- •Навчальний посібник Частина друга
- •1. Домішкова фотопровідність
- •1.1. Особливості домішкової фотопровідності
- •1.2. Домішкова фотопровідність при наявності
- •1.3. Індукована домішкова фотопровідність
- •1.4. Кінетика індукованої домішкової фотопровідності
- •1.5. Оптична перезарядка домішкових центрів
- •2. Термостимульована релаксація електропровідності
- •2.1. Термостимульована провідність
- •2.2. Визначення параметрів рівнів прилипання
- •2.3. Термостимульоване розрядження конденсатора
- •2.4. Визначення параметрів центрів захоплення
- •2.5. Результати експериментальних досліджень
- •3. Рекомбінація нерівноважних носіїв заряду
- •3.1. Основні типи рекомбінаційних центрів
- •3.2. Міжзонна випромінювальна рекомбінація
- •3.3. Міжзонна ударна рекомбінація
- •3.4. Рекомбінація через прості локальні центри
- •3.5. Залежність часу життя носіїв заряду від
- •3.6. Залежність часу життя від інтенсивності
- •3.7. Поверхнева рекомбінація
- •3.8. Вплив поверхневої рекомбінації на
- •Список літератури
3.5. Залежність часу життя носіїв заряду від
розташування рівня Фермі та температури
при рекомбінації через локальні центри
З формули (3.44) випливає, що у випадку низького рівня збудження нерівноважних носіїв заряду час життя залежить від розташування рівня Фермі F у забороненій зоні напівпровідника та від температури.
Залежність часу життя від розташування рівня Фермі. Спочатку розглянемо залежність (F). Для однозначності візьмемо випадок, коли енергетичні рівні пасток М, які відіграють роль рівнів рекомбінаційних центрів, розташовані у верхній частині забороненої зони. Припустимо, що значення величин n0 i p0 одного порядку (n0 p0). Загальний вигляд залежностей ln від розташування рівня Фермі наведений на рис.3.5. Видно, що залежність ln0 = f(F) характеризується наявністю чотирьох чітко виражених областей.
Рис.3.5. Залежність часу життя носіїв від розташування
рівня Фермі при низькому рівні збудження.
Перша область. Сильно легований напівпровідник n-типу. Рівень Фермі розташований між рівнем ЕМ і рівнем Ес, який відповідає найнижчому рівню с-зони, тобто (Ec – EM) < F < Ec. Тоді виконуються такі співвідношення:
n0 >> p0; n0 >> n1; n0 >> p1.
При врахуванні цих нерівностей з формули (3.44) випливає, що
. (3.46)
Отже, у сильно легованому напівпровіднику n-типу величина = р0 постійна і дорівнює часові життя дірок у випадку захоплення їх пастками М, повністю заповненими електронами. Оскільки заповнені електронами всі пастки М (m = M), то при утворенні нерівноважних дірок останні будуть миттєво захоплені пастками. При цьому кожна захоплена дірка в ту ж мить забивається електроном, оскільки концентрація електронів у с-зоні дуже велика. Такий стан зберігається до того часу, поки рівень Фермі знаходиться вище рівня пасток ЕМ хоча б на декілька kT.
Друга область. Напівпровідник n-типу, але слабо легований, так що рівень Фермі розташований нижче рівня пасток ЕМ, але вище середини забороненої зони, тобто Eі < F < (Ec – EM). У цьому випадку виконуються такі співвідношення:
n0 >> p0; n0 >> p1; n0 < n1.
Тому час життя дорівнює:
. (3.47)
Із співвідношення (3.47) випливає, що при зміщенні рівня Фермі F до середини забороненої зони час життя збільшується від значення р0 за експоненційним законом, що зумовлене зменшеням концентрації електронів у с-зоні. У цьому випадку вже не всі пастки М заповнені електронами, і чим нижче опускається рівень Фермі, тим менша кількість електронів буде на рівнях М. Тому ймовірність захоплення дірок пастками М зменшується і, внаслідок цього, час життя електронно-діркових
- 61 -
пар збільшується.
Третя область. Слабо легований напівпровідник р-типу, в якому рівень Фермі розташований нижче від середини забороненої зони, але вище від величини ЕМ, відрахованої від рівня Ev: (Ev + EM) < F < Ei. Внаслідок цього виконуються такі нерівності:
p0 >> n0; p0 >> p1; n1 >> p0.
Тоді з (3.44) отримуємо для такий вираз:
. (3.48)
Звідси видно, що з наближенням рівня Фермі до v-зони та збільшенням концентрації дірок за експоненційним законом значення зменшується за цим же законом, що пояснюється наступним чином. У слабо легованому напівпровіднику р-типу майже всі пастки не заповнені електронами, і тому вони легко захоплюють нерівноважні електрони з с-зони. Але, оскільки концентрація дірок у v-зоні невелика, то частина захоплених пастками М електронів внаслідок термічного збудження знову перейде у с-зону. Зі зниженням рівня Фермі інтенсивність зворотних теплових переходів електронів у с-зону зменшується, що зумовлюється збільшенням концентрації дірок у v-зоні та збільшенням ймовірності їх рекомбінації з електронами, захопленими пастками. Тому час життя зменшується зі зниженням рівня Фермі.
