- •А. С. Сіньковський
- •Теорія та методи
- •Напилення
- •Курс лекцій
- •Затверджено
- •Isbn 966-8335-02-3 © Наука і техніка, 2010 лекція 1
- •Вакуумні методи напилювання покриттів
- •Лекція 2 Умови та технологія процесу вакуумного напилення
- •Лекція 3 Підвищення технологічних параметрів процесу нанесення вакуумних покриттів
- •Лекція 4 Способи та технологічні особливості конденсаційного напилювання покриттів вибухом розпилюваного матеріалу
- •Лекція 5 Вакуумне конденсаційне напилювання покриттів іонним розпиленням
- •Лекція 6 Обладнання для вакуумного напилювання покриттів
- •2. Газотермічні методи напилювання покриттів лекція 7 Плазма. Процеси, що відбуваються в плазмі
- •Лекція 8 Потік плазми. Плазмово–дугове та плазмово–струменеве напилення
- •Лекція 9 Плазмотрони, їхні конструктивні відмінності та властивості
- •Лекція 10 Джерела плазмової дуги деяких промислових установок
- •Лекція 11 Методи забезпечення газотермічних установок газами
- •Лекція 12 Порошкові живильники-дозатори
- •Лекція 13 Установки для плазмового напилення
- •При наближенні до галтелі швидкість переміщення розпилювача
- •Лекція 14 Газополуменеве напилювання
- •Лекція 15 Обладнання для газополуменевого напилювання покриттів
- •Лекція 16 Електродугова металізація
- •Лекція 17 Способи та технологічні особливості електродугової металізації
- •Лекція 18 Умови електродугової металізації
- •Лекція 19 Вплив зовнішніх факторів на електродугову металізацію
- •Лекція 20 Детонаційне нанесення покриттів
- •Лекція 21 Основні енергетичні та зовнішні параметри процесу детонаційного напилення покриттів
- •Лекція 22 Високочастотна металізація
- •3. Двофазні потоки, що утворюються при газотермічних методах напилення лекція 23 Характеристика двофазних потоків при газотермічному напиленні. Теорія подібності
- •Лекція 24 Надзвукові струмені
- •Лекція 25 Порівняння різних типів струменів
- •Лекція 26 Металургійні процеси при газотермічному напиленні (гтн) покриттів
- •Лекція 27 Взаємодія частинок розпилюваного матеріалу з газовою фазою
- •Лекція 28 Взаємодія газової фази з вологою і воднем та азотом
- •Лекція 29 Взаємодія твердої фази з воднем та азотом
- •Лекція 30 Газодинамічний метод нанесення покриттів
- •25.2. Струмені плазми
- •30.3 Метод газодинамічного напилення
- •Запитання
- •4. Процеси, що протікають при утворенні покриттів, та їхня структура
- •Лекція 31
- •Вплив зовнішніх факторів на міцність
- •Зчеплення покриття з основою
- •Лекція 32 Механізм та кінетика фізико-хімічних процесів, що ведуть до міцного зчеплення напилюваних частинок
- •Лекція 33 Структурна будова покриттів
- •5. Технологія нанесення, обробки та контролю газотермічних покриттів лекція 34 Технологія нанесення газотермічних покриттів
- •Лекція 38. Контроль якості напилених покриттів
- •38.1. Загальна характеристика методів контролю
- •Існуючі методи контролю якості напилених покриттів можна розділити на неруйнувальні та руйнувальні.
- •Лекція 39. Техніка безпеки і охорона праці при газотермічному напиленні покриттів
- •Лекція 40 Області використання газотермічних покриттів та економічна доцільність їхнього нанесення
- •Штучний супутник землі
- •Сопла реактивних двигунів і ракет
- •Список літератури
- •Анатолій Степанович Сіньковський Теорія та методи напилення курс лекцій
- •Одеський національний політехнічний університет
- •65044, Одеса, пр. Шевченка, 1
- •65044, Одеса, пр. Шевченка, 1, корп. 5.
Лекція 9 Плазмотрони, їхні конструктивні відмінності та властивості
9.1. Плазмотрони
Плазмотрон є основним елементом енергетичної частини плазмового обладнання. Відрізняють дугові та індукційні плазмотрони. У перших іонізація відбувається в дузі постійного чи змінного струму, а в других під дією змінного високочастотного поля індуктора. Найбільш поширеними у виробництві є дугові плазмотрони постійного струму, які працюють в інертних, нейтральних атмосферах і таких, що містять кисень.
