- •Ю.Ф. Адамов, а.М. Грушевский, с.П. Тимошенков Современные проблемы проектирования и технологии микроэлектронных систем
- •Часть 1
- •Оглавление
- •Введение
- •1. Технология микроэлектроники и микроэлектронные полупроводниковые приборы
- •1.1. Типовые структуры и характеристики кремниевых биполярных транзисторов
- •1.2. Пределы миниатюризации кремниевых биполярных транзисторов
- •1.3. Типовые структуры и характеристики кремниевых
- •1.4. Тиристорный эффект в комплементарных моп - схемах
- •1.5. Ударная ионизация в канале и обусловленный ею ток подложки
- •1.6. Размерные эффекты в моп - транзисторах
- •1.7. Физические ограничения размеров моп - транзисторов
- •1.8. Прогноз предельных параметров моп-транзисторов
- •1.9. Прогноз развития элементной базы микроэлектроники
- •2. Единство интегральной технологии и схемотехники
- •2.1. Интегральная схемотехника – продукт развития технологии
- •2.2. Принципы интегральной схемотехники
- •2.3. Правила масштабирования моп - транзисторов
- •Закономерности масштабирования согласно трем различным методам
- •2.4. Топологическое проектирование масштабируемых микросхем
- •2.5. Влияние сложности логических схем на характеристики системы металлизации
- •2.6. Немасштабируемые элементы структуры
- •3. Проблемы развития интегральной схемотехники для нанометровых технологий
- •3.1. Кризис схемотехники нанометровых микросхем
- •3.2. Пути унификации схемотехнических решений
- •3.3. Характеризация библиотек транзисторов, логических элементов и простых функциональных блоков
- •4. Литография
- •4.1. Основные определения
- •4.2. Фотолитография – ключевой процесс планарной технологии
- •4.3. Электронно-лучевая литография
- •4.4. Резисты – полимеры, чувствительные к облучению
- •5. Эпитаксия полупроводниковых слоев
- •5.1. Основные определения
- •5.2. Эпитаксиальное выращивание слоев кремния из парогазовой фазы
- •5.3. Молекулярно - лучевая эпитаксия
- •5.4. Развитие эпитаксиальной технологии
- •Основные характеристики диэлектрических подложек, используемых при гетероэпитаксии кремния
- •6. Процессы нанесения диэлектрических покрытий
- •6.1. Назначение диэлектрических слоев и требования к ним
- •6.2. Методы получения диэлектрических покрытий
- •6.3. Термическое окисление кремния
- •6.4. Осаждение диэлектрических пленок
- •6.5. Перспективы развития методов осаждения диэлектрических пленок
- •7. Легирование полупроводников
- •7.1. Назначение процесса легирования
- •7.2. Модели диффузии в твердом теле
- •Предельная растворимость примесей в кремнии
- •7.3 Диффузионные процессы легирования
- •8. Ионная имплантация – основной метод легирования полупроводников
- •8.1. Преимущества процесса имплантации
- •8.2. Оборудование для ионного легирования
- •8.3. Распределение пробегов ионов при имплантации
- •Значения критического угла каналирования в кремнии
- •8.4. Дефекты структуры в полупроводниках при ионном легировании
- •8.5. Отжиг дефектов и активация примеси
- •9. Плазмохимическое травление полупроводников, диэлектриков и металлов
- •9.1. Классификация процессов плазмохимического травления
- •9.2. Особенности плазмохимического травления
- •9.3. Травление кремния и металлов
- •9.4. Травление двуокиси и нитрида кремния
- •9.5. Плазмохимическое травление органических материалов
- •9.6. Производительность и управляемость процессом плазмохимического травления
- •10. Металлизированные соединения и омические контакты
- •10.1. Требования к металлизации
- •10.2. Материалы для электрических соединений
- •10.3. Омические контакты
- •10.4. Оборудование для нанесения металлических пленок
- •10.5. Методы осаждения металлов
- •10.6. Интеграция процессов металлизации
- •Характеристики металлов, применяемых для создания ок к GaAs
- •11. Интеграция технологических процессов в производственный маршрут изготовления микросхем
- •11.1. Взаимосвязь технологических процессов
- •11.2. Интеграция приборов в структуре микросхемы
- •11.3. Спецификация производственного маршрута
- •11.4. Принципы построения маршрута
- •11.5. Иерархическое построение маршрута
- •11.6. Цикличность маршрута
- •11.7. Управляемость и воспроизводимость
- •11.8. Электровакуумная гигиена
- •12. Маршрут производства и физические структуры кмоп - микросхем.
