- •А. С. Сіньковський
- •Теорія та методи
- •Напилення
- •Курс лекцій
- •Затверджено
- •Isbn 966-8335-02-3 © Наука і техніка, 2010 лекція 1
- •Вакуумні методи напилювання покриттів
- •Лекція 2 Умови та технологія процесу вакуумного напилення
- •Лекція 3 Підвищення технологічних параметрів процесу нанесення вакуумних покриттів
- •Лекція 4 Способи та технологічні особливості конденсаційного напилювання покриттів вибухом розпилюваного матеріалу
- •Лекція 5 Вакуумне конденсаційне напилювання покриттів іонним розпиленням
- •Лекція 6 Обладнання для вакуумного напилювання покриттів
- •2. Газотермічні методи напилювання покриттів лекція 7 Плазма. Процеси, що відбуваються в плазмі
- •Лекція 8 Потік плазми. Плазмово–дугове та плазмово–струменеве напилення
- •Лекція 9 Плазмотрони, їхні конструктивні відмінності та властивості
- •Лекція 10 Джерела плазмової дуги деяких промислових установок
- •Лекція 11 Методи забезпечення газотермічних установок газами
- •Лекція 12 Порошкові живильники-дозатори
- •Лекція 13 Установки для плазмового напилення
- •При наближенні до галтелі швидкість переміщення розпилювача
- •Лекція 14 Газополуменеве напилювання
- •Лекція 15 Обладнання для газополуменевого напилювання покриттів
- •Лекція 16 Електродугова металізація
- •Лекція 17 Способи та технологічні особливості електродугової металізації
- •Лекція 18 Умови електродугової металізації
- •Лекція 19 Вплив зовнішніх факторів на електродугову металізацію
- •Лекція 20 Детонаційне нанесення покриттів
- •Лекція 21 Основні енергетичні та зовнішні параметри процесу детонаційного напилення покриттів
- •Лекція 22 Високочастотна металізація
- •3. Двофазні потоки, що утворюються при газотермічних методах напилення лекція 23 Характеристика двофазних потоків при газотермічному напиленні. Теорія подібності
- •Лекція 24 Надзвукові струмені
- •Лекція 25 Порівняння різних типів струменів
- •Лекція 26 Металургійні процеси при газотермічному напиленні (гтн) покриттів
- •Лекція 27 Взаємодія частинок розпилюваного матеріалу з газовою фазою
- •Лекція 28 Взаємодія газової фази з вологою і воднем та азотом
- •Лекція 29 Взаємодія твердої фази з воднем та азотом
- •Лекція 30 Газодинамічний метод нанесення покриттів
- •25.2. Струмені плазми
- •30.3 Метод газодинамічного напилення
- •Запитання
- •4. Процеси, що протікають при утворенні покриттів, та їхня структура
- •Лекція 31
- •Вплив зовнішніх факторів на міцність
- •Зчеплення покриття з основою
- •Лекція 32 Механізм та кінетика фізико-хімічних процесів, що ведуть до міцного зчеплення напилюваних частинок
- •Лекція 33 Структурна будова покриттів
- •5. Технологія нанесення, обробки та контролю газотермічних покриттів лекція 34 Технологія нанесення газотермічних покриттів
- •Лекція 38. Контроль якості напилених покриттів
- •38.1. Загальна характеристика методів контролю
- •Існуючі методи контролю якості напилених покриттів можна розділити на неруйнувальні та руйнувальні.
- •Лекція 39. Техніка безпеки і охорона праці при газотермічному напиленні покриттів
- •Лекція 40 Області використання газотермічних покриттів та економічна доцільність їхнього нанесення
- •Штучний супутник землі
- •Сопла реактивних двигунів і ракет
- •Список літератури
- •Анатолій Степанович Сіньковський Теорія та методи напилення курс лекцій
- •Одеський національний політехнічний університет
- •65044, Одеса, пр. Шевченка, 1
- •65044, Одеса, пр. Шевченка, 1, корп. 5.
Лекція 10 Джерела плазмової дуги деяких промислових установок
Вимоги, що ставляться до джерел живлення дуги
Джерело живлення дуги вибирають залежно від схеми плазмового напилювання. Найбільш поширені такі схеми: однодугові;
Рис. 10.1. Схема плазмового напилювання
двохструменеві; з трифазним плазмотроном; двоструменевим плазмотроном; з анодом, що обертається (рис 10.1).
Тому джерела живлення можуть бути як постійного так і змінного струму. Так в схемі (рис. 10.1, в) наведено трифазний плазмотрон. Однак найбільш поширеними є схеми, побудовані на постійному струмі. Постійний струм можуть давати як генератори постійного струму, так і випрямлячі. Однак генератори мають цілий ряд недоліків і найбільший з них той, що їхній ККД не перевищує 64 %.