Плазмотрони всіх конструкцій мають три основні елементи: електрод, сопло та ізолятор, що роз`єднує катод від сопла-анода. Конструктивні особливості, можливості та галузі використання найбільш поширених плазмотронів наведені в табл. 9.1 та короткому огляді.
Таблиця 9.1
Тип плазмотрона |
Схема (рис. 9.1) |
мм/мм |
см/см |
Плазмо- утворю- ючий газ |
I , A |
U , B |
P , кВт |
ПН-1 |
А |
7/7 |
1,2/3,0 |
Аргон |
100-500 |
30 |
15 |
ПН-2 |
Б |
6/6х8 |
2,2/4,9 |
“” |
50-300 |
60 |
20 |
ПН-6 |
В |
10/12 |
7,0/9,2 |
Азот |
100-350 |
250 |
75 |
ПН-14м |
Г |
6/8 |
5,0/6,0 |
Аргон |
100-350 |
150 |
50 |
ПН-15 |
Г |
5/6 |
3,5/4,5 |
“” |
40-250 |
120 |
30 |
ПН-16 |
Г |
8/8 |
5,0/6,0 |
Аргон + Азот |
100-350 |
160 |
56 |
ПН-20 |
Д |
4х6/8 |
5,3/8,1 |
Аргон |
50-300 |
170 |
50 |
ПН-21 |
Д |
4х5/8 |
3,7/6,2 |
“” |
40-250 |
120 |
30 |
ПН-22 |
Д |
4х5/6 |
2,1/4,5 |
“” |
70-300 |
70 |
25 |
ПН-23 |
Е |
8/10 |
5,2/7,4 |
Повітря |
100-300 |
250 |
70 |
Плазмотрон ПН - 1 має сопло діаметром 7 мм. Довжина циліндричної частини каналу сопла в залежності від його номера змінюється від 15 до 30 мм. Основним в промисловості є сопло з довжиною дугового каналу 20 мм. Робоча вершина катода, виконаного з лантанованого вольфраму, має діаметр 6 мм. Катод, закладений в мідну обойму, встановлюється на відстані 3 см від вихідного зрізу сопла. Таке розташування катода забезпечує формування дуги довжиною близько 1,2 см при подачі аргону. Довжина дуги у плазмотронів, катод яких встановлюється біля входу в дуговий канал, складає 0,5 - 1,0 см. Підвищення потужності досягається при порівняно великому амперажі дуги (близько 400 - 500 А), що приводить до помітної ерозії електродів, нестабільності плазмового струменя і до невідновлюваності режиму напилення. Аналогічні результати отримані при експлуатації плазмотронів серійних установок типів УПУ і УМП.
Плазмотрон ПН-2 і всі описані нижче конструкції плазмотронів серії ПН (рис. 9.1,б) мають секціоновану міжелектродну вставку. У ньому встановлені дві секції вставки. Довжина дуги становить 2,2 см. Максимальний ампераж дуги невисокий (300 - 350 А), що забезпечує більш тривалу і стабільну експлуатацію плазмотронів при нанесенні емісійних і електроізоляційних покриттів. Катод виконаний з лантанованого або торованого вольфраму.
Плазмотрон ПН - 6 (рис. 9.1,в) використовується для нанесення переважно товстих покриттів і для формування виробів. Він працює на азоті, продуктивність по оксиду алюмінію складає близько , пористість 0 - 2 %.
Плазмотрон ПН -14м (рис. 9.1,г) служить для напилення щільних жаро-, зносо-, корозійно-стійких, теплозахисних, антифрикційних і інших покриттів. Він складається зі стержневого конусного катода, секціонованої міжелектродної вставки з шести секцій, які створюють дуговий канал, і ступінчастого сопла-анода. Газ подається з боку катода аксіально. Плазмотрон може працювати в ручному або механізованому режимах від джерел живлення з напруженням холостого ходу більше за 150 В.
Плазмотрон ПН-15 (рис. 9.1,г) призначений для нанесення металевих покриттів з міді, нікелю та інших металів на різні вироби електронної техніки. Характеризується високою стабільністю, надійністю і тривалим ресурсом роботи.