- •12.1. Применение, достоинства и недостатки кмоп - микросхем
- •12.2. Требования к структуре кмоп - микросхем
- •Параметры кмоп - структур
- •12.3. Физическая структура и маршрут изготовления быстродействующих цифровых микросхем
- •12.4. Изоляция приборов
- •12.5. Области истока, стока и контакты к «карманам»
- •12.6. Подзатворный диэлектрик
- •12.7. Затворы субмикронных моп - транзисторов
- •12.8. Контакты к поликремниевым затворам, истокам и стокам
- •12.9. Металлизация
- •13. Физические структуры и технология биполярных микросхем
- •13.1. Области применения и особенности технологии биполярных микросхем
- •13.2. Высокочастотные биполярные транзисторы
- •13.3. Высоковольтные биполярные транзисторы
- •13.5. Биполярные транзисторы в кмоп - микросхемах
- •14. Структуры и процессы формирования пассивных элементов микросхем.
- •14.1. Требования к пассивным элементам микросхем и их состав.
- •14.2. Интегральные резисторы
- •14.3. Интегральные конденсаторы
- •14.4. Интегральные индукторы
- •14.5. Пассивные элементы на основе волноводов
- •14.6. Варакторы
- •14.7. Диоды Шоттки
- •Высота барьера Шоттки б
- •15. Физические структуры микросхем на основе гетеропереходов соединений a3b5 и кремний - германий
- •15.1. Свойства гетеропереходов
- •15.2. Технология гетероструктурных микросхем
- •15.3. Биполярные транзисторы на подложках арсенида галлия
- •15.4. Полевые транзисторы с высокой подвижностью электронов
- •15.5. Гетероструктурные полевые транзисторы на основе широкозонных полупроводников
- •15.6. Микросхемы на основе гетероструктур кремний - германий
- •16. Функциональные приборы и устройства
- •16.1. Основные определения
- •16.2. Оптоэлектронные приборы
- •16.3. Акустоэлектронные приборы
- •Параметры основных пьезоэлектрических материалов
- •16.4. Микроэлектронные электромеханические устройства
- •Важнейшие свойства Si, SiC, AlN
- •Технология поверхностной микромеханики
- •Технология объемной микромеханики
- •Технология корпускулярно - лучевого формообразования
- •Химическое травление кремния при получении многослойных структур
- •Плазмохимическое травление кремниевых структур.
- •Сращивание подложек с использованием промежуточных слоев
- •Перспективы применения структур кремний – на - изоляторе в микро- , наноэлектронике и микросистемной технике
- •Методы производства кни - структур
- •Специфика технологии микроэлектромеханических устройств
- •Компоненты нано- и микросистемной техники Микроакселерометр на поверхностных акустических волнах
- •Принцип действия и основы проектирования микроакселерометра
- •Полевой датчик Холла на основе структур «кремний – на - изоляторе»
- •Микрозеркала в кремниевом кристалле
- •Биосенсоры и биомолекулярная электроника
- •16.5. Магниточувствительные устройства
- •17. Процессы сборки и герметизации микросхем
- •17.1. Разделение пластин на кристаллы
- •Скрайбирование
- •Резка диском с наружной алмазной режущей кромкой
- •Резка ультразвуком
- •Резка пластин термоударом
- •Резка лучом лазера
- •17.2. Корпуса для интегральных микросхем
- •Корпусная элементная база
- •Динамика развития основных исходных конструкторских параметров кристаллов по годам
- •17.3. Монтаж кристаллов в корпуса
- •17.4. Бескорпусная элементная база
- •Сравнительные характеристики корпусированных 64-выводных бис и их бескорпусных аналогов
- •Кристаллы с балочными выводами
- •17.5. Многокристальные модули в трехмерном исполнении
- •Анализ состояния возможностей 3d проектирования
- •Тенденции эволюции микропроцессоров
- •17.6. Герметизация микросхем
- •Защита от альфа-частиц
- •Многокристальные модули, бескорпусные и гибридные микросхемы
- •17.7. Тенденции и перспективы развития сборочной технологии
- •Глава 18. Многоуровневые коммутационные платы. Конструктивно-технологические ограничения при проектировании.
- •18.1. Общие сведения о печатных платах. Конструктивные исполнения.
