- •Глава 3. Установки контактной сварки ……………………….32
- •Глава 4. Установки индукционного и диэлектрического
- •Электрофизической обработки…………….……………….123
- •Установки ………………… ……………………………………….…154
- •Материалов ……………………………………………………………175
- •Раздел I. Электротермические процессы и
- •Глава 1. Физико-технические основы электротермии
- •1.1. Электротермические установки и области их применения
- •1.3. Материалы, применяемые в электропечестроении
- •Глава 2. Установки нагрева сопротивлением
- •2.1. Физическая сущность электрического сопротивления
- •2.2. Нагревательные элементы
- •2.3. Установки электроотопления и электрообогрева
- •2.6. Нагрев сопротивлением жидких сред
- •2.7. Электрошлаковые установки
- •Глава 3. Установки контактной сварки
- •3.1. Физические основы электрической контактной сварки
- •3.2. Стыковая сварка
- •3.3. Точечная сварка
- •3.4. Шовная сварка
- •3.5. Электрооборудование установок контактной сварки
- •Глава 4. Установки индукционного и диэлектрического
- •4.1. Физико-технические основы индукционного нагрева
- •4.2. Индукционные плавильные установки
- •4.3. Индукционные нагревательные установки
- •4.4. Физические основы диэлектрического нагрева
- •4.5. Установки диэлектрического нагрева
- •Раздел II. Установки дугового нагрева
- •Глава 5. Основы теории и свойства дугового разряда
- •5.1. Ионизация газов. Понятие плазмы
- •5.2. Структура электродугового разряда
- •5.3. Особенности дуги переменного тока
- •5.4. Устойчивость и регулирование параметров электрической дуги
- •Глава 6. Электродуговые печи
- •6.1. Классификация дуговых печей
- •6.2. Электрооборудование дуговых печных установок
- •Глава 7. Плазменные технологические процессы и
- •7.3. Плазменные плавильные установки
- •7.4. Установки плазменной резки и сварки металлов
- •7.5. Установки плазменного нанесения покрытий
- •Глава 8.Установки дуговой электрической сварки
- •8.1. Физико-технические основы дуговой сварки
- •8.2. Источники питания дуговой сварки
- •8.3. Ручная дуговая сварка
- •8.4. Установки механизированной и автоматической сварки
- •Раздел III. Установки высокоинтенсивного
- •Глава 9. Установки электронно-лучевого нагрева
- •9.1. Физико-технические основы электронно-лучевого нагрева
- •9.2. Технологическое применение электронно-лучевого нагрева
- •Глава 10. Оптические квантовые генераторы (лазеры)
- •10.1. Основные принципы работы лазеров
- •10.2. Типы оптических квантовых генераторов
- •10.3. Основы технологии светолучевой обработки
- •Раздел IV. Установки электрохимической и
- •Глава 11. Электролизные установки
- •1.1. Основы электрохимической обработки
- •11.2 Электролиз растворов и расплавов
- •11.3 Электрооборудование электролизных производств
- •11.4. Применение электрохимической обработки материалов в машиностроении
- •11.5. Источники питания установок электрохимической обработки
- •Глава 12. Электроэрозионная обработка металлов
- •12.1. Общая характеристика и физические основы процесса
- •12.2. Параметры импульсных разрядов
- •12.3 Генераторы импульсов
- •12.5. Электроконтактная обработка
- •Глава 13. Электрохимико-механическая обработка в
- •13.1. Анодно-абразивная обработка
- •13.2. Анодно-механическая обработка
- •13.3. Оборудование электрохимико-механической обработки
- •Раздел V. Электромеханические процессы и
- •Глава 14. Установки магнитоимпульсной обработки
- •14.1. Физико-технические основы
- •14.3. Характеристика операций магнитоимпульсной обработки
- •14.4. Электромагнитные насосы
- •Глава 15. Электрогидравлическая обработка
- •15.1. Физические основы электрогидравлического эффекта
- •15.2. Технологическое использование высоковольтного разряда
- •Глава 16. Ультразвуковые электротехнологические
- •16.1. Физическая сущность ультразвуковой обработки
- •16.2. Элементы оборудования ультразвуковых установок
- •16.3. Технологическое использование ультразвуковых колебаний
- •Раздел VI. Электрокинетические методы обработки
- •Глава 17. Основы электронно-ионной технологии
- •17.1. Характеристика электронно-ионных процессов
- •17.2. Осаждение в электрическом поле
- •Глава 18. Электростатические промышленные
- •18.1. Принцип действия и устройство электрофильтров
