
- •Ю.Ф. Адамов, а.М. Грушевский, с.П. Тимошенков Современные проблемы проектирования и технологии микроэлектронных систем
- •Часть 1
- •Оглавление
- •Введение
- •1. Технология микроэлектроники и микроэлектронные полупроводниковые приборы
- •1.1. Типовые структуры и характеристики кремниевых биполярных транзисторов
- •1.2. Пределы миниатюризации кремниевых биполярных транзисторов
- •1.3. Типовые структуры и характеристики кремниевых
- •1.4. Тиристорный эффект в комплементарных моп - схемах
- •1.5. Ударная ионизация в канале и обусловленный ею ток подложки
- •1.6. Размерные эффекты в моп - транзисторах
- •1.7. Физические ограничения размеров моп - транзисторов
- •1.8. Прогноз предельных параметров моп-транзисторов
- •1.9. Прогноз развития элементной базы микроэлектроники
- •2. Единство интегральной технологии и схемотехники
- •2.1. Интегральная схемотехника – продукт развития технологии
- •2.2. Принципы интегральной схемотехники
- •2.3. Правила масштабирования моп - транзисторов
- •Закономерности масштабирования согласно трем различным методам
- •2.4. Топологическое проектирование масштабируемых микросхем
- •2.5. Влияние сложности логических схем на характеристики системы металлизации
- •2.6. Немасштабируемые элементы структуры
- •3. Проблемы развития интегральной схемотехники для нанометровых технологий
- •3.1. Кризис схемотехники нанометровых микросхем
- •3.2. Пути унификации схемотехнических решений
- •3.3. Характеризация библиотек транзисторов, логических элементов и простых функциональных блоков
- •4. Литография
- •4.1. Основные определения
- •4.2. Фотолитография – ключевой процесс планарной технологии
- •4.3. Электронно-лучевая литография
- •4.4. Резисты – полимеры, чувствительные к облучению
- •5. Эпитаксия полупроводниковых слоев
- •5.1. Основные определения
- •5.2. Эпитаксиальное выращивание слоев кремния из парогазовой фазы
- •5.3. Молекулярно - лучевая эпитаксия
- •5.4. Развитие эпитаксиальной технологии
- •Основные характеристики диэлектрических подложек, используемых при гетероэпитаксии кремния
- •6. Процессы нанесения диэлектрических покрытий
- •6.1. Назначение диэлектрических слоев и требования к ним
- •6.2. Методы получения диэлектрических покрытий
- •6.3. Термическое окисление кремния
- •6.4. Осаждение диэлектрических пленок
- •6.5. Перспективы развития методов осаждения диэлектрических пленок
- •7. Легирование полупроводников
- •7.1. Назначение процесса легирования
- •7.2. Модели диффузии в твердом теле
- •Предельная растворимость примесей в кремнии
- •7.3 Диффузионные процессы легирования
- •8. Ионная имплантация – основной метод легирования полупроводников
- •8.1. Преимущества процесса имплантации
- •8.2. Оборудование для ионного легирования
- •8.3. Распределение пробегов ионов при имплантации
- •Значения критического угла каналирования в кремнии
- •8.4. Дефекты структуры в полупроводниках при ионном легировании
- •8.5. Отжиг дефектов и активация примеси
- •9. Плазмохимическое травление полупроводников, диэлектриков и металлов
- •9.1. Классификация процессов плазмохимического травления
- •9.2. Особенности плазмохимического травления
- •9.3. Травление кремния и металлов
- •9.4. Травление двуокиси и нитрида кремния
- •9.5. Плазмохимическое травление органических материалов
- •9.6. Производительность и управляемость процессом плазмохимического травления
- •10. Металлизированные соединения и омические контакты
- •10.1. Требования к металлизации
- •10.2. Материалы для электрических соединений
- •10.3. Омические контакты
- •10.4. Оборудование для нанесения металлических пленок
- •10.5. Методы осаждения металлов
- •10.6. Интеграция процессов металлизации
- •Характеристики металлов, применяемых для создания ок к GaAs
- •11. Интеграция технологических процессов в производственный маршрут изготовления микросхем
- •11.1. Взаимосвязь технологических процессов
- •11.2. Интеграция приборов в структуре микросхемы
- •11.3. Спецификация производственного маршрута
- •11.4. Принципы построения маршрута
- •11.5. Иерархическое построение маршрута
- •11.6. Цикличность маршрута
- •11.7. Управляемость и воспроизводимость
- •11.8. Электровакуумная гигиена
- •12. Маршрут производства и физические структуры кмоп - микросхем.
