![](/user_photo/2706_HbeT2.jpg)
- •Федеральное государственное бюджетное образовательное учреждение высшего профессионального образования
- •2 Материалы самостоятельной работы
- •2.1 Состав понятий, определений, отношений дисциплины
- •2.2 Контрольные работы по дисциплине
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16
- •2.2.2 Работа №1б. Резисторы полупроводниковых ис
- •2.2.3 Контрольная № 2 Параметры и проектирование топологии бпт
- •Вариант 1
- •Вариант 2
- •Вариант 3
- •Вариант 4
- •Вариант 5
- •Вариант 13
- •Вариант 14
- •Вариант 15
- •Вариант 16.
- •Вариант 21
- •Вариант 22
- •Вариант 23
- •Вариант 24
- •Вариант 25
- •Вариант 26
- •Вариант 34
- •Вариант 35
- •Вариант 36
- •Вариант 37
- •Вариант 42
- •Вариант 50
- •Вариант 51
- •Вариант 52
- •Вариант 53
- •3 Методический материал к контрольным работам
- •3.1 Расчётные соотношения и константы работы №1а
- •Напряжение лавинного пробоя Uпроб, в:
- •Nпов – поверхностная концентрация примесей;
- •3.2 Расчётные соотношения и формы к работе №1б
- •3.3 Расчётные формы и соотношения к работе №2
- •4 Контроль знаний
- •Вопрос 2.7 Комбинированной изоляции элементов кристаллов соответствует:
- •Вопрос 3.2 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпсб:
- •Вопрос 3.3 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск:
- •Вопрос 3.4 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры эпск со скрытым слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.5 Условия легирования технологических слоёв при формировании бпт структуры квд с дополнительным скрытым легированным слоем в коллекторе:
- •Вопрос 3.6 Какому из перечисленных способов проектной оценки поверхностного сопротивления легированных полупроводниковых слоёв необходимы первичные сведения:
- •Вопрос 4.10 Для удовлетворения требований ко времени переключе-ния бпт выбором топологических форм и размеров необходимо:
- •Тема 5 Диоды имс, модификации бпт, элементы на бпт
- •Вопрос 5.1 Укажите структурные соединения слоёв n-p-n-бпт структуры эпсб для гальванически максимально «изолированных» от подложки диодов:
- •Вопрос 5.5 Укажите среди приведенных требования, которым должны соответствовать конструкции мэт для применения в качестве входных элементов схем ттл:
- •Вопрос 5.6 Укажите актуальные требования, которым должны соот-ветствовать конструкции многоколлекторных транзисторов (мкт) для применения в качестве элементов интегральных цифровых схем:
- •Вопрос 5.7 Укажите соответствие приведенных свойств конструкциям транзисторов и барьером Шоттки (тш) для применения в качестве элементов цифровых схем:
- •Вопрос 6.5 Структуры конденсаторов полупроводниковых микросхем представлены:
- •Вопрос 7.9 Укажите положительные качества совмещённых бпт и полевых приборов с управляемым p-n-переходом каналом для применения в конструкциях имс.
