- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования
- •2 Материалы самостоятельной работы
- •2.1 Состав понятий, определений, отношений дисциплины
- •2.2 Контрольные работы по дисциплине
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16
- •2.2.2 Работа №1б. Резисторы полупроводниковых ис
- •2.2.3 Контрольная № 2 Параметры и проектирование топологии бпт
- •Вариант 1
- •Вариант 2
- •Вариант 3
- •Вариант 4
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16.
- •Вариант 21
- •Вариант 22
- •Вариант 23
- •Вариант 24
- •Вариант 25
- •Вариант 26
- •Вариант 34
- •Вариант 35
- •Вариант 36
- •Вариант 37
- •Вариант 42
- •Вариант 50
- •Вариант 51
- •Вариант 52
- •Вариант 53
- •3 Методический материал к контрольным работам
- •3.1 Расчётные соотношения и константы работы №1а
- •Напряжение лавинного пробоя Uпроб, в:
- •Nпов – поверхностная концентрация примесей;
- •3.2 Расчётные соотношения и формы к работе №1б
- •3.3 Расчётные формы и соотношения к работе №2
- •4 Контроль знаний
- •Вопрос 2.7 Комбинированной изоляции элементов кристаллов соответствует:
- •Вопрос 3.2 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпсб:
- •Вопрос 3.3 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск:
- •Вопрос 3.4 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск со скрытым слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.5 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры квд с дополнительным скрытым легированным слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.6 Какому из перечисленных способов проектной оценки поверхностного сопротивления легированных полупроводниковых слоёв необходимы первичные сведения:
- •Вопрос 4.10 Для удовлетворения требований ко времени переключе-ния бпт выбором топологических форм и размеров необходимо:
- •Тема 5 Диоды имс, модификации бпт, элементы на бпт
- •Вопрос 5.1 Укажите структурные соединения слоёв n-p-n-бпт структуры эпсб для гальванически максимально «изолированных» от подложки диодов:
- •Вопрос 5.5 Укажите среди приведенных требования, которым должны соответствовать конструкции мэт для применения в качестве входных элементов схем ттл:
- •Вопрос 5.6 Укажите актуальные требования, которым должны соот-ветствовать конструкции многоколлекторных транзисторов (мкт) для применения в качестве элементов интегральных цифровых схем:
- •Вопрос 5.7 Укажите соответствие приведенных свойств конструкциям транзисторов и барьером Шоттки (тш) для применения в качестве элементов цифровых схем:
- •Вопрос 6.5 Структуры конденсаторов полупроводниковых микросхем представлены:
- •Вопрос 7.9 Укажите положительные качества совмещённых бпт и полевых приборов с управляемым p-n-переходом каналом для применения в конструкциях имс.
- •Вопрос 7.10 Время хранения состояния структуры пзс как регистра сдвига и памяти с последовательным доступом определяется:
- •Вопрос 7.11 Выделите корректные утверждения по конструкциям, свойствам и управлению зарядовыми приборами на транзисторах с зарядовой связью (тзс):
- •Вопрос 7.12 Выделите корректные утверждения для приборов c зарядовой связью на пожарных цепочках:
- •Тема 8 Гибридные микросхемы
- •Вопрос 8.1 Выделите корректные утверждения относительно конструкций плат гимс:
- •Вопрос 8.2 Выделите корректные утверждения относительно конструкций тонкоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.3 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.4 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций тонкоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.5 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.6 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций резисторов с подгонкой номинала гимс:
- •Вопрос 8.7 Выделите корректные утверждения относительно пара-метров конструкций плёночных катушек индуктивности гимс:
- •Вопрос 8.8 Выделите корректные утверждения относительно конструкций пассивных компонент гимс;
- •Вопрос 8.9 Выделите корректные утверждения относительно конструкций и применяемости активных компонент гимс:
- •Вопрос 8.10 Выделите корректные утверждения относительно конструкций свч имс:
- •Тема 9 Большие ис, планирование кристаллов
- •Вопрос 9.1 Степень интеграции имс это число, округлённое до целого в верхнюю сторону, равное:
- •Вопрос 9.2 Отнесение к категории больших интегральных микросхем (бис):
- •Вопрос 9.3 в производстве и проектировании бис имеют место:
- •Вопрос 9.4 Отличие перечня этапов проектирования кристаллов бис от состава этапов проектирования кристаллов более низких степеней интеграции:
- •Вопрос 9.5 Элементной базой кристаллов полузаказных цифровых бис являются:
- •Вопрос 9.6. Библиотеки и каталоги топологий элементов, топологических ячеек с наборами не соединённых радиоэлементов, логических вентилей, функциональных групп, структурных единиц устройств позволяют:
- •Вопрос 10.5. Каналы доступа агрессивных химических веществ к элементам конструкции микросхем, определяющим устойчивость и стабильность функциональных параметров микросхем:
- •Вопрос 10.6 Повышение устойчивости микросхем к действию агрессивных сред достигается:
- •Билет № 11
- •Билет № 13
- •Билет № 14
- •Билет №19
Билет № 11
1. Параметры назначения БПТ цифровых ИС. Зависимость параметров назначения от формы и размеров топологии.