- •12.1. Применение, достоинства и недостатки кмоп - микросхем
- •12.2. Требования к структуре кмоп - микросхем
- •Параметры кмоп - структур
- •12.3. Физическая структура и маршрут изготовления быстродействующих цифровых микросхем
- •12.4. Изоляция приборов
- •12.5. Области истока, стока и контакты к «карманам»
- •12.6. Подзатворный диэлектрик
- •12.7. Затворы субмикронных моп - транзисторов
- •12.8. Контакты к поликремниевым затворам, истокам и стокам
- •12.9. Металлизация
- •13. Физические структуры и технология биполярных микросхем
- •13.1. Области применения и особенности технологии биполярных микросхем
- •13.2. Высокочастотные биполярные транзисторы
- •13.3. Высоковольтные биполярные транзисторы
- •13.5. Биполярные транзисторы в кмоп - микросхемах
- •14. Структуры и процессы формирования пассивных элементов микросхем.
- •14.1. Требования к пассивным элементам микросхем и их состав.
- •14.2. Интегральные резисторы
- •14.3. Интегральные конденсаторы
- •14.4. Интегральные индукторы
- •14.5. Пассивные элементы на основе волноводов
- •14.6. Варакторы
- •14.7. Диоды Шоттки
- •Высота барьера Шоттки б
- •15. Физические структуры микросхем на основе гетеропереходов соединений a3b5 и кремний - германий
- •15.1. Свойства гетеропереходов
- •15.2. Технология гетероструктурных микросхем
- •15.3. Биполярные транзисторы на подложках арсенида галлия
- •15.4. Полевые транзисторы с высокой подвижностью электронов
- •15.5. Гетероструктурные полевые транзисторы на основе широкозонных полупроводников
- •15.6. Микросхемы на основе гетероструктур кремний - германий
- •16. Функциональные приборы и устройства
- •16.1. Основные определения
- •16.2. Оптоэлектронные приборы
- •16.3. Акустоэлектронные приборы
- •Параметры основных пьезоэлектрических материалов
- •16.4. Микроэлектронные электромеханические устройства
- •Важнейшие свойства Si, SiC, AlN
- •Технология поверхностной микромеханики
- •Технология объемной микромеханики
- •Технология корпускулярно - лучевого формообразования
- •Химическое травление кремния при получении многослойных структур
- •Плазмохимическое травление кремниевых структур.
- •Сращивание подложек с использованием промежуточных слоев
- •Перспективы применения структур кремний – на - изоляторе в микро- , наноэлектронике и микросистемной технике
- •Методы производства кни - структур
- •Специфика технологии микроэлектромеханических устройств
- •Компоненты нано- и микросистемной техники Микроакселерометр на поверхностных акустических волнах
- •Принцип действия и основы проектирования микроакселерометра
- •Полевой датчик Холла на основе структур «кремний – на - изоляторе»
- •Микрозеркала в кремниевом кристалле
- •Биосенсоры и биомолекулярная электроника
- •16.5. Магниточувствительные устройства
- •17. Процессы сборки и герметизации микросхем
- •17.1. Разделение пластин на кристаллы
- •Скрайбирование
- •Резка диском с наружной алмазной режущей кромкой
- •Резка ультразвуком
- •Резка пластин термоударом
- •Резка лучом лазера
- •17.2. Корпуса для интегральных микросхем
- •Корпусная элементная база
- •Динамика развития основных исходных конструкторских параметров кристаллов по годам
- •17.3. Монтаж кристаллов в корпуса
- •17.4. Бескорпусная элементная база
- •Сравнительные характеристики корпусированных 64-выводных бис и их бескорпусных аналогов
- •Кристаллы с балочными выводами
- •17.5. Многокристальные модули в трехмерном исполнении
- •Анализ состояния возможностей 3d проектирования
- •Тенденции эволюции микропроцессоров
- •17.6. Герметизация микросхем
- •Защита от альфа-частиц
- •Многокристальные модули, бескорпусные и гибридные микросхемы
- •17.7. Тенденции и перспективы развития сборочной технологии
- •Глава 18. Многоуровневые коммутационные платы. Конструктивно-технологические ограничения при проектировании.
