Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Лодиз, Р. Рост монокристаллов

.pdf
Скачиваний:
25
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
35.03 Mб
Скачать

30

Р . Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В

дислокации. Такая граница, как уже отмечалось, может быть следствием скопления дислокаций, а если углы между грани­ цами зерен достаточно велики, то образуется поликристалл. Та­ ким образом, можно говорить о непрерывности перехода по степени уменьшения порядка от идеального совершенного кри­ сталла к поликристаллическому материалу. О генезисе дислока­ ций и их роли при выращивании кристаллов говорится в гл. 3.

Подобным же образом может существовать последователь­ ность упорядоченных состояний от совершенного кристалла до стекла. Если обратиться, например, к расстекловыванию, то по мере протекания этого процесса дальний порядок возрастает до

а

б

Ф и г . 1.11. Движение

дислокаций при полигонизации после изгиба (а) и

 

после перемещения (б) [31].

тех пор, пока образующееся твердое вещество не станет явно кристаллическим. Частично упорядоченные стекла, такие, как пирокерамика, в которых степень упорядочения регулируют до­ бавлением зародышеобразующих катализаторов или управляе­ мой термической обработкой, стали важной статьей промышлен­ ной продукции.

Двойники

Важную роль в кристаллах играют еще два типа несовер­ шенств — двойники и дефекты упаковки. «Составные» кристал­ лы, в которых отдельные части связаны друг с другом опреде­ ленным кристаллографическим образом, называют сдвойникованными кристаллами. Двойниковые кристаллы называют про­

стыми двойниками, если они состоят

из двух определенным

об­

разом ориентированных частей, и сложными двойниками,

если

они состоят из нескольких частей. В

контактных двойниках

два

кристалла встречаются вдоль определенной плоскости, называе­ мой плоскостью сопряжения. В некоторых случаях два индиви­ дуальных кристалла связаны отражением в плоскости решетки, общей для обоих кристаллов. Такую плоскость называют пло­ скостью двойникования, причем она может совпадать или не со­ впадать с плоскостью сопряжения.

В полисинтетических двойниках картина двойникования по­ вторяется, а плоскостей двойникования имеется несколько. Если

I . М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы

31

обычный двойник изобразить в виде А\В,

где А и В суть обла­

сти разной ориентации, связанные двойниковыми отношениями, а

| — с и м в о л плоскости

двойникования,

то

Л | 5 ( Л | 5 . . . будет

обозначать полисинтетический двойник.

 

 

В некоторых двойниковых кристаллах части двойника связа­

ны поворотом

вокруг

определенного

кристаллографического

направления.

Такое направление называют

осью двойникова­

ния.

 

 

 

 

Двойниковые кристаллы можно классифицировать по спо­ собу их образования. Двойники, образовавшиеся в процессе выращивания, называют двойниками роста. Двойники могут воз­ никать и при механической деформации, например при скольже­ нии одной части кристалла кальцита или нитрата натрия относи­ тельно другой по плоскости скольжения.

Если вещество данного химического состава может существо­ вать в разных модификациях, то такие структурные модифика­ ции называют полиморфами. Если полиморфные модификации являются зеркальным отражением друг друга, то их называют энантиоморфами. Каждая полиморфная модификация стабильна при определенных условиях. У пары полиморфных модификаций данного вещества в координатах давление — температура обыч­ но есть линия, вдоль которой они сосуществуют; при переходе через эту линию одна модификация превращается в другую.

Примером может служить

превращение

 

573° С

а " к в а р ц

5!Шг?а М в а р ц .

При переходе а-кварца в |3-кварц превращение обычно начинает­ ся во многих центрах. На фиг. 1.12 показана [31] проекция атомов кремния на плоскость (0001) для низкотемпературного а-кварца (а), высокотемпературного р-кварца (б) и возможного

продукта охлаждения (3-кварца до температур ниже

573 °С (в).

Надо .отметить, что р-кварц имеет более высокую

симметрию,

чем

а-кварц,

и

если переход

начинается в

двух точках

(фиг.

1.12, б)

по

обе стороны от

плоскости АВ,

то

следствием

станет двойникование с плоскостью двойникования АВ, на кото­ рой встречаются растущие участки. Такой двойник, на ориента­ цию которого влияет структура материала, из которого он образуется, называют дофинейским двойником. В кварце двой­ никование по дофинейскому закону называют электрическим двойникованием, поскольку оно сопровождается изменением пьезоэлектрических свойств. Двойники повернуты друг относи­ тельно друга на 180° вокруг одного из направлений (0001). Оси кристаллов параллельны, но полярность электрических осей обратная. Дофинейское двоййикование не влияет на оптические свойства кварца.