Плазмотрон ПН-16 (рис. 9.1,г) служить для напилення покриттів тугоплавких матеріалів з підвищеною продуктивністю процесу напилення. Працює переважно на суміші аргону з азотом.
Плазмотрон ПН-20 (рис. 9.1,д) підвищеної потужності для механізованого напилення тугоплавких матеріалів із збільшеною продуктивністю виконаний на основі плазмотронів ПН-14 і ПН-16. Конструкція його більш зручна з точки зору технології збирання та розбирання. Поліпшені конструкції катода і анода. Для підвищення стабільності горіння дуги дуговий канал зроблений конусоподібним.
Плазмотрон ПН-21 (рис. 9.1,д) є модифікацією плазмотрона ПН-15, виконаний на основі уніфікованих деталей плазмотрона ПН-20. Має круто вихідні вольтамперні характеристики (ВАХ), що дозволяє використовувати його в багатодугових системах для напилення.
Плазмотрон ПН-22 служить для напилення різних покриттів мілкодисперсними порошками. Створений на основі плазмотронів ПН-2, ПН-14м і ПН-20 з урахуванням досвіду нанесення емісійних электроізоляційних покриттів на деталі електровакуумних приладів. Плазмотрон ПН-23 призначений для напилення переважно оксидних покриттів. Як катод в ньому використовується цирконієва або гафнієва вставка, закладена в мідну обойму, а як анод - мідне сопло з уступом. Плазмовитікаючий газ - повітря, яке подається тангенсіально. Це економить аргон, але знижує КВМ (рис. 9.1, е).
Рис. 9.1. Типи плазмотронів
9.2. Методи введення порошку в плазмовий струмінь
Найбільш відповідальним елементом плазмового розпилювача є сопло. Саме конструкція сопла і характер закінчення струменя значною мірою впливають на тепловий ККД процесу нагріву матеріалу, що розпилюється.
У плазмотронах з самовстановлюваною дугою канал сопла гладкий і має невелику довжину (10 - 30 мм), а діаметр сопла , довжина дуги . У плазмотронних пальниках з фіксованою дугою застосовують секціонування сопла з міжелектродними вставками. Наявність вставок (3 - 10) дозволяє спочатку розтягнути дугу, а потім фіксувати активну пляму на виході з каналу. При цьому довжина дуги
Тривалість роботи сопла невелика: 10 - 50 год. Тому конструкція плазмотрона повинна забезпечувати легку і швидку його зміну. Сопла виготовляють з чистої міді з максимальним охолоджуванням водою (краще дистильованою). Катод виготовляють з торованого або лантанованого вольфраму , кут заточування катода становить 60о, діаметр притуплення 2 - 3 мм.
Ефективність нагріву порошку в плазмовому розпилювачі і рівномірний розподіл його по плямі напилення залежить від схеми введення порошку в соплову частину розпилювача. (рис. 9.2 і 9.3).
Радіальний вхід порошка
за анодним пятном
дуги
Кільцевий вхід порошка
Радіальний вхід порошка
з двох сторін
Вхід порошка
в при анодну область дуги
В
циліндричний канал
В
область аноду
За
уступом
До
уступа
Між
катодом і анодом
Через
отвір у катоді
У
зовнішньої сторони катоду
Рис. 9.2. Схема вводу порошку в плазмовий розпилювач: I – газ; II – газ + порошок
КВП
КВП ηu
ηu
Рис. 9.3. Вплив місця введення порошку на коефіцієнт його використання і ефективний ККД нагріву : 1 - до анодне введення; 2 - післяанодне введення в сопло; 3 - в плазмовий струмінь на зріз сопла; I - подача порошку; II - подача плазмоутворюючого газу
9.3. Системи збудження дуги в плазмотронних розпилювачах
Застосовують дві системи збудження: електричну і механічну. Електрична система належить до безконтактних.