- •18.1. Общие сведения о печатных платах. Конструктивные исполнения.
- •Конструкторско-технологические характеристики печатных плат
- •Наименьшие номинальные значения основных размеров элементов печатного монтажа для узкого места в зависимости от классов точности
- •Линейные размеры пп
- •Электрические характеристики печатных плат
- •Допустимые рабочие напряжения между элементами проводящего рисунка, расположенными в соседних слоях
- •Допустимые рабочие напряжения между элементами проводящего рисунка на наружных слоях пп
- •Допустимые значения воздействующего фактора по группам жесткости
- •Классификация конструкций пп
- •Тонкопленочные платы
- •Тонкопленочные платы на основе анодированного алюминия
- •Толстопленочные платы
- •18.2. Материалы печатных плат
- •18.3. Конструктивно-технологические ограничения при проектировании
- •Рекомендации по проектированию кп (на стеклотекстолите) в тпм
- •18.4. Изготовление фотошаблонов печатных плат
- •Предельные отклонения размеров элементов топологии фш
- •Значения несовмещений по контактным площадкам
- •18.5. Перспективы проектирования для техники поверхностного монтажа
- •Типовые конструкции многоуровневых коммутационных плат (мкп) и технология их реализации
- •Глава 19. Сборка электронных устройств на печатных платах
- •19.1. Методы выполнения электрических соединений
- •19.2. Технология создания микросварных соединений
- •Физико-химические особенности сварки
- •Особенности соединений
- •Термокомпрессионная сварка
- •Сварка с косвенным импульсным нагревом
- •Сварка сдвоенным (расщепленным) электродом
- •Сварка взрывом
- •Ультразвуковая сварка
- •19.3. Особенности микромонтажа бескорпусных микросхем
- •Оценка структуры
- •Оценка напряжений в сварных соединениях
- •Конструктивное исполнение сварных узлов
- •Технологические рекомендации по выполнению сварных узлов
- •19.4. Технология создания микроконтактов методами пайки
- •Подготовка поверхностей
- •Механическая очистка поверхностей
- •Химическая очистка поверхностей
- •Предварительное облуживание поверхностей
- •Проверка подготовленных поверхностей
- •Особенности и способы пайки. Флюсы для пайки
- •Марки флюсов, их состав и назначение
- •Технология пайки
- •Перспективы бессвинцовых технологий в производстве электронных средств
- •Основные типы бессвинцовых припоев
- •Совместимость покрытий
- •Маркировка
- •Возможные дефекты
- •Способы пайки
- •Пайка расплавлением дозированного припоя лазером
- •Достоинства и недостатки методов пайки
- •19.5. Конструктивные варианты монтажа на печатной плате
- •Заключение
- •Литература
Корпусная элементная база
Увеличение функциональной сложности, степени интеграции и быстродействия СБИС, а также числа выводов и рассеиваемой мощности при высоком уровне требований к изделиям активизировало работы по созданию разнообразных конструкций корпусов, отвечающих технико - экономическим требованиям микроминиатюризации.
Динамика развития основных исходных конструкторских параметров кристаллов СБИС представлена в табл. 17.2.
