- •Глава 3. Установки контактной сварки ……………………….32
- •Глава 4. Установки индукционного и диэлектрического
- •Электрофизической обработки…………….……………….123
- •Установки ………………… ……………………………………….…154
- •Материалов ……………………………………………………………175
- •Раздел I. Электротермические процессы и
- •Глава 1. Физико-технические основы электротермии
- •1.1. Электротермические установки и области их применения
- •1.3. Материалы, применяемые в электропечестроении
- •Глава 2. Установки нагрева сопротивлением
- •2.1. Физическая сущность электрического сопротивления
- •2.2. Нагревательные элементы
- •2.3. Установки электроотопления и электрообогрева
- •2.6. Нагрев сопротивлением жидких сред
- •2.7. Электрошлаковые установки
- •Глава 3. Установки контактной сварки
- •3.1. Физические основы электрической контактной сварки
- •3.2. Стыковая сварка
- •3.3. Точечная сварка
- •3.4. Шовная сварка
- •3.5. Электрооборудование установок контактной сварки
- •Глава 4. Установки индукционного и диэлектрического
- •4.1. Физико-технические основы индукционного нагрева
- •4.2. Индукционные плавильные установки
- •4.3. Индукционные нагревательные установки
- •4.4. Физические основы диэлектрического нагрева
- •4.5. Установки диэлектрического нагрева
- •Раздел II. Установки дугового нагрева
- •Глава 5. Основы теории и свойства дугового разряда
- •5.1. Ионизация газов. Понятие плазмы
- •5.2. Структура электродугового разряда
- •5.3. Особенности дуги переменного тока
- •5.4. Устойчивость и регулирование параметров электрической дуги
- •Глава 6. Электродуговые печи
- •6.1. Классификация дуговых печей
- •6.2. Электрооборудование дуговых печных установок
- •Глава 7. Плазменные технологические процессы и
- •7.3. Плазменные плавильные установки
- •7.4. Установки плазменной резки и сварки металлов
- •7.5. Установки плазменного нанесения покрытий
- •Глава 8.Установки дуговой электрической сварки
- •8.1. Физико-технические основы дуговой сварки
- •8.2. Источники питания дуговой сварки
- •8.3. Ручная дуговая сварка
- •8.4. Установки механизированной и автоматической сварки
- •Раздел III. Установки высокоинтенсивного
- •Глава 9. Установки электронно-лучевого нагрева
- •9.1. Физико-технические основы электронно-лучевого нагрева
- •9.2. Технологическое применение электронно-лучевого нагрева
- •Глава 10. Оптические квантовые генераторы (лазеры)
- •10.1. Основные принципы работы лазеров
- •10.2. Типы оптических квантовых генераторов
- •10.3. Основы технологии светолучевой обработки
- •Раздел IV. Установки электрохимической и
- •Глава 11. Электролизные установки
- •1.1. Основы электрохимической обработки
- •11.2 Электролиз растворов и расплавов
- •11.3 Электрооборудование электролизных производств
- •11.4. Применение электрохимической обработки материалов в машиностроении
- •11.5. Источники питания установок электрохимической обработки
- •Глава 12. Электроэрозионная обработка металлов
- •12.1. Общая характеристика и физические основы процесса
- •12.2. Параметры импульсных разрядов
- •12.3 Генераторы импульсов
- •12.5. Электроконтактная обработка
- •Глава 13. Электрохимико-механическая обработка в
- •13.1. Анодно-абразивная обработка
- •13.2. Анодно-механическая обработка
- •13.3. Оборудование электрохимико-механической обработки
- •Раздел V. Электромеханические процессы и
- •Глава 14. Установки магнитоимпульсной обработки
- •14.1. Физико-технические основы
- •14.3. Характеристика операций магнитоимпульсной обработки
- •14.4. Электромагнитные насосы
- •Глава 15. Электрогидравлическая обработка
- •15.1. Физические основы электрогидравлического эффекта
- •15.2. Технологическое использование высоковольтного разряда
- •Глава 16. Ультразвуковые электротехнологические
- •16.1. Физическая сущность ультразвуковой обработки
- •16.2. Элементы оборудования ультразвуковых установок
- •16.3. Технологическое использование ультразвуковых колебаний
- •Раздел VI. Электрокинетические методы обработки
- •Глава 17. Основы электронно-ионной технологии
- •17.1. Характеристика электронно-ионных процессов
- •17.2. Осаждение в электрическом поле
- •Глава 18. Электростатические промышленные
- •18.1. Принцип действия и устройство электрофильтров
- •18.2. Источники питания электрофильтров
4.3. Индукционные нагревательные установки
Индукционные нагревательные установки (ИНУ) применяются в различных технологических процессах, и подразделяются на два основных типа: установки сквозного и поверхностного нагрева. ИНУ сквозного нагрева применяются для нагрева заготовок под последующую пластическую деформацию: ковку, штамповку, прессовку, прокатку и т. д.