Випрямлячі, що мають більший ККД (~ 80 %), простіші конструктивно і надійніші в експлуатації. Тому вони найчастіше використовуються в плазмових установках. Основною перевагою, джерел живлення (ДЖ) є наявність у них крутопадаючої ВАХ.
10.2. Схема і принцип роботи ДЖ універсальної плазмової установки (УПУ)
Для прикладу розглянемо електричну схему джерела живлення металізаційного ДПМ (рис. 10.2), який використовується на установках УПУ.
Рис. 10.2. Електрична схема ДПМ 160/600 (а); схема ланцюгів управління (б)
Основні характеристики ДПМ 160/600 такі: номінальний робочий струм 600 А, максимальне напруження холостого ходу — 160 В, межа регулювання робочого напруження 40 — 70 В, межі регулювання робочого струму 200 — 600 А, номінальна споживана потужність 45 кВА, ККД — 0.73, маса 915 кг. Трансформатор Т (рис. 10.2) підмикається до мережі через силовий контактор КС. Первинна обмотка трансформатора W, секціонована. Це дає можливість ступінчасто встановлювати необхідні значення напруження холостого ходу, наприклад, у разі застосування різних плазмоутворюючих газів.
На рис. 10.3,а наведені крутопадаючі вольт-амперні характеристики для всіх трьох рівнів. Напруження з вторинної обмотки подається на діодний випрямний блок V, зібраний по трифазною мостовою схемою з кремнієвих вентилів, що водоохолоджуються, ВВ — 500. У вікнах магнітопроводу розташований пересувний шунт. Для переміщення шунта передбачений механізм з електроприводом постійного струму (рис 10.2, б).
Рис. 10.3. Вольт-амперні характеристики ДПН 160/600 (а) і його регулювальна крива (б)
Двигун шунта, як і інші ланцюги управління, живиться джерелом від окремої схеми напруженням 220 В. Якір двигуна шунта – ЯДШ і його обмотка збудження — ОЗДШ підімкнені до понижувального трансформатора Т1 через однофазний випрямляч. Напрям руху, шунта (реверс) встановлюється тумблерами П2 і П2В (виносний). У схемі передбачені кінцеві вимикачі ВК-1 і ВК-2. Управління джерелом здійснюється кнопками через проміжне реле РП.
Зовнішні ВАХ джерела (суцільні лінії) у поєднанні зі статичними ВАХ дуги (пунктирні лінії) відповідно для робочих напружень Uд — 70, 50 і 30 В і струмів дуги Ід 240 — 675, 310 — 780 і 410 — 900 А. Регулювальна характеристика у вигляді якісної залежності показана на рис. 10.4 (Хт- індуктивний опір трансформатора). Основною перевагою ИПН-160/600 є простота конструкції, надійність, довговічність, невисока вартість. При експлуатації легко піддається настройці і ремонту. Недоліком джерела є відсутность системи автоматичного регулювання заданих параметрів режиму горіння дуги.
10.3. Джерело живлення дуги ВПН 630
У ньому застосовується тиристорний випрямляч з крутопадаючим ВАХ (рис.10.4).
Рис. 10.4 Зовнішня вольт-амперна характеристика джерела живлення дуги ВПН — 630
Пунктирами позначена ВАХ дуги при
Принципова електрична схема джерела живлення дуги ВПН — 630 (максимальний струм 630 А) наведена на рис 10.5.
В установці застосовують тиристорний випрямляч (рис. 10.5) з крутопадаючими вольт-амперними характеристиками. Силовий трансформатор Т1 стержневого типу. Первинна W1 і вторична W2 обмотки дискові. При паралельному з'єднанні вторичних обмоток (I рівень) джерело прилаштовано на максимальні струми навантаження (630 А). При послідовному з'єднанні W2 реалізовується II рівень, розрахований на невеликі струми (З15 А). З трансформатора Т1 подається напруження на силовий тиристорний блок випрямлення VS. Плюсовий вивід випрямляча через шунт Ш і опір RS подається на анодний вузол плазмового розпилювача. З шунта знімається сигнал зворотного зв'язку: по струму, з опору – по напруженню.
Мінусовий вивід з VS через згладжуючий дросель L1 осцилятора послідовного вмикання ОС, подається на стержневий електрод плазмового розпилювача. Регулювання і стабілізація струму дуги здійснюється схемою управління (на рис. 10.5 не показана), що містить формувач імпульсів, блок регулювання і релейний блок.
Р ис. 10.5. Принципова схема джерела живлення дуги ВПН-630