- •Вопрос 7.10 Время хранения состояния структуры пзс как регистра сдвига и памяти с последовательным доступом определяется:
- •Вопрос 7.11 Выделите корректные утверждения по конструкциям, свойствам и управлению зарядовыми приборами на транзисторах с зарядовой связью (тзс):
- •Вопрос 7.12 Выделите корректные утверждения для приборов c зарядовой связью на пожарных цепочках:
- •Тема 8 Гибридные микросхемы
- •Вопрос 8.1 Выделите корректные утверждения относительно конструкций плат гимс:
- •Вопрос 8.2 Выделите корректные утверждения относительно конструкций тонкоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.3 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных резисторов гимс:
- •Вопрос 8.4 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций тонкоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.5 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций толстоплёночных конденсаторов гимс:
- •Вопрос 8.6 Выделите корректные утверждения относительно параметров конструкций резисторов с подгонкой номинала гимс:
- •Вопрос 8.7 Выделите корректные утверждения относительно пара-метров конструкций плёночных катушек индуктивности гимс:
- •Вопрос 8.8 Выделите корректные утверждения относительно конструкций пассивных компонент гимс;
- •Вопрос 8.9 Выделите корректные утверждения относительно конструкций и применяемости активных компонент гимс:
- •Вопрос 8.10 Выделите корректные утверждения относительно конструкций свч имс:
- •Тема 9 Большие ис, планирование кристаллов
- •Вопрос 9.1 Степень интеграции имс это число, округлённое до целого в верхнюю сторону, равное:
- •Вопрос 9.2 Отнесение к категории больших интегральных микросхем (бис):
- •Вопрос 9.3 в производстве и проектировании бис имеют место:
- •Вопрос 9.4 Отличие перечня этапов проектирования кристаллов бис от состава этапов проектирования кристаллов более низких степеней интеграции:
- •Вопрос 9.5 Элементной базой кристаллов полузаказных цифровых бис являются:
- •Вопрос 9.6. Библиотеки и каталоги топологий элементов, топологических ячеек с наборами не соединённых радиоэлементов, логических вентилей, функциональных групп, структурных единиц устройств позволяют:
- •Вопрос 10.5. Каналы доступа агрессивных химических веществ к элементам конструкции микросхем, определяющим устойчивость и стабильность функциональных параметров микросхем:
- •Вопрос 10.6 Повышение устойчивости микросхем к действию агрессивных сред достигается:
- •Билет № 11
- •Билет № 13
- •Билет № 14
- •Билет №19
Вопрос 3.6 Какому из перечисленных способов проектной оценки поверхностного сопротивления легированных полупроводниковых слоёв необходимы первичные сведения:
-тип материала;
-тип проводимости слоя;
-закон распределения примесей в слое;
-поверхностная концентрация примесей в слое;
-концентрация примесей до легирования в несущем слое;
-координаты границ легированного слоя;
-зависимости подвижности носителей заряда от концентрации:
1- графо-аналитическому;
2- аналитическому;
3- экспериментальному.
Вопрос 3.7 Укажите правильную последовательность типов p-n-переходов структуры БПТ с технологией слоёв ЭПСБ в направлении от поверхности в глубину подложки:
1- резкий, резкий, плавный;
2- квазирезкий, плавный, плавный;
3- плавный, резкий, плавный;
4- квазирезкий, плавный, плавный;
5- резкий, плавный, резкий.
Вопрос 3.8 Электрическая прочность изолирующих промежутков и слоёв характеризуется напряжением их пробоя и не зависит от:
1-критической напряжённости электрического поля на слое изоляции;
2-толщины слоя изоляции;
3-свойств материалов изолируемых электродов;
Вопрос 3.9 Напряжение лавинного пробоя резкого несимметричного p-n-перехода при слабо легированной n-области определяется по формуле:
- ε∙εo∙(Екр)2/(2q∙Nср);
- 86 ∙ ρn0,65(B);
- 40*ρn + 8*ρp (B),
- 23 ∙ ρp0,75(B).
Значение критической напряжённости в кремнии Екр составляет (2-5) 10 5 В/см.
Вопрос 3.10 Допустимая плотность тока в направленно инжектирующем р-n-переходе определяется по:
1- снижению эффективности направленной инжекции;
2- снижению полного тока через p-n-переход;
3- уменьшению полного сопротивления p-n-перехода.
Тема 4 Проектирование биполярного транзистора.
Вопрос 4.1 Укажите проектные функциональные параметры интег-рального БПТ из приведенного набора:
1- топологические размеры БПТ, мкм;
2- номинальная электрическая прочность переходов, Upi, (B);
3- входное сопротивление БПТ, Ом;
4- номинальный рабочий ток БПТ, Ip, (mA);
5- выходная мощность БПТ, Вт;
6- номинальный коэффициент передачи тока эмиттера, α ;
7- параметры слоёв структуры БПТ, Ом, мкм;
8- номинальное сопротивление БПТ, как открытого ключа, Rкл, (Ом);
9- технологические ограничения размеров топологии БПТ, мкм;
10- номинальное время переключения, Tпер, (сек).