В зависимости от геометрических параметров деталей и их материала источники питания ИНУ выполняют на частоту 50-10000 Гц. Выбор рабочей частоты производят таким образом, чтобы выделение теплоты происходило в слое достаточной толщины по сечению детали, нагрев считают глубинным при условии:
, (4.13)
где – радиус нагреваемой заготовки; – глубина проникновения тока в металл горячей заготовки.
Для цилиндрических стальных заготовок:
, (4.14)
где – диаметр нагреваемой заготовки, см.
Индукционный поверхностный нагрев сопровождается проявлением поверхностного эффекта и эффекта близости. Вследствие поверхностного эффекта ток в нагреваемом изделии распределяется неравномерно, наибольшая плотность тока имеет место в поверхностных слоях. Рост плотности тока от центра к поверхности проводника происходит по экспоненциальному закону, поэтому при использовании высокой частоты в поверхностных слоях можно получить большие плотности тока, обеспечивающие быстрый нагрев металла.
П оверхностный нагрев применяют для нагрева деталей под последующую термохимическую обработку (закалка, цементация, азотирование и т. п.). Схемы некоторых индукторов для поверхностного нагрева показаны на рис. 4.6, а-в.
Рис. 4.6. Технологические схемы поверхностного индукционного нагрева: 1 – индуктор; 2 – нагреваемое тело; 3 – нагретый слой изделия
Индукторы характеризуются удельной поверхностной мощностью (Вт/м2), которая зависит от частоты тока, глубины прогрева, размеров нагреваемых изделий.
Потребляемую индукционной установкой из сети активную мощность определяют через полезную мощность , идущую на нагрев деталей, и общий КПД системы:
(4.15)
где – соответственно КПД системы, индуктора, конденсаторной батареи, линии и источника питания.
Полезная мощность:
, (4.16)
где – средняя интегральная удельная теплоемкость в интервале температур Дж/(кг-К); tK и t0 – конечная и начальная температуры детали, К; g – масса одной заготовки, кг; п – число заготовок, одновременно нагреваемых в индукторе; – время нагрева, с.
Для обеспечения равномерного нагрева заготовок в индукторе его длину необходимо выбирать несколько большей длины садки .
Оптимальная частота для нагрева на заданную глубину :
, (4.17)
Электрический КПД индуктора зависит от соотношения диаметров детали , индуктора удельного сопротивления металла индуктора и заготовки , магнитной проницаемости металла заготовки:
, (4.18)
Тепловой КПД индуктора при неизменной удельной мощности падает с повышением частоты и с увеличением диаметра нагреваемой заготовки.
Коэффициент мощности системы индукторсадка и реактивная мощность конденсаторной батареи.
Коэффициент мощности системы индуктор – садка:
сosφИ= , (4.19)
где – активная и реактивная мощности садки; – активная и реактивная мощности индуктора; – реактивная мощность в зазоре между индуктором и садкой.
Реактивная мощность конденсаторной батареи (КБ) Qk6 для компенсации естественного сosφИ индукционного устройства:
(tgφИ–tgφК), (4.20)
где – его активная мощность; φК – сдвиг фаз между током и напряжением в скомпенсированном контуре.
Активные потери в КБ tg , где tg – тангенс угла диэлектрических потерь.
Коэффициент полезного действия КБ при компенсации реактивной мощности индукционного устройства:
. (4.21)
Следует отметить, что при высоких частотах и низком сosφИ потери в конденсаторах могут достигать 10–12 % мощности индуктора.