книги из ГПНТБ / Лодиз, Р. Рост монокристаллов
.pdf30 |
Р . Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В |
дислокации. Такая граница, как уже отмечалось, может быть следствием скопления дислокаций, а если углы между грани цами зерен достаточно велики, то образуется поликристалл. Та ким образом, можно говорить о непрерывности перехода по степени уменьшения порядка от идеального совершенного кри сталла к поликристаллическому материалу. О генезисе дислока ций и их роли при выращивании кристаллов говорится в гл. 3.
Подобным же образом может существовать последователь ность упорядоченных состояний от совершенного кристалла до стекла. Если обратиться, например, к расстекловыванию, то по мере протекания этого процесса дальний порядок возрастает до
а |
б |
Ф и г . 1.11. Движение |
дислокаций при полигонизации после изгиба (а) и |
|
после перемещения (б) [31]. |
тех пор, пока образующееся твердое вещество не станет явно кристаллическим. Частично упорядоченные стекла, такие, как пирокерамика, в которых степень упорядочения регулируют до бавлением зародышеобразующих катализаторов или управляе мой термической обработкой, стали важной статьей промышлен ной продукции.
Двойники
Важную роль в кристаллах играют еще два типа несовер шенств — двойники и дефекты упаковки. «Составные» кристал лы, в которых отдельные части связаны друг с другом опреде ленным кристаллографическим образом, называют сдвойникованными кристаллами. Двойниковые кристаллы называют про
стыми двойниками, если они состоят |
из двух определенным |
об |
разом ориентированных частей, и сложными двойниками, |
если |
|
они состоят из нескольких частей. В |
контактных двойниках |
два |
кристалла встречаются вдоль определенной плоскости, называе мой плоскостью сопряжения. В некоторых случаях два индиви дуальных кристалла связаны отражением в плоскости решетки, общей для обоих кристаллов. Такую плоскость называют пло скостью двойникования, причем она может совпадать или не со впадать с плоскостью сопряжения.
В полисинтетических двойниках картина двойникования по вторяется, а плоскостей двойникования имеется несколько. Если
I . М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы |
31 |
обычный двойник изобразить в виде А\В, |
где А и В суть обла |
сти разной ориентации, связанные двойниковыми отношениями, а
| — с и м в о л плоскости |
двойникования, |
то |
Л | 5 ( Л | 5 . . . будет |
|
обозначать полисинтетический двойник. |
|
|
||
В некоторых двойниковых кристаллах части двойника связа |
||||
ны поворотом |
вокруг |
определенного |
кристаллографического |
|
направления. |
Такое направление называют |
осью двойникова |
||
ния. |
|
|
|
|
Двойниковые кристаллы можно классифицировать по спо собу их образования. Двойники, образовавшиеся в процессе выращивания, называют двойниками роста. Двойники могут воз никать и при механической деформации, например при скольже нии одной части кристалла кальцита или нитрата натрия относи тельно другой по плоскости скольжения.
Если вещество данного химического состава может существо вать в разных модификациях, то такие структурные модифика ции называют полиморфами. Если полиморфные модификации являются зеркальным отражением друг друга, то их называют энантиоморфами. Каждая полиморфная модификация стабильна при определенных условиях. У пары полиморфных модификаций данного вещества в координатах давление — температура обыч но есть линия, вдоль которой они сосуществуют; при переходе через эту линию одна модификация превращается в другую.
Примером может служить |
превращение |
|
573° С |
а " к в а р ц |
5!Шг?а М в а р ц . |
При переходе а-кварца в |3-кварц превращение обычно начинает ся во многих центрах. На фиг. 1.12 показана [31] проекция атомов кремния на плоскость (0001) для низкотемпературного а-кварца (а), высокотемпературного р-кварца (б) и возможного
продукта охлаждения (3-кварца до температур ниже |
573 °С (в). |
|||||
Надо .отметить, что р-кварц имеет более высокую |
симметрию, |
|||||
чем |
а-кварц, |
и |
если переход |
начинается в |
двух точках |
|
(фиг. |
1.12, б) |
по |
обе стороны от |
плоскости АВ, |
то |
следствием |
станет двойникование с плоскостью двойникования АВ, на кото рой встречаются растущие участки. Такой двойник, на ориента цию которого влияет структура материала, из которого он образуется, называют дофинейским двойником. В кварце двой никование по дофинейскому закону называют электрическим двойникованием, поскольку оно сопровождается изменением пьезоэлектрических свойств. Двойники повернуты друг относи тельно друга на 180° вокруг одного из направлений (0001). Оси кристаллов параллельны, но полярность электрических осей обратная. Дофинейское двоййикование не влияет на оптические свойства кварца.
