![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •1 Введение 6
- •2 Проектирование элементов и кристаллов биполярных имс 19
- •3 Элементы и кристаллы имс на полевых структурах 197
- •1 Введение
- •1.1 Термины и определения предметной области
- •1.2 Классификация микросхем
- •1.3 Обозначение имс
- •1.4 Конструкции и состав имс
- •1.5 Цели и задачи изучения дисциплины
- •1.6 Этапы проектирования микросхем
- •2 Проектирование элементов и кристаллов биполярных имс
- •2.2 Состав радиоэлементов бпт имс
- •2.3 Материалы имс
- •2.3.1 Введение
- •2.3.2 Кристаллические материалы имс
- •2.4 Изоляция элементов
- •2.5 Технологические слои структур бпт имс
- •2.6 Кремниевые пластины с эпс
- •2.7 Кремниевые пластины с эпс и скрытыми слоями
- •2.8 Кремниевые пластины с полной диэлектрической изоляцией карманов
- •2.9 Арсенид галлия в производстве имс
- •2.10 Технологические варианты структур бпт
- •2.11 Параметры слоев структур бпт имс
- •2.11.1 Оценка параметров слоя
- •2.12 Проектирование бпт
- •2.12.1 Введение
- •2.12.2 Функциональные параметры бпт
- •2.12.3 Расчетные соотношения оценки параметров бпт
- •2.12.4 Проектирование топологии бпт
- •2.12.5 Объемные формы и габаритные размеры элементов имс
- •2.12.6 Межэлектродные сопротивления бпт
- •2.12.7 Зависимость коэффициента передачи от топологии
- •2.12.8 Параметры быстродействия транзистора
- •2.13 Алгоритм проектирования бпт
- •2.14 Диоды ис
- •2.14.1 Общие замечания
- •2.14.2 Структуры интегральных диодов
- •2.14.3 Топологические конфигурации диодов
- •2.14.4 Проектные параметры диодов
- •2.14.5 Схема замещения диода
- •2.14.6 Алгоритм проектирования диодов
- •2.14.7 Диоды Шоттки в структурах бпт
- •2.15 Модификации бпт специального назначения
- •2.15.1 Общие сведения
- •2.15.2 Многоэмиттерный бпт
- •2.15.3 Многоколлекторный бпт
- •2.15.4 Транзисторы с контактными переходами Шоттки
- •2.15.5 Транзисторы с продольной структурой
- •2.15.6 Транзисторы со сверхтонкой базой
- •2.15.7 Транзисторы приборов совмещенных технологий
- •2.16 Резисторы полупроводниковых имс
- •2.16.1 Общие замечания
- •2.16.2 Структуры резисторов полупроводниковых имс
- •2.16.3 Топологические конфигурации резисторов
- •2.16.4 Проектные параметры резисторов
- •2.16.5 Расчетные соотношения
- •2.16.6 Алгоритм проектирования полупроводниковых резисторов
- •2.17 Конденсаторы биполярных имс
- •2.17.1 Общие сведения
- •2.17.2 Конденсаторы на основе р-n-перехода
- •2.17.3 Конденсаторы со структурой моп
- •2.17.4 Параметры конденсаторов бпт имс
- •2.17.5 Алгоритм проектирования конденсаторов бп имс
- •2.18 Соединения и контакты бпт имс
- •2.18.1 Общие сведения
- •2.18.2 Материалы и структуры соединений и контактов
- •2.18.3 Параметры и размеры соединений и контактов
- •2.19 Базовые элементы цифровых биполярных микросхем
- •2.19.1 Введение
- •2.19.2 Элементы транзисторно-транзисторной логики
- •2.19.3 Элементы ттл с приборами Шоттки
- •2.19.4 Элементы эмиттерно-связанной логики
- •2.19.5 Элементы инжекционной логики (и2л)
- •2.19.6 Элементы и2л с диодами Шоттки
- •2.20 Кристаллы ис
- •2.20.1 Введение
- •2.20.2 План кристалла
- •2.20.3 Сокращение потерь площади рабочей кристалла
- •2.20.4 Проектирование топологии ис на бпт
- •3 Элементы и кристаллы имс на полевых структурах
- •3.1 Проектирование полевых структур
- •3.1.1 Введение
- •3.1.2 Структуры и классификация мдп-транзисторов
- •3.1.3 Вольтамперные характеристики мдп-транзистров
- •3.1.4 Параметры мдп-транзистора и расчетные соотношения
- •3.1.5 Конструкции мдп-транзисторов
- •3.1.6 Алгоритмы проектирования мдп-транзисторов имс
- •3.2 Элементы цифровых имс на мдп-транзисторах
- •3.2.1 Введение
- •3.2.2 Защита конструкций мдп-микросхем
- •3.2.3 Логический инвертор с пассивной нагрузкой мдп
- •3.2.4 Логический инвертор с активной нагрузкой мдп
- •3.2.5 Логические элементы на мдп-структурах
- •3.2.6 Совмещенные биполярнополевые структуры
- •3.2.7 Полевые элементы устройств хранения информации
- •3.2.8 Проектирование топологии ис на мдп
- •3.3 Полевые структуры с зарядовой связью
- •3.3.1 Введение
- •3.3.2 Приборы с зарядовой связью (пзс)
- •3.3.3 Варианты структур элементов пзс
- •3.3.4 Ввод и детектирование заряда в пзс
- •3.3.5 Параметры пзс
- •3.3.6 Транзисторы с зарядовой связью (тзс)
- •3.3.7 «Пожарные» мдп-цепочки
- •3.3.8 Проектирование пзс
- •Список литературы
1.2 Классификация микросхем
Микросхемы принято классифицировать по следующим признакам [1, 3]:
конструктивно-технологическому способу исполнения;
конструктивному исполнению;
по области применения;
по функциональному назначению;
по степени интеграции.
