный свет (длина волны 640 нм), и отражаемый белый свет воспринимается как голубой цвет (циан, сине-зеленый цвет).
# Рассеяние света на диэлектрических частицах микронных размеров. Интенсивность света, рассеянного на диэлектрической
222 Глава 12
частице (микронных размеров сферической формы), зависит от то­го, сколько раз длина волны света укладывается на диаметре ча­стицы. Если диаметр частицы равен нескольким длинам световой волны, то чередование максимумов и минимумов в диаграмме на­правленности рассеянного света становится частым. Так, при па­дении солнечного света (непрерывный спектр электромагнитного излучения в оптическом диапазоне длин волн) на “газ” частиц на­блюдатель увидит белый рассеянный свет. В этом состоит причина белого цвета молока (с шариками жидкого жира) и облаков (с ка­пельками воды и кристалликами льда).
# Три схемы антистоксовой фотолюминесценции на атомах ак- тиватора (атомах примеси) в кристаллических материалах. 1) Кас­кадный процесс последовательного поглощения фотонов уединен­ными атомами активатора приводит к заселению электронами их возбужденных состояний. Этот процесс преобладает при малых концентрациях активатора. 2) Двухфотонный процесс реализует­ся при отсутствии у атома активатора уровней энергии, разность между которыми равна энергии одиночного фотона. Одновремен­ное поглощение активатором двух фотонов, происходящее без уча­стия его реальных промежуточных возбужденных состояний, воз­можно лишь при высокой плотности возбуждающих люминесцен­цию материала фотонов. Два фотона, участвующих в возбуждении атома активатора, могут иметь разную энергию. 3) Суммирование (кумуляция) энергии фотовозбуждения нескольких атомов акти­ватора происходит в одном излучающем атоме активатора. Для реализации этой схемы антистоксового повышения энергии ис­пускаемого фотона (по сравнению с энергией поглощенного фо­тона) концентрация атомов активатора должна быть достаточно большой [чтобы обеспечить передачу энергии электронного (или электронно-колебательного) возбуждения между ближайшими по расстоянию атомами активатора].
# Полное внутреннее отражение наблюдается тогда, когда луч света переходит из материала с большим показателем преломления в материал с меньшим показателем преломления, т. е. из оптиче­ски более плотного материала в оптически менее плотный матери­ал. В этом случае угол преломленного света больше угла падаю­щего света, и при достижении угла Брюстера преломленный свет распространяется вдоль границы раздела материалов, т. е. угол преломления равен 90◦. При дальнейшем увеличении угла падения
Оптические и электрические свойства полупроводниковых материалов 223
луча, он частично проникает в оптически менее плотный материал, но затем возвращается обратно в оптически более плотный мате­риал. Глубина этого проникновения сопоставима с длиной волны отражаемого света. Таким образом, вся световая энергия, за ис­ключением малой ее доли, поглощенной оптически менее плотным материалом, отражается. Это явление используется в волоконно­оптических линях связи, перископах и др.
# Плазмоны — квазичастицы, возникающие в материалах за счет коллективных колебаний электронов c-зоны и/или дырок v­зоны, а также электронов v-зоны относительно неподвижных ион­ных остовов. Поперечная электромагнитная волна с частотой ниже плазмонной частоты отражается от материала, потому что элек­троны c-зоны (электроны проводимости) успевают экранировать электрическую компоненту волны. Поперечная электромагнитная волна с частотой выше плазмонной частоты проникает в материал, потому что электроны не успевают экранировать электрическую компоненту волны. Плазмонная частота для металлов (Ag, Al, Na) находится в ультрафиолетовой области спектра, делая их “блестя­щими” в видимом диапазоне. Возбуждать плазмоны могут толь­ко продольные электромагнитные волны, у которых электрическая компонента волны параллельна их волновому вектору. Наряду с обычными (или объемными) плазмонами существуют поверхност- ные плазмоны — плазмоны на поверхности материала и/или на границе раздела материалов при наличии там делокализованных (иначе, “свободных”) электронов.