32 |
Р . Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В |
Другой |
тип двойникования в кварце и других материалах., |
называют |
оптическим двойникованием, поскольку такие двойни |
ки можно выявить в поляризованном свете (оптическое двойникование влияет и на электрические свойства кварца). При опти
ческом |
двойниковании (иногда его |
называют |
двойникованием |
||
по бразильскому |
закону) |
в кварце |
сдвойникованные участки |
||
связаны |
друг с |
другом |
отражением |
от одной |
из плоскостей |
{1120}. Кристаллические оси снова параллельны, но электри ческая полярность имеет обратный знак, а поляризованный свет вращается в двух областях в противоположных направлениях.
а |
б |
в |
Ф и г . 1.12. а-кварц (а), р-кварц (б) и дофинейский двойник (в) [31].
Двойникование, которое можно выявить изменением направле ния электрического поля, называют электрическим двойникова нием, тогда как двойникование, обнаруживаемое при изучении в скрещенных поляроидах, называют оптическим двойникованием. Кристаллы, у которых отсутствует центр симметрии, являются пьезоэлектрическими. У большинства пьезоэлектрических кри сталлов наблюдается электрическое двойникование, а у других кристаллов без центра симметрии возникает оптическое двойни кование.
Дефекты упаковки
Кристаллические структуры можно построить хотя бы умо зрительно укладкой слоев. Существует ряд несовершенств, ко торые возникают в кристаллах той или иной симметрии при нарушении порядка укладки слоев. Полиморфные модификации карбида кремния можно мыслить себе как стопки двойных слоев атомов кремния и углерода, уложенных в разной последователь ности. Такие двойные слои состоят из плотноупакованного слоя гексагональной симметрии атомов кремния и слоя уложенных непосредственно над ними атомов углерода. Эти слои можно уложить друг на друга в трех разных ориентациях, обозначае-
1. М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы |
33 |
мых буквами А, В и С (фиг. 1.13). Когда слои уложены в по следовательности АВСАВСАВС, повторяющейся через весь кристалл, образуется полиморфная кубическая модификация, называемая J3-S1C. Есть другие возможные способы укладки слоев. Например, при последовательности укладки АВСА поли морфную модификацию называют SiC-III или SiC-4H; при по следовательности АВСАСВ соединение называют SiC-II или SiC-6H.
Ф и г . 1.13. Структура p-SiC.
Цифрами 4 и 6 указаны числа слоев в повторяющейся пачке, а буква Н означает гексагональную структуру [32—34]. Поли морфные модификации, отличающиеся только порядком укладки слоев, называют политичными. Замечательна регулярность по рядка упаковки в отдельных политипных модификациях. В моди фикации SiC-I или SiC-15-R слои уложены в последовательности АВСВАСАВАСВСАСВ. Таким образом, повторяющийся период охватывает 15 слоев; структура этого соединения ромбоэдриче ская.
Строго говоря, понятие политипии должно было бы относить ся к кристаллам с решеткой одной и той же структуры, но отли чающимся последовательностью укладки слоев. Так, 4-Н и 6-Н суть политипы SiC, тогда как 4-Н и 15-R — его полиморфы. Известен политип SiC под названием 87-Ру;сообщалось [35] о су ществовании его политипа 270-R.
В политипных модификациях часто наблюдаются нарушения последовательности укладки слоев, в результате чего образуется
2 Зак, 718
34 Р . Л 0 Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В
тонкая прослойка материала одной структуры между слоями материала другой структуры. Например, в кубических кристал
лах ZnS |
(сфалерит) |
слои уложены |
в последовательности |
ABC, |
|||||
тогда |
как в гексагональной |
модификации ZnS (вюрцит) |
соблю |
||||||
дается |
порядок АВ. |
Если |
в кристалле ZnS |
структура |
характе |
||||
ризуется |
последовательностью АВСАВАВС, |
то |
подчеркнутый |
||||||
участок |
будет дефектом упаковки, |
т. е. отдельным |
макроскопи |
||||||
чески |
протяженным |
слоем |
гексагональной |
модификации |
ZnS |
в кубическом кристалле ZnS. Часто дефекты упаковки встре
чаются в |
виде ряда параллельных слоев одного политипа |
в другом. |
|
Если такие слои имеют макроскопическую толщину, то, изу чая форму или морфологию кристалла, можно обнаружить сра стание двух типов, причем для каждой области будет харак терна морфология, присущая политипу в данной области. В не которых кристаллах углы между гранями превосходят 180° (входящие углы) и больше углов между гранями в смежных политипных областях. Для описания срастания политипных ве ществ иногда пользуются прилагательным «синтактное».
