- •Введение
- •Математическое моделирование фотолитографических процессов при создании субмикронных структур и нанометровым размеров
- •Оптическая литография. Проекционная литография. Формирование изображения
- •Формирования изображения в фоторезисторе. Моделирование
- •Моделирование процесса травления фоторезистора
- •Ограничение оптической литографии
- •Математическое моделирование процессов электронной литографии
- •Теория электронной эмиссии
- •Моделирование эффекта близости при электронной литографии
- •Моделирование наносистем методами Монте-Карло
- •Генерация случайных чисел на отрезке [a, b) в соответствии с заданной функцией распределения p(X)
- •Интегрирование методом Монте-Карло
- •Приложения метода Монте-Карло к наносистемам, состоящим из нескольких частиц
- •Применение метода Монте-Карло к неравновесным задачам
- •Уравнение Ланжевена
- •Взаимодействующие системы
- •Моделирование наносистем методами молекулярной динамики
- •Принципы мд-моделирования наносистем
- •Интегрирование уравнения движения Ньютона
- •Плазмохимическое осаждение, моделирование роста покрытий в условиях бомбардировки высокоскоростными атомами
- •Моделирование кремниевых полевых нанотранзисторов с учётом квантовых эффектов
- •5.1. Физика полупроводников с пониженной размерностью
- •5.2. Экранирование электрического поля в структурах пониженной размерности
- •Определение зависимости потенциала в области пространственного заряда от координаты
- •Структура и технологии нанотранзисторов
- •Влияние электрического поля на свойства квантоворазмерных наноструктур
- •Электронный перенос в наноструктурах с критическим размером
- •Моделирование характеристик полевого баллистического нанотранзистора в тонком кремнии на изоляторе.
- •2. Квантовая модель нанотранзистора
- •3. Квантовое моделирование нанотранзисторов
- •4. Влияние зарядки окисла на характеристики транзистора с тонким слоем кремния
- •5. Влияние шероховатостей поверхности на перенос носителей в тонком слое кремния
- •6. Влияние материала затвора и подзатворного диэлектрика на характеристики транзистора
- •7. Расчет характеристик нанотранзистора
- •7. Исследование предельных величин для кремниевых полевых нанотранзисторов
- •Моделирование и методы расчета оптических наноструктур
- •Оптические свойства и кинетические эффекты в крнс
- •7. Применение систем низкой размерности
- •Список литературы
3. Квантовое моделирование нанотранзисторов
Для обеспечения устойчивости решения уравнения Шредингера используется разложение волновой функции электронов в канале по конечному числу поперечных мод.
Аггоритм включает следующие этапы моделирования.
Классическое баллистическое моделирование, основанное на самосогласованном решении уравнения Пуассона с функцией распределения Ферми-Дирака.
Решение уравнения Шредингера с использованием полученного самосогласованного потенциала для определения коэффициентов прохождения электронов вблизи уровня Ферми в контактах и распределения электронной плотности в канале.
Решение уравнения Пуассона с учетом вновь полученной электронной плотности в канале для определения самосогласованного потенциала. Итерирование с этапом 2 до достижения необходимой точности.
Вычисление тока согласно выражению Бюттикера-Ландауэра.
Используемый метод стабилизации решения уравнения Шредингера основан на весьма простом приеме. Решение уравнения Шредингера в каждом сечении канала (волновода) раскладывается в суперпозицию конечного поперечных мод, включая и затухающие моды. Далее получаются уравнения для амплитуд этих мод, которые связывают эти моды через соответствующие матричные элементы потенциала в канале. С помощью этих уравнений вычисляются трансфер-матрицы, которые связывают амплитуды мод на входе в канал с амплитудами волн на выходе из канала. Постановка соответствующих граничных условий позволяет определить искомые коэффициенты прохождения. Следует отметить, что убывание матричных элементов потенциала, созданного отдельными примесями в канале, для высших мод позволяет ограничиться их небольшим количеством для решения задачи. Конечно, необходимое их количество может быть установлено в процессе решения. Фактически используется метод, который уже давно широко применяется для расчета распространения электромагнитных волн в неоднородных волноводах.
Точная волновая функция дается решением стационарного уравнения Шредингера
, (2)
где U(x,y,z)=-qφ(x,y,z) – потенциальная энергия в канале, mx, my, mz – эффективные массы электрона в соответствующих направлениях (рис. 4).
Рис.4 Шесть долин в зоне проводимости кремния при ориентации подложки [100].
Точная волновая функция в каждом поперечном сечении канала (волновода) представляется как суперпозиция всех поперечных мод с соответствующими амплитудами
. (3)
Функции обладают свойством полноты и удовлетворяют двумерному уравнению Шредингера
. (4)
Предполагается, что функции обращаются в ноль на стенках канала ввиду высокого потенциального барьера на границе раздела Si/SiO2. Решения уравнения (4) для прямоугольного волновода являются тривиальными
, (5)
, (6)
где W – ширина канала, d – толщина канала, i=(n,m), n и m – целые числа. В этом случае функции являются реальными, ортогональными и нормированными на единицу:
, (7)
где δij – символ Кронекера.