2. Задача. Выполните расчет размеров тонкопленочного резистора при следующих исходных данных: R = 2,5 кОм; R□ = 0,5 кОм; R0 = 0,5 ом*мм2, R 0,15; R□ 0,06; P 200 мвт; Руд 2 вт/см2; совм ∆лин 10 мкм.
Билет № 12
1. Варианты топологических конфигураций БПТ. Алгоритм формирования топологии БПТ на этапе проектирования по критерию «заданного рабочего тока».
2. Задача. Определите максимальный ток одноэмиттерной топологии БПТ с двухсторонним базовым контактом при следующих исходных данных: R□соед. = 0,2 ом; I0 = 2 А/мм2; В = 100; R□b акт.= 1500 ом; Do = 2∙10-4 см, при отклонении плотности тока по эмиттеру не более 10%. (Do-минимальный технологический размер окна в слое).
Билет № 13
1. Топологические конфигурации БПТ. Алгоритм формирования топологии БПТ по критерию статических состояний сигнала цифровых ИС (U0, I0). Влияние структуры на параметры U0, I0.
2. Известно, что одноэмиттерная топология БПТ с односторонним полос ковым контактом к базе обеспечивает при допустимой неравномерности плотности тока по эмиттеру до 8 мА. Оцените при прочих равных условиях величину тока в трехэмиттерной топологии с симметричным двухполосковым контактом к базе.
Билет № 14
1. Алгоритм проектирования топологии БПТ. Условия порядок корректировка форм и размеров топологии.
2. Задача. Выполнено проектирование топологии БПТ на рабочий ток 8 мА. Требовалось обеспечить уровень U0 0,16 в. Проектная проверка показала, что U0 > 0,16 в при заданном токе. Как привести в соответствие требования по уровню U0? Какие резервы подлежат анализу и применению?
Билет № 15
1. Выбор топологии БПТ по критерию заданного быстродействия для цифровых ИС. Основные ограничения и компромиссы. Влияние структуры на параметры быстродействия.
2. Задача. Если бы влияние коллекторной цепи не эмиттерную отсутствовало, то время переключения БПТ определилось бы входной и выходной схемами замещения. Определите время переключения входной цепи БПТ при следующих известных значениях: Rк= 0,5 ом; Rе = Ft/Iэ; IЭ = 5 мА; Сев = 2 пф; Rbакт.= 1500 ом; Rb пас. = 200ом; = Ik/Iэ = 0,95. (обозначения общепринятые)
Билет № 16
1. Структуры планарных диодов ИС. Сравнительная характеристика структур диодов по соответствию параметрам назначения.
2. В выходном усилителе мощности ТТЛ схемы применен смещающий уровни напряжений диод. Выходной узел усилителя расположен между катодом диода и коллектором активного транзистора. Аргументируйте выбор структуры интегрального диода.
Билет № 17
1. Топологические конфигурации диодов ИС. Выбор размеров и формирование топологических конфигураций под параметры назначения.
2. В узле опорного напряжения переключателя тока эмиттерно-связанной логики применен диод, анод которого соединен с базой БПТ переключателя тока, а катод – через резистор соединен с клеммой (– Еп). Аргументируйте выбор структуры интегрального диода.
Билет № 18
1. Структуры и топологические конфигурации резисторов п/п ИС. Схемы замещения резисторов п/п ИС. Изоляция. Общая характеристика свойств.
2. Определите емкость и граничную частоту полупроводникового резистора, изображенного на рисунке, для базового слоя ЭПСБ структуры при следующих параметрах: R□ = 250; Суд.бок. = 8000 пф/см2; Суд.основ. = 10000 пф/ см2; Хкв = 2 мкм; XR = 3 мкм; В=3L1; L=6Lo; L1=5мкМ;