![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования
- •2 Материалы самостоятельной работы
- •2.1 Состав понятий, определений, отношений дисциплины
- •2.2 Контрольные работы по дисциплине
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16
- •2.2.2 Работа №1б. Резисторы полупроводниковых ис
- •2.2.3 Контрольная № 2 Параметры и проектирование топологии бпт
- •Вариант 1
- •Вариант 2
- •Вариант 3
- •Вариант 4
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16.
- •Вариант 21
- •Вариант 22
- •Вариант 23
- •Вариант 24
- •Вариант 25
- •Вариант 26
- •Вариант 34
- •Вариант 35
- •Вариант 36
- •Вариант 37
- •Вариант 42
- •Вариант 50
- •Вариант 51
- •Вариант 52
- •Вариант 53
- •3 Методический материал к контрольным работам
- •3.1 Расчётные соотношения и константы работы №1а
- •Напряжение лавинного пробоя Uпроб, в:
- •Nпов – поверхностная концентрация примесей;
- •3.2 Расчётные соотношения и формы к работе №1б
- •3.3 Расчётные формы и соотношения к работе №2
- •4 Контроль знаний
- •Вопрос 2.7 Комбинированной изоляции элементов кристаллов соответствует:
- •Вопрос 3.2 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпсб:
- •Вопрос 3.3 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск:
- •Вопрос 3.4 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск со скрытым слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.5 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры квд с дополнительным скрытым легированным слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.6 Какому из перечисленных способов проектной оценки поверхностного сопротивления легированных полупроводниковых слоёв необходимы первичные сведения:
- •Вопрос 4.10 Для удовлетворения требований ко времени переключе-ния бпт выбором топологических форм и размеров необходимо:
- •Тема 5 Диоды имс, модификации бпт, элементы на бпт
- •Вопрос 5.1 Укажите структурные соединения слоёв n-p-n-бпт структуры эпсб для гальванически максимально «изолированных» от подложки диодов:
- •Вопрос 5.5 Укажите среди приведенных требования, которым должны соответствовать конструкции мэт для применения в качестве входных элементов схем ттл:
- •Вопрос 5.6 Укажите актуальные требования, которым должны соот-ветствовать конструкции многоколлекторных транзисторов (мкт) для применения в качестве элементов интегральных цифровых схем:
- •Вопрос 5.7 Укажите соответствие приведенных свойств конструкциям транзисторов и барьером Шоттки (тш) для применения в качестве элементов цифровых схем:
- •Вопрос 6.5 Структуры конденсаторов полупроводниковых микросхем представлены:
- •Вопрос 7.9 Укажите положительные качества совмещённых бпт и полевых приборов с управляемым p-n-переходом каналом для применения в конструкциях имс.
- •Вопрос 7.10 Время хранения состояния структуры пзс как регистра сдвига и памяти с последовательным доступом определяется:
- •Вопрос 7.11 Выделите корректные утверждения по конструкциям, свойствам и управлению зарядовыми приборами на транзисторах с зарядовой связью (тзс):
- •Вопрос 7.12 Выделите корректные утверждения для приборов c зарядовой связью на пожарных цепочках:
- •Тема 8 Гибридные микросхемы
- •Вопрос 8.1 Выделите корректные утверждения относительно конструкций плат гимс:
- •Вопрос 8.2 Выделите корректные утверждения относительно конструкций тонкоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.3 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.4 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций тонкоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.5 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.6 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций резисторов с подгонкой номинала гимс:
- •Вопрос 8.7 Выделите корректные утверждения относительно пара-метров конструкций плёночных катушек индуктивности гимс:
- •Вопрос 8.8 Выделите корректные утверждения относительно конструкций пассивных компонент гимс;
- •Вопрос 8.9 Выделите корректные утверждения относительно конструкций и применяемости активных компонент гимс:
- •Вопрос 8.10 Выделите корректные утверждения относительно конструкций свч имс:
- •Тема 9 Большие ис, планирование кристаллов
