![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования
- •2 Материалы самостоятельной работы
- •2.1 Состав понятий, определений, отношений дисциплины
- •2.2 Контрольные работы по дисциплине
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16
- •2.2.2 Работа №1б. Резисторы полупроводниковых ис
- •2.2.3 Контрольная № 2 Параметры и проектирование топологии бпт
- •Вариант 1
- •Вариант 2
- •Вариант 3
- •Вариант 4
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16.
- •Вариант 21
- •Вариант 22
- •Вариант 23
- •Вариант 24
- •Вариант 25
- •Вариант 26
- •Вариант 34
- •Вариант 35
- •Вариант 36
- •Вариант 37
- •Вариант 42
- •Вариант 50
- •Вариант 51
- •Вариант 52
- •Вариант 53
- •3 Методический материал к контрольным работам
- •3.1 Расчётные соотношения и константы работы №1а
- •Напряжение лавинного пробоя Uпроб, в:
- •Nпов – поверхностная концентрация примесей;
- •3.2 Расчётные соотношения и формы к работе №1б
- •3.3 Расчётные формы и соотношения к работе №2
- •4 Контроль знаний
- •Вопрос 2.7 Комбинированной изоляции элементов кристаллов соответствует:
- •Вопрос 3.2 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпсб:
- •Вопрос 3.3 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск:
- •Вопрос 3.4 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск со скрытым слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.5 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры квд с дополнительным скрытым легированным слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.6 Какому из перечисленных способов проектной оценки поверхностного сопротивления легированных полупроводниковых слоёв необходимы первичные сведения:
- •Вопрос 4.10 Для удовлетворения требований ко времени переключе-ния бпт выбором топологических форм и размеров необходимо:
- •Тема 5 Диоды имс, модификации бпт, элементы на бпт
- •Вопрос 5.1 Укажите структурные соединения слоёв n-p-n-бпт структуры эпсб для гальванически максимально «изолированных» от подложки диодов:
- •Вопрос 5.5 Укажите среди приведенных требования, которым должны соответствовать конструкции мэт для применения в качестве входных элементов схем ттл:
- •Вопрос 5.6 Укажите актуальные требования, которым должны соот-ветствовать конструкции многоколлекторных транзисторов (мкт) для применения в качестве элементов интегральных цифровых схем:
- •Вопрос 5.7 Укажите соответствие приведенных свойств конструкциям транзисторов и барьером Шоттки (тш) для применения в качестве элементов цифровых схем:
- •Вопрос 6.5 Структуры конденсаторов полупроводниковых микросхем представлены:
- •Вопрос 7.9 Укажите положительные качества совмещённых бпт и полевых приборов с управляемым p-n-переходом каналом для применения в конструкциях имс.
- •Вопрос 7.10 Время хранения состояния структуры пзс как регистра сдвига и памяти с последовательным доступом определяется:
- •Вопрос 7.11 Выделите корректные утверждения по конструкциям, свойствам и управлению зарядовыми приборами на транзисторах с зарядовой связью (тзс):
- •Вопрос 7.12 Выделите корректные утверждения для приборов c зарядовой связью на пожарных цепочках:
- •Тема 8 Гибридные микросхемы
- •Вопрос 8.1 Выделите корректные утверждения относительно конструкций плат гимс:
- •Вопрос 8.2 Выделите корректные утверждения относительно конструкций тонкоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.3 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.4 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций тонкоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.5 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.6 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций резисторов с подгонкой номинала гимс:
- •Вопрос 8.7 Выделите корректные утверждения относительно пара-метров конструкций плёночных катушек индуктивности гимс:
- •Вопрос 8.8 Выделите корректные утверждения относительно конструкций пассивных компонент гимс;
- •Вопрос 8.9 Выделите корректные утверждения относительно конструкций и применяемости активных компонент гимс:
- •Вопрос 8.10 Выделите корректные утверждения относительно конструкций свч имс:
- •Тема 9 Большие ис, планирование кристаллов
- •Вопрос 9.1 Степень интеграции имс это число, округлённое до целого в верхнюю сторону, равное:
- •Вопрос 9.2 Отнесение к категории больших интегральных микросхем (бис):
- •Вопрос 9.3 в производстве и проектировании бис имеют место:
- •Вопрос 9.4 Отличие перечня этапов проектирования кристаллов бис от состава этапов проектирования кристаллов более низких степеней интеграции:
- •Вопрос 9.5 Элементной базой кристаллов полузаказных цифровых бис являются:
- •Вопрос 9.6. Библиотеки и каталоги топологий элементов, топологических ячеек с наборами не соединённых радиоэлементов, логических вентилей, функциональных групп, структурных единиц устройств позволяют:
- •Вопрос 10.5. Каналы доступа агрессивных химических веществ к элементам конструкции микросхем, определяющим устойчивость и стабильность функциональных параметров микросхем:
- •Вопрос 10.6 Повышение устойчивости микросхем к действию агрессивных сред достигается:
- •Билет № 11
- •Билет № 13
- •Билет № 14
- •Билет №19
Вопрос 7.9 Укажите положительные качества совмещённых бпт и полевых приборов с управляемым p-n-переходом каналом для применения в конструкциях имс.