# Поверхностный плазмонный резонанс — возбуждение коле- баний электронов на резонансной частоте поверхностного плаз- мона под действием внешней электромагнитной волны. Резонанс возникает при условии равенства импульсов поверхностного плаз­мона и параллельной поверхности компоненты вектора импульса фотона. Для наблюдения поверхностного плазмонного резонан­са используют явление полного внутреннего отражения, когда часть электромагнитной волны распространяется вдоль поверхно­сти раздела материалов и может взаимодействовать с электронами на этой поверхности. Проекция импульса фотона вдоль поверхно­сти зависит от его энергии и угла падения. Изменяя угол падения, можно добиться выполнения условия поверхностного резонанса, когда часть энергии света при полном внутреннем отражении бу­дет поглощаться плазмонами на поверхности.
224 Глава 12
# Плоские электромагнитные волны и свободные электроны
c-зоны (дырки v-зоны) в кристаллических полупроводниках
Классическая плоская
электромагнитная волна
Напряженности электричес­кого E = E0exp[−i(ωt −κκκ·r)] и магнитного H полей волны с угловой частотой ω и вол­новым вектором κκκ; i =√−1
Электрон зоны проводимости (c-зоны)
(квазиклассическое приближение)
Блоховская волновая функция электро­на c волновым вектором k в точке r кри­сталлического образца есть ψk(r) = ψB. Плотность вероятности найти электрон c-зоны в точке r равна |ψk(r)|
Поляризация Спин
Плотность энергии волны:
1 2
(εE
2 0
+ µH
2
),
0
где ε = εrε0, µ = µrµ0— ди­электрическая и магнитная проницаемости кристалла
Волновое уравнение
∇2E0= −ω2εµE0,
Энергия электрона E = E +Uim(r) — сумма его кинетической энер-
гии E гии в электростатическом поле U (r) кри­сталлической матрицы и в электростати­ческом поле Uim(r) атомов примесей
Стационарное уравнение Шредингера
−
где εµ — произведение ди­электрической и магнитной проницаемостей кристалла; D = εE, B = µH — электри­ческая и магнитная индук­ции в точке r в момент вре-
мени t; ∇2— лапласиан
где ћ — постоянная Планка, m0— мас­са электрона в вакууме, ψm— волновая функция электрона с эффективной мас­сой m в кристалле
2
(r) + U (r) +
kin
(r) и его потенциальной энер-
kin
2
ћ
∇2+ U (r) + Uim(r)ψB= EψB;
2m
0
2
ћ
−
∇2+ Uim(r)ψm= Eψm,
2m
Показатель преломления
˜
n =√εrµr— отношение
скорости света в вакууме c = 1/√ε0µ0к фазовой ско- рости волны в кристалле vr= c/√εrµ
r
Для нелегированного кристалла аналог
˜
n — потенциальная энергия U или отно- шение m/m0эффективной массы элек­трона в кристалле к массе электрона в вакууме. Для легированного кристалла аналогом˜n является U
im
Закон дисперсии: κ2= εµω2Закон дисперсии: k2= (2m/ћ2)E
Групповая скорость волны
vg= ∂ω/∂κ
κ
κ
Плотность потока энергии (усредненная за период)
Π = [E0×H0]/2
Плотность импульса: Π/v
Групповая скорость электрона
vk= ∂E
kin
Плотность электрического тока
J = (ieћ/2m)(ψ
∗
∇ψm− ψm∇ψ
m
где e — элементарный заряд
2
(Квази)импульс электрона: ћk
g
/∂(ћk)
kin
∗
),
m
Оптические и электрические свойства полупроводниковых материалов 225
# Экранирование внешнего электростатического поля в одно­родно легированном ковалентном кристаллическом полупро­воднике (приближения Дебая – Хюккеля и Шоттки – Мотта)
Электронейтральный кристаллический образец, занимающий полупространство x > 0 и содержащий в единице объема n электронов проводимости, Nd= N0+ N+1водородоподобных доноров и Na= N−1акцепторов; n + N−1= N+1.
Металлическая пластина площадью A (в плоскости yz)
−
+
Локальная связь между плотностью наведенного внешним полем объемного заряда ρ(x) и электростатическим потенциалом ϕ(x) в полупроводнике n-типа определяется из уравнения Пуассона
d2ϕ
dx
12d
=
2
dϕ
dϕ dx
2
=
−ρ(x)
ε
e
=
[n(x) + N−1−N+1(x)] =
ε
−ρ(ϕ(x))
ε
где e — элементарный заряд, ε = εrε0— диэлектрическая прони­цаемость кристаллической матрицы; ϕ(x) < 0, если ρ(x) > 0.