Таблица 17.2
Динамика развития основных исходных конструкторских параметров кристаллов по годам
Параметр |
1980 |
1990 |
2000 |
2010 |
Размер элементов, мкм |
3,0 – 2,0 |
0,75 – 0,50 |
0,50 – 0,13 |
0,13 – 0,05 |
Площадь кристалла, мм2 |
50 – 60 |
100 |
300 |
450 |
Число выводов, шт |
64 |
300 |
1000 |
1500 |
Максимальная рассеиваемая мощность, Вт |
2 – 3 |
10 – 12 |
20 – 30 |
30 – 50 |
Уменьшение размеров элементов в кристаллах снизило их устойчивость к деградационным процессам, инициируемым влияниями материалов корпусов.
Рост числа выводов потребовал увеличения габаритов корпуса, что находится в противоречии с требованием обеспечения быстродействия.
Увеличение рассеиваемой кристаллом мощности усложнило обеспечение эффективного теплоотвода. Ряд проблем корпусирования вытекает из задач автоматизации их сборки и сокращения стоимости корпусов.
Обычно корпуса делят на керамические (металлокерамические), металлостеклянные, металлополимерные, стеклокерамические и пластмассовые в зависимости от материалов, используемых в конструкции корпуса (например, материала основания, крышки, изоляции выводов и др.), а также от расположения выводов или выводных площадок. Каждому типу корпусов присущи свои достоинства и недостатки, однако принято считать, что наиболее надежными являются керамические корпуса. Герметизация пластмассой не обеспечивает надежной защиты кристалла в условиях эксплуатации при повышенных значениях влажности и температуры, а низкая теплопроводность пластмассы затрудняет отвод тепла. Вместе с тем большинство керамических корпусов (особенно многовыводных) имеют недостаточную электропроводность разводки, изготавливаемой по толстопленочной технологии, что отрицательно сказывается на быстродействии. К тому же эти корпуса характеризуются повышенной стоимостью, обусловленной применением драгметаллов.
Из определенных ГОСТ 17467 шести типов корпусов, в производстве высокоплотного монтажа МКМ находят применение два типа: плоские прямоугольные с параллельным расположением выводов по двум или четырем сторонам основания (тип 4) и плоские прямоугольные безвыводные (тип 5).
По сравнению с корпусами типов 1, 2 и 3, являющихся традиционными для штырькового монтажа (традиционного монтажа выводов в отверстиях плат), корпуса типов 4 и 5, а также разрабатываемые матричные (с матрично расположенными выводами), принципиально выигрывают по большинству показателей, и в первую очередь, по массогабаритным, обеспечивая возможность высокоплотного поверхностного монтажа и перспективу перехода к монтажу МКМ на БК. Действительно, объемы корпусов типа 2 (зарубежные аналоги DIP и QUIP) более чем на два порядка превышают объем самого кристалла. Поэтому техника корпусирования претерпела принципиальные изменения. Появились микрокорпуса, которые в несколько раз меньше своих аналогов, и имеющие специальную форму выводов (L-, J-, I-образную и др.) при значительно уменьшенных их размерах и с шагом выводов менее 1,25 мм. С увеличением степени интеграции были разработаны безвыводные либо с выводами кристаллодержатели – специальные корпуса с четырехсторонней либо матричной разводкой контактных площадок или выводов, отличающихся малым шагом (менее 1,0 мм) и большим их количеством (преимущественно от 64 до 500 и более).
Применение микрокорпусов типа SO взамен DIP дает 60% экономии монтажной площади. Микрокорпус типа SOIC напоминает уменьшенный вариант традиционного корпуса типа DIP с двухсторонним расположением ленточных выводов, имеющих форму “крыла чайки” (L-образные) с шагом 0,65 – 1,27 мм (рис.17.6). Электрические параметры корпуса SOIC в 2 – 3 раза лучше, чем у его DIP - аналога. Так, паразитная индуктивность составляет 2,6 – 3,8 нГн против 3,2 – 10,2 нГн.