32

Р . Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В

Другой

тип двойникования в кварце и других материалах.,

называют

оптическим двойникованием, поскольку такие двойни­

ки можно выявить в поляризованном свете (оптическое двойникование влияет и на электрические свойства кварца). При опти­

ческом

двойниковании (иногда его

называют

двойникованием

по бразильскому

закону)

в кварце

сдвойникованные участки

связаны

друг с

другом

отражением

от одной

из плоскостей

{1120}. Кристаллические оси снова параллельны, но электри­ ческая полярность имеет обратный знак, а поляризованный свет вращается в двух областях в противоположных направлениях.

а

б

в

Ф и г . 1.12. а-кварц (а), р-кварц (б) и дофинейский двойник (в) [31].

Двойникование, которое можно выявить изменением направле­ ния электрического поля, называют электрическим двойникова­ нием, тогда как двойникование, обнаруживаемое при изучении в скрещенных поляроидах, называют оптическим двойникованием. Кристаллы, у которых отсутствует центр симметрии, являются пьезоэлектрическими. У большинства пьезоэлектрических кри­ сталлов наблюдается электрическое двойникование, а у других кристаллов без центра симметрии возникает оптическое двойни­ кование.

Дефекты упаковки

Кристаллические структуры можно построить хотя бы умо­ зрительно укладкой слоев. Существует ряд несовершенств, ко­ торые возникают в кристаллах той или иной симметрии при нарушении порядка укладки слоев. Полиморфные модификации карбида кремния можно мыслить себе как стопки двойных слоев атомов кремния и углерода, уложенных в разной последователь­ ности. Такие двойные слои состоят из плотноупакованного слоя гексагональной симметрии атомов кремния и слоя уложенных непосредственно над ними атомов углерода. Эти слои можно уложить друг на друга в трех разных ориентациях, обозначае-

1. М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы

33

мых буквами А, В и С (фиг. 1.13). Когда слои уложены в по­ следовательности АВСАВСАВС, повторяющейся через весь кристалл, образуется полиморфная кубическая модификация, называемая J3-S1C. Есть другие возможные способы укладки слоев. Например, при последовательности укладки АВСА поли­ морфную модификацию называют SiC-III или SiC-4H; при по­ следовательности АВСАСВ соединение называют SiC-II или SiC-6H.

Ф и г . 1.13. Структура p-SiC.

Цифрами 4 и 6 указаны числа слоев в повторяющейся пачке, а буква Н означает гексагональную структуру [32—34]. Поли­ морфные модификации, отличающиеся только порядком укладки слоев, называют политичными. Замечательна регулярность по­ рядка упаковки в отдельных политипных модификациях. В моди­ фикации SiC-I или SiC-15-R слои уложены в последовательности АВСВАСАВАСВСАСВ. Таким образом, повторяющийся период охватывает 15 слоев; структура этого соединения ромбоэдриче­ ская.

Строго говоря, понятие политипии должно было бы относить­ ся к кристаллам с решеткой одной и той же структуры, но отли­ чающимся последовательностью укладки слоев. Так, 4-Н и 6-Н суть политипы SiC, тогда как 4-Н и 15-R его полиморфы. Известен политип SiC под названием 87-Ру;сообщалось [35] о су­ ществовании его политипа 270-R.

В политипных модификациях часто наблюдаются нарушения последовательности укладки слоев, в результате чего образуется

2 Зак, 718

34 Р . Л 0 Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В

тонкая прослойка материала одной структуры между слоями материала другой структуры. Например, в кубических кристал­

лах ZnS

(сфалерит)

слои уложены

в последовательности

ABC,

тогда

как в гексагональной

модификации ZnS (вюрцит)

соблю­

дается

порядок АВ.

Если

в кристалле ZnS

структура

характе­

ризуется

последовательностью АВСАВАВС,

то

подчеркнутый

участок

будет дефектом упаковки,

т. е. отдельным

макроскопи­

чески

протяженным

слоем

гексагональной

модификации

ZnS

в кубическом кристалле ZnS. Часто дефекты упаковки встре­

чаются в

виде ряда параллельных слоев одного политипа

в другом.

 

Если такие слои имеют макроскопическую толщину, то, изу­ чая форму или морфологию кристалла, можно обнаружить сра­ стание двух типов, причем для каждой области будет харак­ терна морфология, присущая политипу в данной области. В не­ которых кристаллах углы между гранями превосходят 180° (входящие углы) и больше углов между гранями в смежных политипных областях. Для описания срастания политипных ве­ ществ иногда пользуются прилагательным «синтактное».

Мы уже говорили выше о плоскостях двойникования. Можно характеризовать такую плоскость соответствующим дефектом упаковки. В сфалерите это будет АВС\СВА, где вертикальной черточкой обозначена плоскость двойникования.