При слабом легировании (среднеквадратичная флуктуация тер­мической энергии ионизации доноров по кристаллу меньше тепло­вой энергии kBT) имеем: Nd/N+1(x) = 1+(N0/N+1) exp[eϕ(x)/kBT]. Для невырожденного полупроводника [уровень Ферми EF(x) =
= EF+ eϕ(x) расположен в запрещенной энергетической зоне]: n(x)/n = exp[eϕ(x)/kBT], где T — абсолютная температура.
В приближении Дебая [e|ϕ(0)|  kBT; ρ(x) = −εϕ(x)Λ
−2 D
] по­тенциал ϕ(x) = ϕ(0) exp(−x/ΛD), где длина ΛD— экранирования поля −dϕ/dx в слабо легированном невырожденном кристалле;
−2
Λ
= (e2/εkBT)(n + N0N+1/Nd) = −(1/ε)[dρ(ϕ)/dϕ]|
D
Величина ΛDопределяет плотность наведенного заряда так:
R
∞
ρ(x) dx = ε dϕ/dx|
0
= Qi/A = ΛDρ(x = 0).
x=0
ϕ=0
.
В приближении Шоттки [e|ϕ(0)|  kBT; ρ(0 6 x 6 ΛS) =
= e(Nd− Na), когда приповерхностная область образца обеднена
электронами, а концентрацией дырок в v-зоне можно пренебречь] ϕ(x) = −(e/2ε)(Nd− Na)(x − ΛS)2, где Λ
длина экранирования, Qi/A = ΛSρ(x = 0) =
2
= −2εϕ(0)/e(Nd− Na) —
S
R
∞
ρ(x) dx — плот-
0
ность наведенного заряда. Электрическая емкость образца
,
C = −dQi/dϕ(0) = εA/Λ = εA2ρ(x = 0)/Qi,
где Λ = ΛDили Λ = ΛSв соответствующих приближениях.
226 Глава 12
Ui=
U
0
ε
r
# Диэлектрические свойства неметаллических материалов в электрическом поле
а)
QL
U0=
ε0A
L
Вакуум
+Q+Q
−
−
−
+
−
d
+
−
+
+
+
−
−
+
+
−
−
+
+
−Q−Q
U0=
−
+
−
+
−
+
QL
ε0A
−
+
−
+
−
+
Диэлектрик
Диполь
Электрод площадью A с зарядом −Q
б)
(op) (ip) (ep)
Re
Im
проницаемость
Диэлектрическая
Частота
а) Схема влияния электрических диполей атомных размеров (d L) на макроскопическую разность электростатических потен­циалов Uiв плоском конденсаторе с расстоянием L
√
A между металлическим пластинами (электродами). Заряды на поверхности диэлектрика с проницаемостью εrε0частично компенсируют за­ряды на электродах, что приводит к ослаблению напряженности электрического поля в диэлектрике Ei= E0/εr= Q/Aεrε0по срав­нению с вакуумом. Макроскопическое поле Eiмежду обкладка­ми конденсатора складывается из созданного внешними зарядами первичного электрического поля напряженностью E0= U0/L и вто­ричных полей, созданных каждой молекулой диэлектрика.
б) Зависимость действительной (Re) и мнимой (Im) частей ди- электрической проницаемости εrε0от частоты приложенного элек­трического поля E0для материала с ориентационной (op), а также индуцированной ионной (ip) и электронной (ep) поляризациями. Зависимость диэлектрической проницаемости от частоты внешнего электрического поля обусловлена запаздыванием процессов уста­новления поляризации по отношению к изменению напряженности внешнего электрического поля E0и сопровождается появлением диэлектрических потерь (мнимая часть εr).
Оптические и электрические свойства полупроводниковых материалов 227
# Приближение Клаузиуса – Моссотти – Лоренца – Лоренца
При низких температурах для полупроводника с концентраци­ей водородоподобных доноров N = N0+ N+1в зарядовых состояни­ях (0) и (+1) и акцепторов в зарядовом состоянии (−1) с концен­трацией N−1= KN выполняется условие электрической нейтраль- ности: N+1= N−1, здесь K < 1 — степень компенсации доноров.