- •Вопрос 9.1 Степень интеграции имс это число, округлённое до целого в верхнюю сторону, равное:
- •Вопрос 9.2 Отнесение к категории больших интегральных микросхем (бис):
- •Вопрос 9.3 в производстве и проектировании бис имеют место:
- •Вопрос 9.4 Отличие перечня этапов проектирования кристаллов бис от состава этапов проектирования кристаллов более низких степеней интеграции:
- •Вопрос 9.5 Элементной базой кристаллов полузаказных цифровых бис являются:
- •Вопрос 9.6. Библиотеки и каталоги топологий элементов, топологических ячеек с наборами не соединённых радиоэлементов, логических вентилей, функциональных групп, структурных единиц устройств позволяют:
- •Вопрос 10.5. Каналы доступа агрессивных химических веществ к элементам конструкции микросхем, определяющим устойчивость и стабильность функциональных параметров микросхем:
- •Вопрос 10.6 Повышение устойчивости микросхем к действию агрессивных сред достигается:
- •Билет № 11
- •Билет № 13
- •Билет № 14
- •Билет №19
Вопрос 4.10 Для удовлетворения требований ко времени переключе-ния бпт выбором топологических форм и размеров необходимо:
1-уменьшить площадь эмиттера и, пропорционально связанные его размерами, размеры базовой и коллекторной областей;
2-при неизменных размерах эмиттера увеличить число активных контактов к базе и коллектору;
3- увеличить в допустимых пределах ширину эмиттера, корректируя остальные топологические размеры;
4- предельно до технологических норм сократить пассивные области топологии базы и коллектора;
Тема 5 Диоды имс, модификации бпт, элементы на бпт
Вопрос 5.1 Укажите структурные соединения слоёв n-p-n-бпт структуры эпсб для гальванически максимально «изолированных» от подложки диодов:
1-эмиттер-катод, база-коллектор- анод, подложка - общий вывод;
2-база-анод, коллектор-эмиттер- катод, подложка - общий вывод;
3-эмиттер-катод, база- анод, коллектор - нет соединения, подложка - общий вывод;
Вопрос 5.2 Определите напряжение спрямления диода на основе коллекторно-базового перехода БПТ структуры ЭПСК при следующих исходных данных: полная площадь базы при неравномерности α1≤0.1 плотности тока по базе -200 мкм2; толщина нейтрального коллекторного слоя под базой – 3 мкм при поверхностном сопротивлении – 200 Ом; плотность тока насыщения инжектирующего перехода -10-9А/см2; коэффициент не идеальности экспоненциальной модели m=1,2.
1- 0,82 В;
2- 0,70 В;
3- 0,64 В.
Вопрос 5.3 Определите рабочий ток диода на основе БПТ структуры «эмиттер-катод, база-коллектор-анод» при следующих исходных данных: полная площадь эмиттера при неравномерности α1≤0.1 плотности тока -200 мкм2; толщина нейтрального слоя базы под эмиттером – 1 мкм при поверхностном сопротивлении – 1500 Ом:
1- 0,33 mА;
2- 0,13 mА;
3- 0,23 mА.
Вопрос 5.4 Определите напряжение спрямления диода Шоттки при следующих исходных данных: полная площадь металлического контакта на n-кремнии (А=66А/см2∙˚К2, контактный барьер – 0,65 В, Т=300ºК) -200 мкм2;
рабочий ток диода ≤ 1 мА:
1- 0, 45 В;
2- 0,36 В;
3- 0, 26 В.
Вопрос 5.5 Укажите среди приведенных требования, которым должны соответствовать конструкции мэт для применения в качестве входных элементов схем ттл:
1- высокий коэффициент передачи тока эмиттера в прямом активном включении;
2- топологическая симметрия эмиттеров относительно вывода базы;
3- высокое рабочее напряжение перехода коллектор-база;
4- коэффициент передачи тока эмиттера между смежными эмиттерами не более 0,1;
5- отсутствуют ограничения на напряжение пробоя перехода эмиттер-база;
6- инверсный коэффициент передачи тока эмиттера не более 0,1.
Вопрос 5.6 Укажите актуальные требования, которым должны соот-ветствовать конструкции многоколлекторных транзисторов (мкт) для применения в качестве элементов интегральных цифровых схем:
1- близкие к равенству площадь базы и суммарная площадь коллекторов;
2-технологические структуры должны соответствовать повышению коэффициентов инжекции и переноса;
3-повышенные обратные напряжения переходов эмиттер-база и коллектор-база;
4-симметрия топологических областей коллекторов относительно инжектирующей области эмиттера;
5- низкое сопротивление открытого БПТ ключа.