Вопрос 4.2 Рабочие напряжения БПТ ограничиваются:
1- напряжениями пробоя переходов и коллекторной изоляции;
2- выбором концентраций примесей в слоях структуры;
3- выбором коэффициентов запаса к напряжениям пробоя;
4- выбором толщин слоёв структуры;
5- учётом коэффициентов умножения носителей в коллекторном пере-ходе;
6- уменьшением размеров топологических областей.
Вопрос 4.3 Для проектного согласования рабочего тока БПТ с площадью его инжектирующего перехода необходимо:
1- учитывать сопротивление квадрата эмиттерного слоя;
2- учитывать допустимую плотность тока в эмиттерном переходе; х
3- учитывать ширину p-n-перехода.
Вопрос 4.4 Для проектного выбора допустимого линейного размера длины эмиттера БПТ в направлении к контакту на базовой области необходимо:
1- учитывать неравномерность плотности тока по инжектирующему переходу;
2- учитывать толщину эмиттера;
3- учитывать толщину активной области базового слоя;
4- учитывать площадь эмиттера.
Вопрос 4.5 Для проектного выбора допустимого линейного размера ширины эмиттера БПТ в направлении перпендикулярном направлению тока базы от эмиттера к контакту на базовой области необходимо:
-учитывать полную площадь эмиттера;
-учитывать длину эмиттера;
-учитывать неравномерность плотности тока в подводящих провод-никах эмиттерного перехода;
Вопрос 4.6 При несоответствии допустимых линейных размеров эмиттера БПТ заданному рабочему току необходимо;
1- изменить параметры структуры;
2- применить многоэлектродные топологические конфигурации эмит-тирующей области;
3- уменьшить номинальный рабочий ток БПТ;
4- проверить и, по возможности допустить, повышенную режимную плотность тока в эмиттере.
Вопрос 4.7 Топологические формы и плоскостные размеры эмиттера и базы БПТ с вертикальной структурой:
1-определяют влияние вклада боковой поверхности слоёв эмиттера и базы в потери переноса заряда от эмиттера к коллектору;
2-не влияют на коэффициент передачи тока эмиттера в коллектор;
3-снижают коэффициент передачи тока эмиттера в коллектор от значения, определяемого по структуре, по мере повышения площади эмиттера.
Вопрос 4.8 При известной топологической форме и размерах эмиттера, топологические формы и размеры базовой и коллекторной областей определяют:
1- выбирая форму и размеры контактов к коллектору по допустимому сопротивлению БПТ в открытом состоянии, согласуя их с формой и размерами базовой области, устанавливая зазоры между топологическими границами на коллекторной области руководствуясь технологическими допусками размеров;
2- выбирая форму и размеры базовой области по значению коэф-фициента передачи тока базы БПТ;
3- выбирая форму и размеры коллекторной области по значению рабочего тока БПТ;
4- согласуя размещение, форму и размеры контактов к базе с формой и размерами эмиттера, устанавливая зазоры между топологическими границами на базовой области руководствуясь технологическими допусками размеров и влиянием продольного переноса в базе;
Вопрос 4.9 Для удовлетворения требований к номинальному сопротивлению БПТ, как открытого ключа, выбором топологических форм и размеров, необходимо оценить соответствие требованиям по сопротивлению топологии БПТ, удовлетворяющей требованиям по рабочему току, и при несоответствии:
1- уменьшить пропорционально топологические размеры эмиттера и соответствующую общую площадь БПТ по внешним границам коллектора;
2- модифицировать топологию БПТ, не уменьшая площади эмиттера, с образованием параллельных каналов для тока от эмиттера к коллекторным контактам;
3- пропорционально увеличить площадь эмиттера и соответствующую общую площадь БПТ по внешним границам коллектора;
4- увеличить в допустимых пределах ширину эмиттера, скорректиро-вать остальные топологические размеры и проверить соответствие требованию по сопротивлению.