Четверта область. Сильно легований напівпровідник р-типу, в якому рівень Фермі розташований поблизу валентної зони: Ev < F < (Ev + EM). У цьому випадку виконуються нерівності
p0 >> n0; p0 >> n1; p0 >> p1
і час життя нерівноважних носіїв дорівнює
. (3.49)
Отже, у сильно легованому напівпровіднику р-типу час життя нерівноважних носіїв визначається часом життя неосновних носіїв (електронів) і не залежить від розташування рівня Фермі. В такому напівпровіднику всі пастки повністю
- 62 -
вільні (не заповнені електронами), і тому кожний фотозбуджений електрон негайно захоплюється пастками М, і тієї ж миті на цю пастку захоплюється дірка, яких у v-зоні багато. Процес зворотних теплових переходів електронів з рівнів М у с-зону практично відсутній і не впливає на величину часу життя.
Температурна залежність часу життя. Розглянемо залежність часу життя нерівноважних носіїв заряду від температури для електронного напівпровідника із заданою концентрацією донорних домішок. Припустимо, що в такому напівпровіднику при збільшенні температури від абсолютного нуля спостерігаються всі три області зміни концентрації носіїв заряду (рис.3.6, а): область домішкової провідності (ділянка А), область виснаження домішок (ділянка Б), яка характеризується сталою концентрацією носіїв, і область власної провідності (ділянка В).
Рис.3.6. Температурні залежності концентрації
рівноважних носіїв заряду (а), рівня Фермі (б) і часу життя (в).
В області А рівень Фермі розташований між рівнем донорної домішки та зоною провідності (рис.3.6, б). При збільшенні температури рівень Фермі знижується до положення рівня Ed донорної домішки. Оскільки в області А для всіх температур рівень Фермі лежить вище від рівня пасток ЕМ , то концентрація електронів задовільняє такі нерівності:
- 63 -
n0 >> n1; n0 >> p0; n0 >> p1.
Тому для цієї області час життя постійний і описується виразом (3.46), якому на температурній залежності (рис.3.6, в) відповідає ділянка 1.
Подальше збільшення температури призводить до повної іонізації домішок і зниження рівня Фермі нижче рівня Еd. На цій ділянці концентрація електронів n0 у с-зоні постійна, а величина n1 збільшується зі збільшенням температури за експоненційним законом , але, як і раніше, залишається меншою від концентрації рівноважних електронів (n1 < n0). Крім цього, концентрація електронів все ще переважає концентрацію дірок р0 у v-зоні та величину р1. Тому і для цієї області час життя описується виразом (3.46) і залишається сталим (рис.3.6, в, ділянка 1).
При подальшому збільшенні температури рівень Фермі опускається нижче від рівня пасток ЕМ і прямує до середини забороненої зони (рис.3.6, б). Для цієї області, як і раніше, n0 = const, а величина n1 значно збільшується, і тому, згідно виразу (3.47), отримуємо:
. (3.50)
Отже, для цієї області температур характерним є збільшення часу життя зі збільшенням температури за експоненційним законом, яке продовжується аж до температури, при якій розпочинається власна провідність (рис.3.6, в, ділянка 2). Збільшення величини у даній області температур зумовлено зменшенням кількості електронів на рівнях М внаслідок зростання інтенсивності зворотних теплових переходів електронів з рівнів М у зону провідності, що приводить до збільшення часу життя нерівноважних дірок, який визначає час життя нерівноважних носіїв заряду.
В області власної провідності зі збільшенням температури розташування рівня Фермі практично не змінюється (рис.3.6, б), а концентрація носіїв заряду різко збільшується, і тому збільшується заповнення пасток М носіями заряду. Внаслідок
- 64 -
цього час життя зменшується. Для цієї області
. (3.51)
Тоді з (3.44) отримуємо:
. (3.52)
Якщо рівні М розташовані досить далеко від середини забороненої зони, так, що (Eg/2 – ЕМ) >> kT, то другий доданок виразу (3.52) значно менший від першого. В цьому випадку формула (3.52) набуває вигляду
. (3.53)
Виразу (3.53) на кривій ln = f(1/T) відповідає ділянка 3, яка характеризується зменшенням часу життя зі збільшенням температури (рис.3.6, в).
При подальшому збільшенні температури, коли в області власної провідності буде виконуватися нерівність (Eg/2 – ЕМ) << << kT, вираз (3.52) наближено можна записати таким чином:
. (3.54)
У цьому випадку час життя набуває сталого значення, якщо Nc = Nv. Тоді з (3.54) отримуємо
. (3.55)
Отже, якщо в області власної провідності концентрація носіїв заряду досягає дуже великих значень, то час життя визначається лише параметрами центрів захоплення і не залежить від температури (рис.3.6, в, ділянка 4).
Зауважимо, що з експериментальних вимірів концентрації електронів в області виснаження домішкових центрів можна
- 65 -
оцінити енергетичне положення рівня рекомбінації ЕМ за температурою переходу Тп від області 1 до області 2 (рис.3.6, в). За умови Т = Тп рівень F збігається з рівнем ЕМ, і тоді вираз для n0 можна записати у вигляді
. (3.56)
Звідси отримуємо:
. (3.57)
Крім цього, екстраполюючи пряму області 2 до перетину з віссю ординат на основі формули (3.50), можна визначити величину lnp0(Nc/n0). Тоді, знаючи p0 із ділянки 1, можна визначити величину lnNc/n0 і підставити отримане значення у формулу (3.57). Отже, якщо експериментально виміряна залежність ln = f(1/T) подібна до наведеної на рис.3.6, в, то можна визначити глибину залягання енергетичного рівня рекомбінаційних пасток ЕМ.