Низкочастотная диэлектрическая проницаемость связывает ло­кальное электрическое поле El, действующее на каждый поляри­зующийся атом (собственный или примесный), со средним полем
Eavв полупроводнике от внешнего источника напряжения.
Исходя из линейной суперпозиции электрических полей от ато­мов кристаллической матрицы с концентрацией Nmи поляризуе­мостью αmодного атома матрицы и от электрически нейтральных доноров с концентрацией N0= (1 − K)N и поляризуемостью α0од­ного донора в зарядовом состоянии (0), получаем
El= Eav+ [(αmNm/βm) + (α0N0/3)]El, (1)
где параметр βmучитывает симметрию кристаллической структу­ры полупроводника (βm= 3, если атомы матрицы образуют про­стую кубическую решетку или распределены хаотично); Nm N0.
Поляризуемость уединенного (одиночного) электронейтрально­го донора: α0= 18πa
3
, где aH= e2/8πεrε0Id— боровский радиус
H
орбиты “оптического” электрона донора с энергией ионизации Id;
εrε0— статическая диэлектрическая проницаемость кристалличе-
ской матрицы, ε0— электрическая постоянная. Средний радиус сферической области кристалла, приходящейся на один атом при­меси Rim≈ 0.62[(1 + K)N]
−1/3
. Использование величины εrε0в вы-
ражении для боровского радиуса aHоправдано при Rim aH.
Суммарная макроскопическая поляризованность атомов кри­сталлической матрицы и электрически нейтральных доноров есть
(αmNm+ α0N0)El= [εr(N0) −1]Eav, (2)
где εr(N0) — относительная диэлектрическая проницаемость полу­проводника (без учета поляризуемости ионов примесей).
Из (1) и (2) следует макроскопическая статическая относитель­ная диэлектрическая проницаемость примесного полупроводника
εr(N0) = 1 +
3(εr− 1)βm+ 3(εr− 1 + βm)α0N
3βm− (εr− 1 + βm)α0N
0
0
. (3)
При N0→ 0 из (3) получаем диэлектрическую проницаемость беспримесного полупроводника: εr= 1 + [αmNm/(1 −αmNm/βm)].
228 Глава 12
# Спектр поглощения (схематически) неметаллического кри- сталла, у которого переходы электронов из v-зоны в c-зону через
запрещенную зону (энергетическую щель) происходят при погло­щении света в ультрафиолетовой области
Поглощение колебаниями кристаллической решетки
Поглощение электронами (дырками) примесных атомов
Поглощение
ИК-область УФ-область Частота
Экситонное поглощение
Переходы электронов из v-зоны в c-зону
(Краевое поглощение света)
Оптические спектры кристаллов — спектры поглощения, от­ражения и рассеяния света, люминесценции и фотопроводимости, возникающие при взаимодействии электромагнитных волн опти­ческого диапазона с кристаллической структурой. Поглощение и испускание света (фотонов) при межзонных переходах электро­нов может происходить без возбуждения колебаний кристалличе­ской решетки (фононов) или с участием фононов. При межзон­ном (фундаментальном) поглощении света электрон из валентной зоны переходит через запрещенную энергетическую щель в зо­ну проводимости, и в валентной зоне кристалла образуется элек­тронная вакансия (дырка). При рекомбинации свободных или свя­занных в экситон электрона и дырки возникает люминесценция. Существуют оптические спектры, обусловленные как собственны­ми атомными дефектами кристаллической решетки (вакансиями, междоузельными атомами, дислокациями), так и примесными ато­мами. Симметрия кристаллической решетки и ее дефектов опре­деляет анизотропию оптических спектров. Окрашивание (цвет­ность) кристаллов обусловлено непоглощенной ими частью белого света. Существуют искусственные и природные кристаллические структуры, размер которых в одном, двух или трех измерениях сопоставим с дебройлевской длиной волны среднестатистического электрона в зоне проводимости и/или дырки в валентной зоне, а также расстоянием между ними при образовании экситона. Опти­ческие спектры таких структур сильно зависят от их размеров.