- •18.2. Источники питания электрофильтров
Раздел II. Установки дугового нагрева
Глава 5. Основы теории и свойства дугового разряда
5.1. Ионизация газов. Понятие плазмы
Плазмой принято называть вещество, находящееся в четвертом состоянии, характеризующееся наличием нейтральных молекул и атомов, а также заряженных частиц – электронов и ионов, проводящее электрический ток и подчиняющееся законам магнитной газодинамики. В обычных условиях различные газы и их смеси (воздух, аргон, водород, гелий, углекислый газ и др.) не проводят электрический ток. Проводимость возникает тогда, когда в газовой среде помимо молекул и атомов появляются свободные заряженные частицы – электроны, положительные и отрицательные ионы и газ превращается в плазму. Для молекулярных газов первым процессом является диссоциация – образование атомов. Возникновение в газе заряженных частиц – ионизация газа – может происходить в результате его нагрева, поглощения энергии рентгеновского или ультрафиолетового излучения, космических лучей, лучей оптического квантового генератора (лазера), действия электрического поля и др.
Образование ионов требует затраты энергии извне на преодоление кулоновских сил притяжения между электроном и положительным ионом, называемой энергией (работой) ионизации , которую определяют как произведение заряда электрона на потенциал ионизации : . Потенциал ионизации атома равен разности потенциалов, которую должен пройти электрон, чтобы приобрести кинетическую энергию, достаточную для ионизации атома при соударении с ними. Численно величины и равны, если выражать в электрон-вольтах.
Работа ионизации определяет химическую активность элемента, поскольку при ионизации отрываются валентные электроны: =3,9 26 эВ и составляет: для цезия – 3,9, калия – 4,3, циркония – 6,8, железа – 7,9, водорода – 13,6, азота – 12,4, гелия – 24,6 эВ. После отрыва наиболее слабо связанного электрона от атома могут отрываться электроны, связанные сильнее. При этом образуются многократно ионизованные ионы.
Уравнение сил, действующих на частицу с массой и единичным зарядом , имеет вид:
, (5.1)
где Е – напряженность электрического поля, В/м; – масса частицы, г; v – скорость частицы, м/с: а – ускорение, м/с2.
При начальной скорости, равной нулю, скорость в момент . Пройденный путь за время :
. (5.2)
Подставляя в уравнение (5.2) значение , где U – разность потенциалов на пути , получим скорость электрона:
(5.3)
где – масса электрона; =1822 – атомная единица массы.
Фотоионизация – ионизация атомов излучением возможна лишь в том случае, если энергия фотона превышает работу ионизации :
,
здесь – частота излучения, ; – постоянная Планка; с – скорость света, м/с; – длина световой волны, м.
Так все виды ионизации: тепловое движение частиц, электрическое поле, световое излучение – повышают скорость взаимного перемещения частиц, то и наложение высокочастотного напряжения приводит к ионизации пространства.
Одновременно с процессом ионизации происходит деионизация – рекомбинация положительных и отрицательных частиц и диффузия их за пределы ионизированного объема газа.
Процесс деионизации зависит от давления и температуры и в некоторой степени определяется коэффициентом рекомбинации:
.
Таким образом, при повышении давления и понижении температуры плазма быстро деионизируется и теряет электропроводность, превращаясь в нейтральный газ. Процесс деионизации ускоряется диффузией заряженных частиц из нагретых плазменных объемов. Коэффициент диффузии
,
где – средняя скорость заряженных частиц, м/с; – длина свободного пробега, м.
Обычно количество существующих зарядов разного знака вследствие процессов ионизации и рекомбинации в объеме плазмы примерно одинаково и суммарный заряд плазмы равен нулю. Такую плазму называют квазинейтральной, т. е. почти нейтральной.
Существуют понятия равновесной и неравновесной плазмы. Плазму называют равновесной в том случае, если температуры ее компонентов - молекул, атомов, ионов и электронов – одинаковы. Такую плазму называют также изотермической. Неравновесной или неизотермической называют плазму, у которой температуры компонентов различны.