1-возможность снижения входных токов совмещённых приборов;
2-возможность повышения рабочих напряжений БПТ;
3-возможность создания инжекционно-полевого (ИПЛ) аналога И2Л со сходными ресурсами повышения степени интеграции.
Вопрос 7.10 Время хранения состояния структуры пзс как регистра сдвига и памяти с последовательным доступом определяется:
1- скоростью дрейфа носителей от передающего к принимающему электроду;
2- скоростью диффузии носителей заряда под передающим электродом;
3- длительностью паузы между импульсами продвижения заряда и не зависит от длительности импульса продвижения;
4-максимальной допустимой длительностью импульса удержания заряда в потенциальной яме под электродом.
Вопрос 7.11 Выделите корректные утверждения по конструкциям, свойствам и управлению зарядовыми приборами на транзисторах с зарядовой связью (тзс):
1-топология и размеры элементов приборов на ТЭС не отличается от топологии элементов ПЗС;
2-питание приборов на ТЭС предусматривает изменение управляю-щего напряжения только на блокирующих затворах в отличие от ПЗС;
3-топология и размеры электродов ТЭС отличаются один от другого, а в ПЗС одинаковы;
4-приборы на ТЭС уступают по быстродействию приборам на классических ПЗС;
5- ТЭС при переключении повышает размер зарядового пакета, а элемент ПЗС снижает.
6- в ТЭС нельзя изменить направление транспорта зарядового пакета.
Вопрос 7.12 Выделите корректные утверждения для приборов c зарядовой связью на пожарных цепочках:
1-время транспорта заряда через элемент цепочки не зависит от ёмкости конденсатора элемента;
2-частота следования тактовых сигналов не зависит величины ёмкости в элементе цепочки;
3- ПЗС на «пожарных цепочках» не критичны к расстоянию между смежными элементами; х
Рисунок 7.11
4- прибор на пожарных цепочках изображён на рисунке 7.11,б.
Тема 8 Гибридные микросхемы
Вопрос 8.1 Выделите корректные утверждения относительно конструкций плат гимс:
1-выбор толщины плат не зависит от её габаритных размеров;
2-плоскостные размеры плат не нормируются;
3-тепловые режимы элементов и компонентов ГИМС зависят от диэлектрической проницаемости материала платы;
4-диэлектрические свойства плат не влияют на частотные свойства элементов ГИМС;
5-температурное расширение материала плат оказывает негативное влияние на механическую прочность и стабильность параметров ГИМС при действии влаги.
Вопрос 8.2 Выделите корректные утверждения относительно конструкций тонкоплёночных резисторов гимс:
1- уменьшение толщины резистивного слоя и повышение через это номинала поверхностного сопротивления резистивной плёнки следует учитывать при согласовании размеров с технологическими допусками;
2-снижение допуска на сопротивление резистора приводит к повышению частотного потолка его применения;
3-повышение проектной мощности рассеяния плёночного резистора повышает частотный потолок применения резистора;
4-проектная площадь резистора увеличивается с уменьшением допуска на сопротивление, с уменьшением поверхностного сопротивления, и увеличением рабочего тока.
Вопрос 8.3 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных резисторов гимс:
1-конструкции этих резисторов следует исполнять в форме прямоугольных полос без изгибов;
2-частотный потолок при равных номиналах с тонкоплёночными конструкциями выше для толстоплёночных резисторов;
3-технологическое рассеяние сопротивления толстоплёночных резисторов существенно превышает этот параметр тонкоплёночных резисторов;
4-при выборе проектных размеров толстоплёночных резисторов определяющим является критерий заданной точности исполнения.
Вопрос 8.4 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций тонкоплёночных конденсаторов гимс:
1-конденсаторы тонкоплёночные ГИМС не ограничены по номиналу;
2-число обкладок тонкоплёночных не превышает двух;
3- удельная ёмкость и габариты тонкоплёночного конденсатора при выбранных материалах конструкции не зависят от рабочего напряжения;
4- для повышения добротности конденсатора на заданной частоте следует уменьшать длину и увеличивать ширину его обкладок;
5- повышением диэлектрической проницаемости изоляции обкладок при прочих равных условиях добротность конденсатора увеличивается.