Мы уже говорили выше о плоскостях двойникования. Можно характеризовать такую плоскость соответствующим дефектом упаковки. В сфалерите это будет АВС\СВА, где вертикальной черточкой обозначена плоскость двойникования.
|
Вицинальные грани |
|
|
При определении ориентации грани кристалла |
посредством |
||
оптического |
гониометра иногда обнаруживают |
ее |
незначитель |
ное отклонение от «правильного» положения |
(разориентацию). |
||
Такие грани |
называют вицинальными гранями. |
На вопрос о том, |
принадлежат ли они к слегка разориентированным граням с
малыми миллеровскими индексами или же |
к граням |
с боль |
|||
шими индексами, |
по |
ориентации близким |
к |
граням с |
малыми |
индексами, пока |
не |
дано однозначного |
ответа. По-видимому, |
данные рентгенографических исследований [36—38] свидетель ствуют о том, что такие грани не являются плоскостями с ма лыми индексами, однако такие данные нельзя признать исчер пывающими. Не исключено, что полное объяснение будет най дено при изучении малоугловых межзеренных границ.
Другие несовершенства
Когда атомы растворяются в кристаллической решетке с об разованием твердого раствора, они либо хаотично замещают атомы в узлах решетки, либо хаотично внедряются в ее междо узлия, либо же размещаются в решетке тем или иным упоря-
I . М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы |
35 |
доченным способом. Если атомы замещения или внедрения рас полагаются в решетке весьма упорядоченно, то говорят о подрешетках таких атомов, степень упорядочения в которых можно исследовать методами рентгенографии и электронной микро скопии. Отсюда очевидна возможность существования в подоб ной подрешетке многих таких несовершенств, которые присущи обычной решетке.
В минералогической литературе для описания кристалла, характеризующегося разориентацией из-за радиационного рас пада, пользуются прилагательным метамиктный. Этим терми ном обычно характеризуют минералы, столь сильно разло жившиеся под действием природной радиации, что они по существу стали аморфными твердыми веществами. Такие же не совершенства в кристаллических материалах можно создать пу тем искусственного облучения.
1.4. МЕТОДЫ ИЗУЧЕНИЯ СОВЕРШЕНСТВА К Р И С Т А Л Л О В
Рентгеновские методы
Теоретически в случае больших совершенных кристаллов область углов отражения должна составлять по порядку вели чины несколько угловых секунд, а интенсивность отражений должна быть пропорциональной структурному фактору. Но для большей части кристаллов характерна область углов отражения в несколько угловых минут, а интенсивность отражений пропор циональна квадрату структурного фактора. Это расхождение объясняется тем, что кристаллы в большинстве случаев несовер шенны и состоят из крошечных участков, разориентированных друг относительно друга из-за наличия дислокаций, границ зе рен и мозаичных блоков.
Таким образом, дифракция рентгеновских лучей дает спо соб определения совершенства кристаллического материала и даже позволяет составить картину размещения отдельных дис локаций. Расскажем теперь вкратце о современных наиболее распространенных рентгеновских методах, рекомендуя обра щаться для более полного ознакомления с предметом к лите ратуре последних лет [39—41, 15].
1. Двукристальный спектрометр. Интегральная интенсив ность излучения, отраженного кристаллом с ориентацией под околобрэгговским углом, и ширина пика сильно зависят от со вершенства кристалла. Это совершенство изучают, смещая кристалл тем или иным способом на малый угол и реги стрируя при этом отражения. Самые ценные сведения дает
2*
36 |
Р . Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В |
использование двух кристаллов. Характеристическое рентгенов ское излучение отражается под брэгговским углом от опорного кристалла к исследуемому образцу (фиг. 1.14). Отражающие плоскости исследуемого кристалла обычно устанавливают па раллельно плоскостям опорного кристалла.
Опорный |
|
|
Внварие „ |
|
кристалл |
|
|
обычно 30" |
|
|
|
Отражающая |
|
|
|
! ~ 3 |
атомная |
Приемник |
|
|
плоскость |
|
||
|
|
|
•О <^ |
|
Точечный |
источник |
T i |
is j= |
|
|
|
|||
монохромати ческого |
|
|
||
рентгеновского |
Исследуеьъй |
кристалл |
e |
|
излучения |
||||
Ф и г . 1.14. |
Двукристальный спектрометр для исследования |
совершенства |
||
|
|
кристаллов |
[37]. |
|
Если интенсивность отражения представить как функцию «угла качания» 0, то получим кривую, подобную показанной на фиг. 1.14. Мерой совершенства служит ширина пика. Этим спо собом пользовались для ис-
Исследуемый кристалл следования а-кварца, крем ния, вольфрама и других материалов [37, 42, 43].
