![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Л.А. Торгонский
- •Содержание
- •1 Введение 6
- •2 Проектирование элементов и кристаллов биполярных имс 19
- •3 Элементы и кристаллы имс на полевых структурах 197
- •1 Введение
- •1.1 Термины и определения предметной области
- •1.2 Классификация микросхем
- •1.3 Обозначение имс
- •1.4 Конструкции и состав имс
- •1.5 Цели и задачи изучения дисциплины
- •1.6 Этапы проектирования микросхем
- •2 Проектирование элементов и кристаллов биполярных имс
- •2.2 Состав радиоэлементов бпт имс
- •2.3 Материалы имс
- •2.3.1 Введение
- •2.3.2 Кристаллические материалы имс
- •2.4 Изоляция элементов
- •2.5 Технологические слои структур бпт имс
- •2.6 Кремниевые пластины с эпс
- •2.7 Кремниевые пластины с эпс и скрытыми слоями
- •2.8 Кремниевые пластины с полной диэлектрической изоляцией карманов
- •2.9 Арсенид галлия в производстве имс
- •2.10 Технологические варианты структур бпт
- •2.11 Параметры слоев структур бпт имс
- •2.11.1 Оценка параметров слоя
- •2.12 Проектирование бпт
- •2.12.1 Введение
- •2.12.2 Функциональные параметры бпт
- •2.12.3 Расчетные соотношения оценки параметров бпт
- •2.12.4 Проектирование топологии бпт
- •2.12.5 Объемные формы и габаритные размеры элементов имс
- •2.12.6 Межэлектродные сопротивления бпт
- •2.12.7 Зависимость коэффициента передачи от топологии
- •2.12.8 Параметры быстродействия транзистора
- •2.13 Алгоритм проектирования бпт
- •2.14 Диоды ис
- •2.14.1 Общие замечания
- •2.14.2 Структуры интегральных диодов
- •2.14.3 Топологические конфигурации диодов
- •2.14.4 Проектные параметры диодов
- •2.14.5 Схема замещения диода
- •2.14.6 Алгоритм проектирования диодов
- •2.14.7 Диоды Шоттки в структурах бпт
- •2.15 Модификации бпт специального назначения
- •2.15.1 Общие сведения
- •2.15.2 Многоэмиттерный бпт
- •2.15.3 Многоколлекторный бпт
- •2.15.4 Транзисторы с контактными переходами Шоттки
- •2.15.5 Транзисторы с продольной структурой
- •2.15.6 Транзисторы со сверхтонкой базой
- •2.15.7 Транзисторы приборов совмещенных технологий
- •2.16 Резисторы полупроводниковых имс
- •2.16.1 Общие замечания
- •2.16.2 Структуры резисторов полупроводниковых имс
- •2.16.3 Топологические конфигурации резисторов
- •2.16.4 Проектные параметры резисторов
- •2.16.5 Расчетные соотношения
- •2.16.6 Алгоритм проектирования полупроводниковых резисторов
- •2.17 Конденсаторы биполярных имс
- •2.17.1 Общие сведения
- •2.17.2 Конденсаторы на основе р-n-перехода
- •2.17.3 Конденсаторы со структурой моп
- •2.17.4 Параметры конденсаторов бпт имс
- •2.17.5 Алгоритм проектирования конденсаторов бп имс
- •2.18 Соединения и контакты бпт имс
- •2.18.1 Общие сведения
- •2.18.2 Материалы и структуры соединений и контактов
- •2.18.3 Параметры и размеры соединений и контактов
- •2.19 Базовые элементы цифровых биполярных микросхем
- •2.19.1 Введение
- •2.19.2 Элементы транзисторно-транзисторной логики
- •2.19.3 Элементы ттл с приборами Шоттки
- •2.19.4 Элементы эмиттерно-связанной логики
- •2.19.5 Элементы инжекционной логики (и2л)
- •2.19.6 Элементы и2л с диодами Шоттки
- •2.20 Кристаллы ис
- •2.20.1 Введение
- •2.20.2 План кристалла
- •2.20.3 Сокращение потерь площади рабочей кристалла
- •2.20.4 Проектирование топологии ис на бпт
- •3 Элементы и кристаллы имс на полевых структурах
- •3.1 Проектирование полевых структур
- •3.1.1 Введение
- •3.1.2 Структуры и классификация мдп-транзисторов
- •3.1.3 Вольтамперные характеристики мдп-транзистров
- •3.1.4 Параметры мдп-транзистора и расчетные соотношения
- •3.1.5 Конструкции мдп-транзисторов
- •3.1.6 Алгоритмы проектирования мдп-транзисторов имс
- •3.2 Элементы цифровых имс на мдп-транзисторах
- •3.2.1 Введение
- •3.2.2 Защита конструкций мдп-микросхем
- •3.2.3 Логический инвертор с пассивной нагрузкой мдп
- •3.2.4 Логический инвертор с активной нагрузкой мдп
- •3.2.5 Логические элементы на мдп-структурах
- •3.2.6 Совмещенные биполярнополевые структуры
- •3.2.7 Полевые элементы устройств хранения информации
- •3.2.8 Проектирование топологии ис на мдп
- •3.3 Полевые структуры с зарядовой связью
- •3.3.1 Введение
- •3.3.2 Приборы с зарядовой связью (пзс)
- •3.3.3 Варианты структур элементов пзс
- •3.3.4 Ввод и детектирование заряда в пзс
- •3.3.5 Параметры пзс
- •3.3.6 Транзисторы с зарядовой связью (тзс)
- •3.3.7 «Пожарные» мдп-цепочки
- •3.3.8 Проектирование пзс
- •Список литературы
2.16.3 Топологические конфигурации резисторов
Топологические конфигурации резисторов представляют выделенные в выбранном (коллекторном, базовом или эмит-терном) слое полосы.