 

Вицинальные грани

 

 

При определении ориентации грани кристалла

посредством

оптического

гониометра иногда обнаруживают

ее

незначитель­

ное отклонение от «правильного» положения

(разориентацию).

Такие грани

называют вицинальными гранями.

На вопрос о том,

принадлежат ли они к слегка разориентированным граням с

малыми миллеровскими индексами или же

к граням

с боль­

шими индексами,

по

ориентации близким

к

граням с

малыми

индексами, пока

не

дано однозначного

ответа. По-видимому,

данные рентгенографических исследований [36—38] свидетель­ ствуют о том, что такие грани не являются плоскостями с ма­ лыми индексами, однако такие данные нельзя признать исчер­ пывающими. Не исключено, что полное объяснение будет най­ дено при изучении малоугловых межзеренных границ.

Другие несовершенства

Когда атомы растворяются в кристаллической решетке с об­ разованием твердого раствора, они либо хаотично замещают атомы в узлах решетки, либо хаотично внедряются в ее междо­ узлия, либо же размещаются в решетке тем или иным упоря-

I . М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы

35

доченным способом. Если атомы замещения или внедрения рас­ полагаются в решетке весьма упорядоченно, то говорят о подрешетках таких атомов, степень упорядочения в которых можно исследовать методами рентгенографии и электронной микро­ скопии. Отсюда очевидна возможность существования в подоб­ ной подрешетке многих таких несовершенств, которые присущи обычной решетке.

В минералогической литературе для описания кристалла, характеризующегося разориентацией из-за радиационного рас­ пада, пользуются прилагательным метамиктный. Этим терми­ ном обычно характеризуют минералы, столь сильно разло­ жившиеся под действием природной радиации, что они по существу стали аморфными твердыми веществами. Такие же не­ совершенства в кристаллических материалах можно создать пу­ тем искусственного облучения.

1.4. МЕТОДЫ ИЗУЧЕНИЯ СОВЕРШЕНСТВА К Р И С Т А Л Л О В

Рентгеновские методы

Теоретически в случае больших совершенных кристаллов область углов отражения должна составлять по порядку вели­ чины несколько угловых секунд, а интенсивность отражений должна быть пропорциональной структурному фактору. Но для большей части кристаллов характерна область углов отражения в несколько угловых минут, а интенсивность отражений пропор­ циональна квадрату структурного фактора. Это расхождение объясняется тем, что кристаллы в большинстве случаев несовер­ шенны и состоят из крошечных участков, разориентированных друг относительно друга из-за наличия дислокаций, границ зе­ рен и мозаичных блоков.

Таким образом, дифракция рентгеновских лучей дает спо­ соб определения совершенства кристаллического материала и даже позволяет составить картину размещения отдельных дис­ локаций. Расскажем теперь вкратце о современных наиболее распространенных рентгеновских методах, рекомендуя обра­ щаться для более полного ознакомления с предметом к лите­ ратуре последних лет [39—41, 15].

1. Двукристальный спектрометр. Интегральная интенсив­ ность излучения, отраженного кристаллом с ориентацией под околобрэгговским углом, и ширина пика сильно зависят от со­ вершенства кристалла. Это совершенство изучают, смещая кристалл тем или иным способом на малый угол и реги­ стрируя при этом отражения. Самые ценные сведения дает

2*

36

Р . Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В

использование двух кристаллов. Характеристическое рентгенов­ ское излучение отражается под брэгговским углом от опорного кристалла к исследуемому образцу (фиг. 1.14). Отражающие плоскости исследуемого кристалла обычно устанавливают па­ раллельно плоскостям опорного кристалла.

Опорный

 

 

Внварие „

кристалл

 

 

обычно 30"

 

 

Отражающая

 

 

 

! ~ 3

атомная

Приемник

 

 

плоскость

 

 

 

 

•О <^

 

Точечный

источник

T i

is j=

 

 

 

монохромати ческого

 

 

рентгеновского

Исследуеьъй

кристалл

e

излучения

Ф и г . 1.14.

Двукристальный спектрометр для исследования

совершенства

 

 

кристаллов

[37].

 

Если интенсивность отражения представить как функцию «угла качания» 0, то получим кривую, подобную показанной на фиг. 1.14. Мерой совершенства служит ширина пика. Этим спо­ собом пользовались для ис-

Исследуемый кристалл следования а-кварца, крем­ ния, вольфрама и других материалов [37, 42, 43].

 

 

2.

Метод

Шульца.

При

 

Пленка

исследованиях

по

методу

 

Шульца [44]

монокристаль­

 

 

f Точечный источник

 

ный образец

помещают под

 

углом

около

25° к почти па­

рентгеновского излучения

 

раллельному

пучку

белого

со сплошным спектром

 

рентгеновского

излучения

Ф и г . 1.15. Метод Шульца

для иссле­

(фиг.