Рис.17.6. Микрокорпус типа SOIC
С увеличением количества выводов (более 32) заметно увеличивается монтажная площадь микрокорпуса SO в сравнении с площадью устанавливаемого в нем кристалла. Эффективное использование монтажной площади платы обеспечивают многовыводные корпуса с четырехсторонней разводкой выводов − кристаллодержатели (тип 4). Шаг выводов пластмассового кристаллодержателя типа PLCC обычно составляет 0,4 – 0,6 мм, имеются разработки и с шагом 0,3 мм. При количестве выводов до 124 они имеют, как правило, J-образную форму, а свыше 124 − L-образную форму.
Разработка конструкций кристаллодержателей с плоскими выводами (рис. 17.7), керамических и пластмассовых корпуса типа 4 и их аналогов типа QFP (Quad Flat Pack) с четырехсторонним расположением выводов обеспечили возможность корпусирования СБИС до 300 и более выводов. В настоящее время выпускаются самые разнообразные конструкции таких кристаллодержателей, отличающиеся шагом выводов (0,27 – 0.63 мм), высотой корпуса (1,4 – 2,5 мм) и высотой посадки на плате, при этом для большинства кристаллодержателей характерна тенденция к увеличению количества выводов.
Рис. 17.7. Кристаллодержатель с плоскими L - образными выводами (керамический или пластмассовый корпус, тип 4, зарубежный аналог QFP и ему подобные)
Кристаллодержатели с формой выводов в виде контактных площадок, расположенных в пределах проекции тела корпуса (рис. 17.8), получили название безвыводных (корпуса типа 5 и их зарубежные аналоги типа LCCC). Они занимают площадь на плате, в шесть раз меньшую, и имеют массу, на порядок меньшую, чем их DIP-аналоги. При этом индуктивность и сопротивление выводных площадок ниже, а сигнальные тракты короче, чем DIP-конструкций. Однако кристаллодержатели LCCC не лишены и существенных недостатков, главными из них являются значительный вес, что характерно для керамических корпусов, а также повышенная чувствительность к рассогласованию ТКЛР корпуса и коммутационной платы (КП), что приводит к образованию и развитию дефектов в местах пайки при термоциклировании или при высоком уровне рассеиваемой мощности.
Рис. 17.8. Безвыводной керамический кристаллодержатель (тип 5, зарубежный аналог LCCC)
Дальнейшее повышение плотности выводов связано с появлением кристаллодержателей с матрично расположенными штырьковыми (I-образными) укороченными выводами (корпуса типа PGA – Pin Grid Array) с количеством выводов до 500 и более (рис. 17.9 а, б). Однако проблематичность использования таких корпусов заключается в сложности их точного позиционирования и фиксации при сборке на плате, а также в контроле качества монтажа. Ввиду этого такие кристаллодержатели, как правило, монтируются через контактные панельки при этом снижается плотность монтажа и ухудшаются массогабаритные показатели.
Появление в последнее десятилетие безвыводных матричных (с матрицей выводных контактных площадок в основании корпуса (см. рис. 17.9,в) кристаллодержателей типа BGA (Ball Grid Array) является естественным развитием технологии изготовления кристаллодержателей типа QFP и PGA при постоянно возрастающей потребности в повышении быстродействия и функциональной сложности СБИС, сопровождающейся увеличением числа их внешних выводов.
Фирма NEC (Япония) разработала 4 вида микрокорпусов для ИС, имеющих размеры, близкие к размерам кристаллов и большое число шариковых выводов. В первом виде (корпуса обозначаются как L/F-BGA) кристалл собирается с помощью микропроволоки на выводной рамке, выступы которой выходят на установочную поверхность пластмассового корпуса и служат площадками для формирования шариков припоя. В таком корпусе ИС может иметь до 100 выводов, расположенных с шагом 0,8 – 1,27 мм. Во втором виде (FPBGA) кристалл методом флип-чип (перевернутого кристалла то есть «лицом вниз») монтируется на миниподложке с металлизированными отверстиями и герметизируется полимером. ИС в нем может иметь до 300 выводов с шагом 0,5 – 0,8 мм. Этому варианту аналогичен третий вид корпуса с Au - выступами на кристалле. В четвертом варианте (D2BGA) подложку заменяет многослойная пленка, размещаемая и монтируемая прямо на кристалле. СБИС, изготовленная таким образом, может иметь до 500 выводов с шагом 0,5 мм. Диаметр припойных шариков - выступов варьируется от 120 мкм для корпуса L/F-BGA до 80 мкм для FPBGA и 60 мкм для корпуса (D2BGA).