На
рисунке 2.56 приведен пример топологической
конфигурации резистора. Концевым
областям полосы придается одна из
показанных на рисунках (2.59 — 2.62)
графических форм. Электрическая длина
резистивной полосы зависит от наличия
и формы введенных в топологию изгибов.
Сопротивление изогнутого топологического
участка нелинейно зависит от соотношения
размеров участков изгиба. Для исключения
учета нелинейных зависимостей применяются
ограничения на соотношение размеров
изогнутого участка.
Н а б
а
б
изображенного на рисунке 2.57, б, соответствует коэффициент формы изгиба Кфизг = 4. Для изображенных форм следующий смежный уголок может быть размещен (для сохранения коэффициента формы изгиба) не ближе внешней границы изгиба (или с отступом от нее).
2.16.4 Проектные параметры резисторов
Параметрами полупроводникового резистора являются:
рабочее напряжение, Uраб;
номинальное сопротивление резистора, R;
допустимое производственное отклонение сопротивления, dR;
допустимое эксплуатационное отклонение сопротивления, dRэ;
верхняя граничная частота резистора, Fгр.
2.16.5 Расчетные соотношения
Рабочее напряжение Uраб полупроводникового резистора является своеобразным аналогом номинального напряжения для дискретных резисторов с тем отличием, что ограничительным фактором для него служит не мощность, а напряжение пробоя изоляции Uр (см.выражения (2.15–2.19)). Рабочее напряжение должно, при запасе Кз ≥ (1,5–2), удовлетворять условию
КзUраб ≥ Uр.
Сопротивление резистора определяется по формуле
R = R□ ×[ (L/a) +2 ×Kфко+ N×Kфизг],
где R — номинал сопротивления;
R□ — сопротивление квадрата резистивного слоя (поверхностное сопротивление слоя);
Kфко — коэффициент формы контактной области, определяентся по графикам рисунков 2.58–2.61 или по соответствующим, приближенным формулам вычисления;
N — число изгибов (если введены в топологию резистивной полосы);
Кфизг — коэффициент формы изгиба (3 или 5 квадратов);
L,
a — суммарная длина линейных участков
резистивной полосы между границами
уголковых изгибов и ширина резистивной
полосы соответственно.
Рисунок
2.61
Относительный производственный допуск на сопротивление резистора
dR ≈ dR□ + da + dL + dKi + dRk,
где dR□, da, dL, dKi, dRk — составляющие допуска, определяемые вкладами отклонений поверхностного сопротивления R□, ширины а, длины L, коэффициентов формы контактных областей Кi, сопротивлений контактов металл-полупроводник Rк.
Эксплуатационное отклонение сопротивления dRэ определяется температурной зависимостью сопротивления квадрата резистивного слоя. В области полной ионизации легирующей примеси температурная зависимость сопротивления квадрата резистивного слоя определяется снижением подвижности носителей заряда и толщины резистивного слоя вследствие расширения изолирующей области пространственного заряда. Изменение сопротивления в диапазоне температур –60 — +125 С можно характеризовать линейной зависимостью с температурным коэффициентом ТКС и определять по формуле
dRэ =ТКС×∆Т,
где ∆Т — температурный интервал, на котором оценивается изменение dRэ. Температурный коэффициент ТКС зависит от величины сопротивления квадрата слоя. Для распространенного варианта резистивного базового р-слоя ТКС зависит от значения сопротивления квадрата и может быть определен по формуле
ТКС = 0,16×10– 2 + 0,210– 4(R□ – 200).
Граничная частота резистора Fгр определяется по схеме замещения резистора, изображенной на рисунке 2.63.
Реальная
распределенная RC-цепь, УГО которой
изобра-жено на рисунке 2.62,а,
с приемлемой погрешностью до частот ω
≤ 1/[R(C/4)] с целью упрощения расчетных
моделей заменяется
УГО, изображенной
на рисунке 2.62, б.
В зависимости от схемного подключения
резистора вывод «Общ.» может быть
соединен или не соединен с общим выводом
схемы, где он подключен. В первом случае
обе половины емкости учитываются
раздельно на левой и правой (см. рис.
2.62, б)
сторонах включения резистора в схему.
Во втором случае, приведенная на рисунке
схема замещения, не отражает влияние
соединения по общему выводу с иными
элементами кристалла и справедлива для
одиночного резистора. Поэтому понятие
«граничная частота» для полупроводникового
резистора представляется весьма
условным. Предпочтительно характе-ризовать
полупроводниковый резистор сопротивлением
R и полной емкостью С (или постоянной
времени RC), имея в виду возможность
разделения полной емкости конденсатора
на составляющие в соответствии с рисунком
2.63. Оценка граничной частоты резистора
выполняется по формуле
Fгр = 1/(2×π×R×Cэкв),
где Cэкв — эквивалентная шунтирующая емкость резистора.