- •Конструкторско-технологические характеристики печатных плат
- •Наименьшие номинальные значения основных размеров элементов печатного монтажа для узкого места в зависимости от классов точности
- •Линейные размеры пп
- •Электрические характеристики печатных плат
- •Допустимые рабочие напряжения между элементами проводящего рисунка, расположенными в соседних слоях
- •Допустимые рабочие напряжения между элементами проводящего рисунка на наружных слоях пп
- •Допустимые значения воздействующего фактора по группам жесткости
- •Классификация конструкций пп
- •Тонкопленочные платы
- •Тонкопленочные платы на основе анодированного алюминия
- •Толстопленочные платы
- •18.2. Материалы печатных плат
- •18.3. Конструктивно-технологические ограничения при проектировании
- •Рекомендации по проектированию кп (на стеклотекстолите) в тпм
- •18.4. Изготовление фотошаблонов печатных плат
- •Предельные отклонения размеров элементов топологии фш
- •Значения несовмещений по контактным площадкам
- •18.5. Перспективы проектирования для техники поверхностного монтажа
- •Типовые конструкции многоуровневых коммутационных плат (мкп) и технология их реализации
- •Глава 19. Сборка электронных устройств на печатных платах
- •19.1. Методы выполнения электрических соединений
- •19.2. Технология создания микросварных соединений
- •Физико-химические особенности сварки
- •Особенности соединений
- •Термокомпрессионная сварка
- •Сварка с косвенным импульсным нагревом
- •Сварка сдвоенным (расщепленным) электродом
- •Сварка взрывом
- •Ультразвуковая сварка
- •19.3. Особенности микромонтажа бескорпусных микросхем
- •Оценка структуры
- •Оценка напряжений в сварных соединениях
- •Конструктивное исполнение сварных узлов
- •Технологические рекомендации по выполнению сварных узлов
- •19.4. Технология создания микроконтактов методами пайки
- •Подготовка поверхностей
- •Механическая очистка поверхностей
- •Химическая очистка поверхностей
- •Предварительное облуживание поверхностей
- •Проверка подготовленных поверхностей
- •Особенности и способы пайки. Флюсы для пайки
- •Марки флюсов, их состав и назначение
- •Технология пайки
- •Перспективы бессвинцовых технологий в производстве электронных средств
- •Основные типы бессвинцовых припоев
- •Совместимость покрытий
- •Маркировка
- •Возможные дефекты
- •Способы пайки
- •Пайка расплавлением дозированного припоя лазером
- •Достоинства и недостатки методов пайки
- •19.5. Конструктивные варианты монтажа на печатной плате
- •Заключение
- •Литература
3. Проблемы развития интегральной схемотехники для нанометровых технологий
3.1. Кризис схемотехники нанометровых микросхем
Стройная система синхронного развития технологии и схемотехники нарушается при переходе к размерам элементов менее 100 нм. Размерные эффекты в МОП - транзисторах, снижение надежности тонких МОП - структур, вариации электрических параметров нанометровых приборов диктуют необходимость изменения базовых принципов технологии. Нанометровые транзисторы часто имеют непланарную объемную структуру, меняется последовательность создания слоев, самосовмещенные области формируются без применения фотолитографии. Такие транзисторы не масштабируются при переходе к следующему технологическому поколению. Соответственно, не прогнозируются и их параметры. Наиболее важными стали не номинальные электрические параметры транзисторов, а их статистические вариации, взаимное влияние элементов на кристалле и длина корреляции параметров.
При проектировании электрических схем требуются новые методы анализа, основанные на статистическом характере всех электрических параметров элементов. Установлена новая цель оптимизации электрической схемы – это возможность ее реализации на основе выбранной технологии (Desing for manufacturability – DFM). Цель проектирования топологии и конструкции микросхемы – обеспечение экономически оправданного выхода годных (Design for Yeild – DFY).
Новые принципы схемотехники и методологии проектирования обеспечивают создание микросхем высочайшей сложности и рекордной вычислительной производительности. Однако отказ от унификации технологических решений и принципа масштабирования замедлил темпы разработки проектов для новых технологий. Ситуация усугубляется тем, что транзисторные структуры и технологические решения не унифицированы даже в одном поколении. Каждый производственный участок уникален. Технологические маршруты оптимизируются для производства схем памяти, микропроцессоров, мобильных устройств независимо друг от друга. Подготовка базы данных для проектирования осуществляется независимо для каждого производственного участка. Соответственно, снизилась производительность проектных работ, возросли расходы на разработку и подготовку производства новых изделий. Так Альянс STI (Sony, Toshiba, IBM) затратил миллиард долларов на разработку процессора Cell. Сравнимые затраты и у корпорации Intel на разработку процессора Polaris. При таких затратах номенклатура нанометровых микросхем очень мала. Ресурсы на разработку ограничены не только финансовыми возможностями, но и численностью специалистов, способных выполнять работы такого уровня сложности.