|
|
2. |
Метод |
Шульца. |
При |
||
|
Пленка |
исследованиях |
по |
методу |
|||
|
Шульца [44] |
монокристаль |
|||||
|
|
||||||
f Точечный источник |
|
ный образец |
помещают под |
||||
|
углом |
около |
25° к почти па |
||||
рентгеновского излучения |
|
раллельному |
пучку |
белого |
|||
со сплошным спектром |
|
рентгеновского |
излучения |
||||
Ф и г . 1.15. Метод Шульца |
для иссле |
(фиг. |
1.15). На пленке |
обра |
|||
дования совершенства кристаллов [43]. |
зуется |
несколько |
обычных |
||||
|
|
пятен |
Лауэ |
примерно |
того |
||
же размера, что и образец, и той же формы. Каждое |
такое |
пятно |
|||||
образовано отражением |
от участков в кристалле со слабой раз- |
||||||
ориентацией. |
|
|
|
|
|
|
|
Практически метод Шульца, вероятно, является простейшим рентгеновским методом изучения совершенства, поскольку он не требует очень сложной аппаратуры, обходится без специ ального ориентирования кристалла, а длительность экспозиции
1. М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы |
37 |
может не превышать 3 мин. Правда, |
этому методу присуще |
|||||
малое пространственное и угловое разрешение. |
|
|||||
3. |
Метод |
обратного отражения |
по Бергу — Баррету. |
Схема |
||
тически этот |
метод |
иллюстрируется на |
фиг. 1.16. На |
пленке |
||
|
|
|
|
Отраженный |
|
|
|
|
Коллимированный |
|
пучок |
|
|
|
|
рентгеновский пучок |
|
|
|
|
|
|
. . . ] |
|
|
|
|
|
|
|
|
|
Исследуемый |
|
|
|
|
|
|
кристалл |
|
Ф и г . |
1.16. Метод обратного отражения |
по Бергу — Баррету для |
исследо |
|||
|
|
вания |
совершенства кристаллов [43]. |
|
дислокации проявляются в виде более темных участков, потому что область вокруг дислокаций деформирована, а деформиро ванные участки сильнее отражают рентгеновские лучи.
4. Метод прямого прохождения (дифракции) по Бергу — Баррету. В данном случае дифрагировавший пучок проходит через кристалл, а участки с дислокациями проявляются на плен ке в виде темных пятен, поскольку дифракция в таких областях выражена сильнее (фиг. 1.17).
^Пленка
Отраженный Коллимированный 1\учок \
рентгеновский пучок
. . . . ! 1
|
Т |
Исследуемый |
Проходящий |
|
пучок |
||
|
|
кристалл |
|
Ф и г . 1.17. Метод |
прямого |
прохождения |
(дифракции) по Бергу — Баррету |
для |
исследования совершенства кристаллов [43]. |
5. Метод аномального прохождения (по Борману). В иссле дованиях данным методом регистрируют как проходящий, так и отраженный пучки. Участки с дислокациями сильнее ослаб ляют оба пучка (фиг. 1.18).
6. Метод Лэнга. Для исследований по методу Лэнга требу ется такая же в общих чертах экспериментальная установка, как и при исследованиях методом прямого прохождения по Бергу — Баррету. Сильно коллимированный узкий пучок рент геновских лучей пропускают через кристалл, регистрируя на
38 |
Р. Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В |
пленке брэгговские отражения от параллельных плоскостей, приблизительно перпендикулярных грани образца. Перемещая одновременно пленку и образец, можно снять полную «карту» дислокационной сетки. Дислокации выявляются как области с повышенной отражающей способностью из-за обусловленного ими перераспределения энергии между многократно отражен ными первичным и продифрагировавшим пучками. В итоге на пленке возникает темное изображение дислокаций. Изменяя должным образом угловую ориентацию кристалла, можно опре делить дислокационную сетку в трех измерениях.
Отраженный
пучок
Коллимированный пучок монохромати
ческого рентгеновского излучения
Исследуемый
кристалл
Ф и г . 1.18. Метод аномального прохождения по Борману [43].
7. Измерение периодов решетки. Многие виды несо вершенств в кристалле изменяют периоды решетки в его микро скопических областях. Такие изменения периодов можно легко определить по методу Бонда [13], позволяющему измерить меж плоскостные расстояния с точностью до нескольких десяти тысячных долей процента. Поскольку объем, в котором излуче ние дифрагирует, очень мал (1X0,025X0,005 мм), можно ис следовать изменение периодов решетки от точки к точке и гем самым изучать стехиометрические вариации в кристалле [14].
8. Рентгеновский интерферометр. Самым чувствительным средством обнаружения малых нарушений в макрообластях кристалла служит недавно созданный рентгеновский интерферо метр [45].
С помощью двукристального спектрометра и рентгеновского интерферометра можно выявить разориентации порядка 0,01 угловой секунды, тогда как метод Шульца пригоден для иссле дования малоугловых границ зерен и разориентации в диапазоне от нескольких минут до нескольких градусов. Исследования ме тодами обратного и прямого прохождения по Бергу—Баррету, аномального прохождения по Борману, а также по методу Лэнга в сочетании с рентгеновской интерферометрией проводят для составления «карт» дислокационных сеток и даже для исследо-