Вопрос 5.7 Укажите соответствие приведенных свойств конструкциям транзисторов и барьером Шоттки (тш) для применения в качестве элементов цифровых схем:
1-ненасыщенный режим функционирования;
2-при прочих равных условиях меньшая площадь коллектора по отношению к классическому БПТ;
3-пониженное в сравнении с классическим исполнением БПТ время переключения;
4- низкий коэффициент передачи тока эмиттера в активном режиме;
5- пониженное сопротивление ТШ ключа в открытом состоянии;
Вопрос 5.8 Укажите требования, которым должны соответствовать конструкции биполярных транзисторов с продольной (торцевой) структурой (ТПС) для применения в качестве элементов цифровых интегральных схем:
1-электроды к области базы следует размещать между топологическими областями эмиттера и коллектора;
2-площадь боковой поверхности структуры эмиттера, смежной с коллекторной областью, должна превышать площадь донной поверхности эмиттера;
3- структура эмиттера должна обеспечивать эффективность инжекции по донной поверхности эмиттера выше, чем по его боковой поверхности;
4- для повышения коэффициента передачи тока из эмиттера в коллектор для ТПС следует применять квадратную топологическую форму области эмиттера.
Вопрос 5.9 При исполнении двухвходового ТТЛ элемента без усилителя мощности с порогом срабатывания ≈ 0,6-0,7 В, с токозадающим резистором в базовой цепи многоэмиттерного транзистора (МЭТ) сопротивлением 6 кОм при источнике питания 3 В оцените требуемую форму, необходимые размеры (а,b) и суммарную топологическую площадь эмиттеров (S) МЭТ, если допустимая плотность тока в эмиттере составляет 4 А/мм2:
- форма:
1 - квадратная;
2 - не квадратная;
- площадь:
3 -100 мкм2;
4 - 80 мкм2;
- размеры:
5 -5;10; мкм;
6 -5; 8; мкм;
7 - 7; 7; мкм;
Вопрос 5.10 Укажите конструктивно корректную топологию фрагмента переключающих БПТ трёхвходового ЭСЛ элемента из изображённых на рисунке;
Ответ:
1-топология 1;
2- топология 2;
3- топология 3.
Тема 6 Резисторы, конденсаторы п/п ИМС, соединения, контакты
Вопрос 6.1 При равных размерах, одинаковых формах, равных макси-мальных концентрациях примеси в слоях и типе проводимости и материале кристалла сопротивление резистора в базовом слое структуры ЭПСК превышает сопротивление в базовом слое структуры ЭПСБ:
1- нет;
2- равны;
3- да;
по причине:
4 – разных материалов легирующих примесей;
5 – разных законов распределения примесей.
Вопрос 6.2 Укажите состав вариантов конфигураций резисторов полупроводниковых микросхем с различиями:
- по форме и параметрам контактных областей:
1- нет вариантов;
2 - два варианта;
3- четыре варианта;
- наличием/отсутствием изгибов резистивной полосы:
4 – нет вариантов;
5 – две расчётные формы изгибов;
- технологическим профилем изолирующих поверхностей:
6- нет вариантов;
7– три варианта от технологии;
8- два варианта от технологии.
Вопрос 6.3 Проектными функциональными параметрами резисторов полупроводниковых микросхем являются:
1- длина;
2- рабочие напряжения изоляции резисторов;
3- габаритные размеры;
4- номинальное сопротивление;
5- размеры контактов;
6- допустимый разброс сопротивления;
7- выделяемая тепловая мощность.
Вопрос 6.4 Укажите в группах исходных данных к проектированию конструкций полупроводниковых резисторов, корректные составляющие группы:
- электрофизические параметры слоёв структуры конструкции:
1- концентрации;
2- рабочие напряжения изоляции;
3-толщины слоёв;
4-поверхностные и переходные сопротивления;
5- удельные ёмкости изоляции;
6- не требуются;
- каталог форм и профилей, размеров технологических структур:
7- толщины функциональных слоёв;
8- не требуются;
9- формы профиля поверхностей;
- функциональные параметры резистора:
10- длина;
11- рабочие напряжения резисторов;
13- габаритные размеры;
14- номинальное сопротивление;
15- размеры контактов;
16- допустимое разброс сопротивления;
- каталог топологических форм конструкций резисторов:
17- вид формы не влияет на результат;
18 - два варианта топологий;
19- четыре варианта топологий;
- технологические ограничения:
20- производственные допуски размеров;
21-производственные допуски электрофизических параметров слоёв;
23- технологические нормы электрофизических параметров и па-раметров каталога структур;
- совокупность расчётных соотношений и зависимостей:
24- для связи размеров с номиналом;
25-для связи номинала с допуском на сопротивление;
26-для связи размеров с производственным разбросом;
27- для связи номинала резистора с параметрами теплового режима;
28-для связи размеров с параметрами элементов частотно-временной модели;
29-для связи размеров с параметрами теплового режима.