За допомогою малопотужного високовольтного, високочастотного генератора, що називається осцилятором, здійснюється пробій газового проміжку між стержневим електродом і соплом. При цьому створюється початкова газопровідна область, що здатна забезпечити виникнення струму провідності основного розряду. На рис. 9.4 показані схеми підмикання осциляторів, що випускаються електротехнічною промисло-вістю. Для запобігання попаданню на джерела живлення дуги пробивного напруження передбачено захист у вигляді індуктивних ДР і ємкісних З опорів. При паралельному вмиканні (рис 9.4,а) після збудження дуги осцилятор вимикається за допомогою реле струму РТ. Осцилятор послідовного вмикання (рис. 9.4,б) дає менші радіозавади і не шунтує дугу. Паралельне вмикання осцилятора можливо на дугу будь-якої потужності.
Р ис. 9.4. Електричні схеми пристроїв для збудження дуги: а - осцилятор послідовного підмикання; б - осцилятор паралельного підмикання, в - багатоступінчаста схема збудження дуги; 1 - джерело живлення дуги; 2 - осцилятор, 3 - плазмовий розпилювач; 4 - блок управління
У плазмотронах з МЕВ застосовують багатоступінчасту схему збудження дуги (рис. 9.4, е). Реле часу С–К підімкнені до контактора К у певній послідовності. Спочатку спрацьовує контактор К1, збуджуючи початкову дугу. Далі спрацьовує контактор К2 з одночасним вимиканням контактора К1 і т.д. до останньої МЕВ, що вмикається контактором Кn і реле часу Сn - K.
Механічна система збудження пов'язана із замиканням дугового проміжку. Відомі різні способи замикання: безпосереднім дотиком елек-трода стінки сопла; плавкими металевими вставками в міжелектродний простір, подачею в дуговий проміжок додаткового електрода та ін. У плазмових розпилювачах, що випускаються, в основному застосовують безконтактну схему збудження.
Досить добре зарекомендували себе в роботі плазмотрони, що не належать до конкретних установок.
Плазмотрони типу М8 мають до анодну подачу порошку. При цьому досягаються високі значення КВП, навіть при використанні аргону. Плазмовий розпилювач, РП-3 характеризується можливістю подачі порошка як в дугову камеру, так і в плазмовий струмінь. Особливий інтерес виявляють плазмотрони з між електродними вставками, наприклад ПН-6 та ін. До вузько спеціалізованих плазмових розпилювачів належать конструкції, що дозволяють застосовувати як плазмоутворюючий газ - повітря в суміші з природними газами та інші середовища. У стадії вдосконалення знаходяться двоструменеві плазмові розпилювачі, що дозволяють здійснювати осьову подачу дроту або порошку.
Готується до випуску нове покоління плазмових розпилювачів. У них передбачається змінна конструкція електродного і соплових пристроїв для різних умов напилення.
На рис. 9.5 показано зовнішній вигляд найбільш поширених плазмових розпилювачів. Габарити плазмових розпилювачів, їхня надійність і довговічність залежить від умов охолоджування. Звичайно застосовують водяне охолоджування під тиском 0,3 - 0,5 МПа. Найбільш переваж-но є охолоджування очищеною водою (краще дистильованою) по замкненому циклу. Допускається використання технічної води з жорсткістю 4,5 (мг • екв)/л.
Рис. 9.5. Зовнішній вигляд плазмових розпилювачів
У табл. 9.2 наведені технічні характеристики найбільш поширених плазмотронів, створених в останні роки.
Таблиця. 9.2
Технічні характеристики нових плазмових розпилювачів
Характеристика |
ПП-25(УПУ-ЗД) |
УПУ-8М |
ПУН - 3 (УМП - 7) |
Київ – 7 |
Потужність дуги |
25 |
40 |
39 |
------- |
Струм дуги |
400 |
700 |
250 |
100 |
Рід плазмо – утворюючих газів |
Ar , N2 , Ar + N2, Ar + H2 |
Ar , N2 , Ar + N2, Ar + H2 |
N2 |
Повітря, природний газ |
Витрата плазмо- утворюючих газів |
0,9-6,0 |
0,3-2,0 |
<5.0 |
Те ж саме |
Продуктивність напилення |
2,0-4,0 |
5-10 |
5-12 |
10-25 |
Тиск охолоджуючої води |
0,4 |
0,35 |
0.35 |
------- |
Витрата охолоджуючої води |
0,45-0,60 |
1,44 |
0.21 |
------- |
Маса |
0,5 |
1,1 |
1.9 |
2.0 |