По конструктивно-технологическому признаку ИМС разделены на три группы: полупроводниковые, гибридные и прочие. К прочим относят пленочные, вакуумные, керамические, на магнитных материалах и др. Конструктивно-технологический признак отображается в системе обозначений ИМС.
По конструктивному исполнению ИМС и МСБ подразделяют на:
корпусированные ИМС,в которых кристаллы или платы помещены в защитный корпус;
бескорпусные, для которых функцию первичной защиты выполняет пленка органического или минерального покрытия.
По области применения принято классифицировать ИМС общего (коммерческого) применения и ИМС специального применения. Этот признак классификации отображается в системе обозначений ИМС. Основными отличительными показателями ИМС по данному признаку являются специализация условий эксплуатации, условий приемки готовой продукции по допускам на параметры, по надежности, по внешнему виду для ИМС специального применения. Основными градациями ИМС специального применения обычно являются:
применения в технологическом оборудовании;
применения в транспортных средствах;
применения в военной и космической технике.
Изделия общего применения характеризуются наиболее низким уровнем требований к перечисленным выше параметрам и показателям.
По функциональному назначению ИМС подразделяют на цифровые и аналоговые.
Цифровая ИМС — интегральная микросхема, предназначенная для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону дискретной функции. Частным вариантом цифровой микросхемы является логическая микросхема.
Аналоговая ИМС — интегральная микросхема, предназначенная для преобразования и обработки сигналов, изменяющихся по закону непрерывной функции. Частный вариант аналоговой ИМС — микросхема с линейной амплитудной характеристикой (линейная микросхема).
Признак функционального назначения отображается в системе обозначений ИМС.
Степень интеграции изделий машиностроения, и ИМС в частности, определяется числом элементов, объединенных в конструкции изделия. Степень интеграции количественно характеризуется коэффициентом интеграции Kи, определяемым для цифровых ИМС по формуле:
Kи = lg N, (1.1)
где N — число ЭРЭ в конструкции ИМС.
Значение Ки округляется до целого числа по общепринятым правилам при наличии дробной части в точном значении.
Степень интеграции в обозначении ИМС не отображается, однако характеризует уровень технологии на соответствующем хронологическом этапе ее развития.
В зависимости от конструктивной и функциональной сложности ИМС применяются такие определения, как:
малые интегральные схемы (МИС)—для совокупностей функциональных элементов с числом радиоэлементов до 100;
средние интегральные схемы (СИС)—для совокупностей функциональных узлов с числом радиоэлементов до 1000;
большиеинтегральные схемы (БИС)—для функциональных блоков с числом радиоэлементов до 10 000;
сверхбольшие интегральные схемы (СБИС)— для функциональных устройств с числом радиоэлементов более 10 000.
Конструктивная сложность ИМС зависит от примененных в ней активных приборов, схем базовых функциональных элементов, вида преобразуемых сигналов. По этой причине, например, ИМС на биполярных транзисторах относят к СИС, БИС, СБИС при числе элементов N в (2–5) раз меньшем, чем принято для ИМС, выполненных на приборах структуры «металл — диэлектрик — полупроводник» (МДП). Аналоговые ИМС относят к МИС, СИС, БИС, СБИС при числе элементов N в (3–6) раз меньшем, чем принято для цифровых ИМС на биполярных транзисторах и (3–30) раз меньшем — в сравнении с цифровыми ИМС на МДП-транзисторах.