Технология сборки ИС в кристаллодержателе (D2BGA) с матрицей шариковых выводов включает многослойную ленту - носитель, содержащую диэлектрические слои полиимида, проводники и межслойные переходы из меди. Эта лента - носитель закрывает кристалл, соединяясь с его контактными площадками Au-выступами. Ее внешние контакты расположены в виде матрицы с шагом 0,5 или 1,0 мм, на них формируются шариковые выводы из эвтектического сплава, пригодного для пайки при температуре 230…240 С. С обратной стороны кристалл с лентойм- носителем герметизируется трансферным (литьевым) прессованием. Фирма NEC изготовила в таком корпусном исполнении СБИС 10 × 10 мм, содержащую 188 выводов.
Анализ технологий изготовления корпусированных СБИС, габариты которых лишь в 1,2 раза могут превышать размеры самих кристаллов, показывает перспективность их применения при изготовлении МКМ. Такие кристаллодержатели имеют одно- или двухстороннюю защиту диэлектриком, шариковые выводы, расположенные либо по периметру, либо в виде матрицы, а в качестве основания в таких корпусах применяется носитель из керамики или полиимида.
Таким образом, дальнейшие пути миниатюризации многовыводных кристаллодержателей связываются с возможностью применения гибких полимерных носителей в их конструкции (см. рис. 17.9, г). В этом случае используется комбинация технологий формирования столбиковых (шариковых) выводов (в два ряда по периферии кристалла или по всей рабочей поверхности кристалла) с технологией монтажа «перевернутого кристалла», дополненной технологией монтажа на гибком полиимидном носителе (ТАВ) с выводными контактными отверстиями. Однако, проблематичным в такой конструкции BGA является получение периферийных паянных соединений кристалл - носитель выводов, характеризующихся усталостными напряжениями, и, как следствие, низкой надежностью, проявляющейся в отказах при испытании. Кроме того, технология монтажа таких кристаллодержателей должна быть не только групповой, но и высокоточной для исключения коротких замыканий и обрывов, причем прецизионность в этом случае определяется не столько шагом контактных площадок кристалла, сколько зазорами между паянными выводами кристалла после его сборки и монтажа на носителе. В целом, несмотря на достигнутую промежуточную габаритную минимизацию (т.е. на уровне кристаллодержателя) технологии такого корпусирования, остаются нерешенными вопросы обеспечения измерения, электротермотренировки, что в конечном итоге оставляет без решения конечную задачу – создание СБИС КГА для высоконадежного монтажа МКМ.
Рис. 17.9. Матричные кристаллодержатели: а и б – со штырьковыми укороченными выводами типа PGA (проволочный монтаж кристалла и монтаж через шарики соответственно); в – с матрицей шариковых контактов в основании корпуса типа BGA; г – на полимерной плате - носителе типа TAB;1 и 3, 5 – кристалл с проволочными и шариковыми выводами соответственно; 2, 4 – многослойное керамическое основание с прореженной и полной матрицей штырьковых выводов соответственно; 6 – основание-плата с тонкопленочной разводкой и выводными отверстиями; 7 – кристаллодержатель на гибком носителе с полной матрицей выводов
Сборка СБИС в бескорпусном исполнении дает возможность решить вопрос получения СБИС КГА, пригодных для монтажа МКМ с обеспечением минимальных массогабаритных показателей, требуемого быстродействия и высокой надежности.