1.15). На пленке

обра­

дования совершенства кристаллов [43].

зуется

несколько

обычных

 

 

пятен

Лауэ

примерно

того

же размера, что и образец, и той же формы. Каждое

такое

пятно

образовано отражением

от участков в кристалле со слабой раз-

ориентацией.

 

 

 

 

 

 

 

Практически метод Шульца, вероятно, является простейшим рентгеновским методом изучения совершенства, поскольку он не требует очень сложной аппаратуры, обходится без специ­ ального ориентирования кристалла, а длительность экспозиции

1. М О Н О К Р И С Т А Л Л Ы

37

может не превышать 3 мин. Правда,

этому методу присуще

малое пространственное и угловое разрешение.

 

3.

Метод

обратного отражения

по Бергу — Баррету.

Схема­

тически этот

метод

иллюстрируется на

фиг. 1.16. На

пленке

 

 

 

 

Отраженный

 

 

 

Коллимированный

 

пучок

 

 

 

рентгеновский пучок

 

 

 

 

 

. . . ]

 

 

 

 

 

 

 

 

Исследуемый

 

 

 

 

 

 

кристалл

 

Ф и г .

1.16. Метод обратного отражения

по Бергу — Баррету для

исследо­

 

 

вания

совершенства кристаллов [43].

 

дислокации проявляются в виде более темных участков, потому что область вокруг дислокаций деформирована, а деформиро­ ванные участки сильнее отражают рентгеновские лучи.

4. Метод прямого прохождения (дифракции) по Бергу — Баррету. В данном случае дифрагировавший пучок проходит через кристалл, а участки с дислокациями проявляются на плен­ ке в виде темных пятен, поскольку дифракция в таких областях выражена сильнее (фиг. 1.17).

^Пленка

Отраженный Коллимированный 1\учок \

рентгеновский пучок

. . . . ! 1

 

Т

Исследуемый

Проходящий

 

пучок

 

 

кристалл

 

Ф и г . 1.17. Метод

прямого

прохождения

(дифракции) по Бергу — Баррету

для

исследования совершенства кристаллов [43].

5. Метод аномального прохождения (по Борману). В иссле­ дованиях данным методом регистрируют как проходящий, так и отраженный пучки. Участки с дислокациями сильнее ослаб­ ляют оба пучка (фиг. 1.18).

6. Метод Лэнга. Для исследований по методу Лэнга требу­ ется такая же в общих чертах экспериментальная установка, как и при исследованиях методом прямого прохождения по Бергу — Баррету. Сильно коллимированный узкий пучок рент­ геновских лучей пропускают через кристалл, регистрируя на

38

Р. Л О Д И З . Р О С Т М О Н О К Р И С Т А Л Л О В

пленке брэгговские отражения от параллельных плоскостей, приблизительно перпендикулярных грани образца. Перемещая одновременно пленку и образец, можно снять полную «карту» дислокационной сетки. Дислокации выявляются как области с повышенной отражающей способностью из-за обусловленного ими перераспределения энергии между многократно отражен­ ными первичным и продифрагировавшим пучками. В итоге на пленке возникает темное изображение дислокаций. Изменяя должным образом угловую ориентацию кристалла, можно опре­ делить дислокационную сетку в трех измерениях.

Отраженный

пучок

Коллимированный пучок монохромати­

ческого рентгеновского излучения

Исследуемый

кристалл

Ф и г . 1.18. Метод аномального прохождения по Борману [43].

7. Измерение периодов решетки. Многие виды несо­ вершенств в кристалле изменяют периоды решетки в его микро­ скопических областях. Такие изменения периодов можно легко определить по методу Бонда [13], позволяющему измерить меж­ плоскостные расстояния с точностью до нескольких десяти­ тысячных долей процента. Поскольку объем, в котором излуче­ ние дифрагирует, очень мал (1X0,025X0,005 мм), можно ис­ следовать изменение периодов решетки от точки к точке и гем самым изучать стехиометрические вариации в кристалле [14].

8. Рентгеновский интерферометр. Самым чувствительным средством обнаружения малых нарушений в макрообластях кристалла служит недавно созданный рентгеновский интерферо­ метр [45].

С помощью двукристального спектрометра и рентгеновского интерферометра можно выявить разориентации порядка 0,01 угловой секунды, тогда как метод Шульца пригоден для иссле­ дования малоугловых границ зерен и разориентации в диапазоне от нескольких минут до нескольких градусов. Исследования ме­ тодами обратного и прямого прохождения по Бергу—Баррету, аномального прохождения по Борману, а также по методу Лэнга в сочетании с рентгеновской интерферометрией проводят для составления «карт» дислокационных сеток и даже для исследо-

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