После подстановки разложения (3) в исходное уравнение Шредингера (2), умножения его на и интегрировании его по поперечным координатам y и z получаем уравнения для амплитуд
, (8)
где
(9)
есть матричный элемент потенциала.
Мы оставляет в разложении (3) только конечное число мод. Оправданием такого ограничения является тот факт, что матричные элементы кулоновского потенциала примеси U(r) ~ 1/r для высших мод ( j=(n,m), n >> 1, m >> 1) убывают как
. (10)
Это означает, что трансформацией падающей моды i в высшие моды j можно пренебречь. Уравнения (8) решаются на однородной сетке с узлами в координатах x=xk, k=-1, 0, 1,...,N, N+1, N+2 и шагом Δx. Конечноразностная аппроксимация системы уравнений (8) есть
. (11)
То же самое в векторной форме
, (12)
где c=(ci) и ε=(εi) - вектора, U=(Uij) и A=(Aij) - матрицы. Уравнения (12) можно записать как
, (13)
где I – это единичная матрица. Решение этого уравнения есть
. (14)
Это решение связывает амплитуды c на левой границе с амплитудами на правой с помощью полной транфер-матрицы Ttot, которая является произведением трансфер-матриц в промежуточных узлах xk.
Чтобы поставить граничные условия, необходимо представить амплитуды c в двух крайних точках на левой и правой границах в виде плоских бегущих волн справа налево и слева направо. Естественно, такие условия могут быть поставлены там, где потенциал перестает изменяться в пространстве («выполаживается»), т.е. достаточно глубоко в контактах:
, (15a)
, (15b)
, (15c)
, (15d)
где VD – потенциал на стоке. Для затухающих мод, которые соответствуют отрицательной продольной энергии необходимо произвести следующую подстановку в уравнения (15b) и (15d):
, (16a)
, (16b)
, (16c)
. (16d)
Для определения коэффициентов прохождения необходимо поставить следующие граничные условия на левом (L) и правом (R) контактах:
для всех и , (17a)
для всех мод, включая . (17b)
В действительности, эти условия означают, что на левую границу падает только волна i-той моды с единичной амплитудой, а на правую границу вообще волны не падают. После подстановки граничных условий (17) в уравнения (15), а затем в уравнение (14) приходим к системе линейных уравнений, из которой и получаем искомые коэффициенты прохождения в виде
. (18)
Эти коэффициенты используются в формуле Бюттикера-Ландауэра для вычисления тока.
На этом расчет еще не заканчивается. Использование выражения (13) позволяет восстановить вид волновой функции электронов в канале, следовательно, вычислить их плотность. Эта плотность будет отличаться от плотности, рассчитанной по классической баллистической модели. Новая (квантовая) плотность подставляется в уравнение Пуассона для корректировки самосогласованного потенциала. Эти итерации продолжаются вплоть до достижения требуемой точности.
Для расчета коэффициентов прохождения для примера выбраны следующие геометрические параметры структуры следующие: длина затвора 10нм, спейсеры по 5нм, толщина кремния 2нм, ширина канала 5нм, эффективная толщина подзатворного окисла 1.5нм. Легирование контактов истока и стока 1020см-3. Расчетная область включала 5нм контактов, что оказалось достаточным для правильного описания самосогласованного потенциального барьера. Потенциал выполаживался на границах области, что свидетельствовало о том, что достаточная область контактов включена в рассмотрение.
Рассчитанные коэффициенты прохождения для различных долин зоны проводимости кремния при нулевом напряжении на стоке VD =0 представлены на рисунках 5-7. В отсутствие случайных примесей в канале (рис. 5) коэффициент прохождения резко изменяется от T=0 до T≈1, когда продольная энергия начинает превышать высоту потенциального барьера. Это совершенно соответствует классическому поведению. Небольшие осцилляции коэффициента прохождения, связанные с интерференцией и квантовомеханическим отражением от самосогласованного потенциала, наблюдаются только для электронов из долин [100] и [010] (рис. 5а).
Рисунок 5а. Зависимость коэффициента прохождения от продольной энергии электронов из долин [100] и [010] в канале транзистора. Случайные примеси в канале отсутствуют.
Рисунок 5б. Зависимость коэффициента прохождения от продольной энергии электронов из долин [001] в канале транзистора. Случайные примеси в канале отсутствуют.
Интерференционные пики на зависимостях для 4 и 10 случайных примесей в канале более отчетливы для электронов из долин [100] и [010], чем из долин [001]. Это объясняется значительно меньшей массой продольного движения электронов в канале, следовательно, значительно большей длиной волны.
Следует отметить, что при указанных размерах структуры преимущественно электроны двух долин [100] дают вклад в ток, поскольку именно эти долины имеют наименьшую энергию поперечного квантования в канале.
Казалось бы, что рассчитанное поведение коэффициентов прохождения означает, что ток транзистора с учетом квантового характера продольного движения в канале транзистора может уменьшиться в 1.5-2 раза по сравнению с током, рассчитанным по классической баллистической модели.