Оптические и электрические свойства полупроводниковых материалов 229
# Схема переходов электронов и дырок в кристалле
а)
E
E
v
Энергия электрона
а) 1 — “краевая” люминесценция (излучательная рекомбинация электро­на c-зоны с дыркой v-зоны), 2 — экситонное излучение, 3 — примесное (c-зона – уровень примеси) излучение, 4 — излучательный переход дыр­ки из v-зоны на примесный уровень, 5 — излучательная рекомбинация электрона и дырки на ловушке, 6 — внутрицентровое излучение, 7 — межпримесное излучение (рекомбинация электрона донора с энергией ионизации Edи дырки акцептора с энергией ионизации Ea)
б)
E
−
e
c
2
1
+
h
3
4
5
c-зона
6
v-зона
E
d
7
ћω
em
E
a
Пространственная координата
−
e
c
c-зона
−
1
2
E
v
Энергия электрона
+
h
e
3
+
h
4
v-зона
Пространственная координата
б) Ловушки электронов (1) и дырок (2); центры генерации (3) и реком- бинации (4) электрона c-зоны и дырки v-зоны
Донорно-акцепторная пара — две водородоподобные примеси в кристалле. Энергия фотона, испускаемого при переходе электрона с донора в зарядовом состоянии (0) на акцептор в зарядовом со­стоянии (0), есть: ћωem= Eg−Ed−Ea+e2/4πεRi, где Eg= Ec−Ev> > 0 — ширина запрещенной зоны, Ed+Ea— сумма энергий иониза­ции донора и акцептора, e2/4πεRi— модуль энергии кулоновского взаимодействия донора в зарядовом состоянии (+1) и акцептора в зарядовом состоянии (−1) после межпримесной рекомбинации электрона донора и дырки акцептора, ε = εrε0— диэлектрическая проницаемость, Ri— расстояние между ионами примесей в паре (дискретизируется периодом кристаллической решетки).
230 Глава 12
PSfrag replacements
# Экситон малого радиуса возникает при переходе одного из ато- мов (или молекул) кристалла в возбужденное электронное состо­яние и миграции этого возбуждения от одного атома к другому. Экситон большого радиуса возникает при связывании электрона и дырки, находящихся на разных атомах (или в разных элемен­тарных ячейках кристалла). В трехмерном кристалле свободный экситон может двигаться во всех трех направлениях.
−
e
a
ex
−
e
c-зона
E
c
3
E
v-зона
g
E
v
Энергия электрона E
1 2
+
h
+
h
Пространственная координата
На диаграмме “энергия – пространственная координата” элек­троны и дырки обозначены черными и светлыми кружками соот­ветственно (заполненные электронами состояния в v-зоне заштри­хованы), Ec— энергия электрона на дне c-зоны, Ev— энергия электрона на потолке v-зоны, Eg= Ec− Ev— ширина запрещен­ной зоны, 1 — переход электрона из v-зоны в c-зону, 2 — рекомби­нация электрона и дырки (переход электрона из c-зоны в v-зону), 3 — экситон с расстоянием aexмежду электроном и дыркой.
Распад экситона может сопровождаться испусканием фотона с энергией ћωex= Eg− Eex∓ ћω
, где ћ — постоянная Планка, Eg—
lat
ширина запрещенной зоны кристалла, Eex= e2/(8πεaexζ2) — энер­гия связи экситона, e — элементарный заряд, ε = εrε0— статиче­ская абсолютная диэлектрическая проницаемость кристаллической матрицы, aex= 4πεћ2/(mexe2) — радиус экситона, ζ = 1, 2, 3, ... — номер внутреннего состояния экситона (аналог главного квантово­го числа для атома водорода), mex= mnmp/(mn+ mp) — эффектив­ная масса экситона, mn— эффективная масса электрона в c-зоне,
mp— эффективная масса дырки в v-зоне, ћω
— энергия испус-
lat
каемого (−) или поглощаемого (+) при распаде экситона фонона. Если экситон распадается с испусканием фотона без участия фоно­на, то ћω
= 0. В кристалле кремния aex≈ 5 нм, Eex≈ 14.7 мэВ,
lat
в кристалле арсенида галлия aex≈ 15 нм, Eex≈ 4.2 мэВ.