3.2. Пути унификации схемотехнических решений
Увеличение сложности проектов требует увеличения сложности унифицированных блоков. Структурирование и декомпозиция проекта обычно заканчиваются при достижении уровня унифицированных блоков. Дальнейшее развитие проекта состоит в выборе блоков из базы данных и заполнении ими функциональной схемы разрабатываемого устройства. Электрические схемы и топологические чертежи могут синтезироваться автоматически без последующей оптимизации. Распад системы совместной унификации технологических и схемотехнических решений для нанометровых микросхем вызвал кризис методологии проектирования. Важнейшей задачей современной схемотехники является создание новой методологии эффективного проектирования нанометровых микросхем, обеспечивающей многократное повышение производительности проектных работ. Для этого требуются новые методы унификации схемотехнических решений, не связанные с технологическим маршрутом. Унификация должна охватывать верхние уровни описания проекта – системный и функциональный. Состав библиотеки элементарных и простых функциональных блоков также должен быть однозначно определен. В такой системе унификации основные затраты потребуются на этапе синтеза и характеризации библиотек простых функциональных блоков. Процессы характеризации легко автоматизируются, а затраты на их выполнение раскладываются на множество проектов. Языки поведенческого описания как цифровых, так и аналоговых блоков позволяют уже сейчас автоматически синтезировать функциональные схемы и моделировать работу сложных функциональных блоков с удовлетворительной точностью. Новый уровень унификации должен распространяться на общую структуру микросхемы и поведенческие описания сложных функциональных блоков. Новые функциональные блоки будут разрабатываться на уровне поведенческих описаний и пополнять единую базу данных по проектам.
Интегрированная на кристалле сложная электронная система работает в условиях многих ограничений. Группа физических ограничений определяет надежность функционирования системы и включает ограничения на максимальную температуру кристалла, перепад температур, допустимую плотность тока в проводниках, максимальное рабочее напряжение. Группа технологических ограничений определяет реализуемость проекта и экономические показатели производства изделий. К ней относятся минимальные размеры элементов, допустимая плотность поражающих дефектов, вариации параметров полупроводниковых приборов. Системные ограничения включают ограничения частот передачи данных по сигнальным шинам и мощность, необходимую для обращения к памяти.
Статистические вариации параметров частично могут быть компенсированы электронными средствами. Электронная компенсация возможна только в пределах зоны корреляции параметров. Экспериментально установлено, что корреляционная длина большинства параметров лежит в диапазоне 1÷3 мм. Функциональные блоки необходимо объединять в кластеры с размером не более корреляционной длины. В каждом кластере размещается подсистема контроля параметров и управления режимами работы.
Кластерной структуре соответствует архитектура системы типа сеть-на-кристалле. Один модуль сети должен включать функциональный блок, коммутатор, блоки синхронизации, блоки контроля и управления режимами, блоки электропитания. Унификация технических решений потребует совместимости блоков. При этом модули сети будут отличаться друг от друга только функциональными блоками. Коммутаторы позволяют создавать программным путем прямые скоростные каналы связи между модулями сети. Одновременно могут функционировать много каналов связи. Система связей меняется программно в ходе решения задачи.
В сети должен присутствовать командный модуль, распределяющий задачи между функциональными модулями и конфигурирующий систему связей. Гибкая программируемая структура легко настраивается на новые применения, повышаются универсальность применения изделия и его надежность.
Выход годных и функциональная надежность – одно из основных преимуществ сетевой архитектуры. Например, корпорация AMD выпускает процессор Barselona с четырьмя вычислительными ядрами. Функциональные возможности поцессора не снижаются при отказе одного из ядер. Кроме того, продаются процессоры с тремя работающими ядрами и имеющие технологический брак в четвертом.
Масштабируемость технических решений легко реализуется в сети - на - кристалле простым изменением числа функциональных модулей. Общее число модулей в сети ограничено общей пропускной способностью системы сигнальных связей и потребляемой мощностью. Проектирование унифицированных блоков для сети – на - кристалле должно учитывать возможности масштабирования сети в широких пределах (не менее чем в 10 раз по числу объединяемых модулей).
Комплекс требований к параметрам и возможностям унифицированных блоков не должен включать характеристик конкретного технологического маршрута. Все проблемы по соблюдению требований спецификации для сети - на - кристалле должны быть решены в процессе разработки унифицированных блоков. В свою очередь спецификация для построения сети - на - кристалле должна учитывать общие возможности современной технологии без связи с особенностями конкретных технологических маршрутов.