
- •Введение
- •Развитие электроники
- •Особые свойства электронных приборов
- •Глава 1. Физические основы проводимости полупроводников
- •1.1. Общие сведения о полупроводниковых материалах
- •1.1.1. Энергетические зонные диаграммы кристаллов
- •1.1.2. Прохождение тока через металлы
- •1.2. Собственная проводимость полупроводников
- •1.3. Примесная проводимость полупроводников
- •1.3.1. Электронная проводимость. Полупроводник n-типа
- •1.3.2. Дырочная проводимость. Полупроводник p-типа
- •1.4. Однородный и неоднородный полупроводник
- •1.5. Неравновесная концентрация носителей
- •1.6. Прохождение тока через полупроводники
- •1.7. Уточнение понятий “собственные” и “примесные” полупроводники
- •Глава 2. Количественные соотношения в физике полупроводников
- •2.1. Распределение Ферми. Плотность квантовых состояний
- •2.2. Функция распределения Ферми – Дирака
- •2.3. Плотность квантовых состояний
- •2.4. Концентрация носителей в зонах
- •2.5. Собственный полупроводник
- •2.6. Примесный полупроводник. Смещение уровня Ферми
- •Глава 3. Электронно-дырочный переход
- •3.1. Образование и свойства р-п перехода
- •3.1.1. Виды p-n переходов
- •3.1.2. Потенциальный барьер
- •3.1.3. Токи р-n перехода в равновесии
- •3.1.4. Электронно-дырочный переход при внешнем смещении
- •3.2. Вольт-амперная характеристика р-п перехода
- •3.2.2 Влияние температуры на характеристику и свойства р-п перехода
- •3.2.3. Емкость р-п перехода
- •Глава 4. Полупроводниковые диоды
- •4.1 Диоды
- •4.1.1. Реальная вольт-амперная характеристика (вах) диода
- •4.1.2. Параметры диода
- •4.2. Разновидности диодов. Точечные и плоскостные диоды
- •4.2.1. Выпрямительные и силовые диоды
- •4.2.2. Тепловой расчет полупроводниковых приборов
- •4.2.3. Кремниевые стабилитроны (опорные диоды)
- •4.2.4. Импульсные диоды
- •4.2.5. Туннельные и обращенные диоды. Туннельный эффект. Туннельные диоды (тд)
- •4.2.6. Варикапы
- •4.4. Обозначение (маркировка) несиловых диодов
- •Глава 5. Биполярный бездрейовый транзистор
- •5.1. Устройство и принцип действия
- •5.2. Основные соотношения для токов. Коэффициент передачи тока
- •5.2.1. Возможность усиления тока транзистором
- •5.3. Три схемы включения транзистора
- •5.4. Статические характеристики транзистора
- •5.5. Предельные режимы (параметры) по постоянному току транзистора
- •5.6. Малосигнальные параметры и эквивалентные схемы транзистора
- •5.6.1. Зависимость внутренних параметров транзистора от режима и от температуры
- •5.6.2. Четырехполюсниковые h-параметры транзистора и эквивалентная схема с h-параметрами
- •5.6.2.1. Определение h-параметров по статическим характеристикам
- •5.6.2.2. Связь между внутренними параметрами и h-параметрами
- •5.7. Частотные свойства транзисторов. Дрейфовый транзистор
- •5.7.1. Частотно-зависимые параметры
- •5.7.2. Дрейфовый транзистор
- •Глава 6. Полевые (униполярные) транзисторы
- •6.1. Унитрон
- •6.3. Параметры и эквивалентная схема полевого транзистора
- •6.4. Обозначение (маркировка) и типы выпускаемых транзисторов
- •Глава 7. Тиристоры
- •7.1. Устройство и принцип действия тиристоров
- •7.2. Закрытое и открытое состояние тиристора
- •7.2.1. Закрытое состояние тиристора (ключ отключен)
- •7.2.2. Открытое состояние (ключ включен)
- •7.3. Включение и выключение тиристора
- •7.4. Параметры тиристора
- •7.5. Типы и обозначения силовых тиристоров
- •Глава 8. Интегральные микросхемы.
- •8.1 Общие сведения о микросхемах.
- •8.1.1 Классификация микросхем.
- •8.1.2. Обозначения имс
- •8.2. Сведения по технологии получения имс
- •8.2.1. Исходные материалы
- •8.2.2. Групповой метод. Планарная технология
- •8.3. Планарно – эпитаксиальный цикл.
- •8.3.1. Эпитаксия.
- •8.3.2. Окисление поверхности кремния.
- •8.3.3. Первая (разделительная) диффузия.
- •8.3.4. Вторая (базовая) и третья (эмиттерная) диффузии.
- •8.3.5. Металлизация (межсоединения).
- •8.3.6. Фотолитография.
- •8.4. Особенности и перспективы развития интегральных схем.
- •8.4.1. Особенности имс.
- •8.4.2. Перспективы развития.
- •Библиографический список
- •Глава 8. Интегральные микросхемы ……………………………………… 61 Библиографический список ……………………………………………….. 78
Глава 8. Интегральные микросхемы.
8.1 Общие сведения о микросхемах.
8.1.1 Классификация микросхем.
Все выпускаемые отечественные интегральные микросхемы (ММС) подразделяются на группы, подгруппы и виды. В зависимости от конструктивно-технического исполнения ИМС подразделяются на три группы: полупроводниковые, пленочные, гибридные.
Группы ИМС.
Полупроводниковые ИМС. Это микросхемы, все элементы и межэлементные соединения выполнены в объеме и на поверхности полупроводникового кристалла. Краткое определение полупроводниковых ИМС, как электронных полупроводниковых приборов данного во введении. Следует добавить, что составляющие полупроводниковую микросхему транзисторы, диоды, резисторы выполняются в приповерхностном слое тонкого полупроводникового кристалла, называется подложкой. Существуют и другие определения ИМС. Например, более общее, охватывающее все типы[1]: ИМС есть совокупность, как правило, большого количества взаимосвязанных компонентов (транзисторов, диодов, резисторов, конденсаторов и т. п.), изготовленных в едином технологическом цикле на одной и той же несущей конструкции - подложке - и выполняющая определенную функцию преобразования сигнала.
Полупроводниковые ИМС составляют основу современной микроэлектроники и будут рассмотрены более подробно.
Пленочные ИМС. Это микросхемы, состоящие только из пассивных элементов (резисторов, конденсаторов, индуктивностей), выполненных в виде разного рода пленок нанесенных на поверхность диэлектрической подложки. Различают тонкопленочные (толщина пленок до 1÷2 мкм) и толстопленочные ИМС (толщина до 10÷20 мкм). Из-за отсутствия активных элементов функции пленочных ИС крайне ограничены.
Гибридные ИМС (ГИС). Это комбинация пассивных пленочных элементов и активных дискретных компонентов (транзисторов, диодов), расположенных на общей диэлектрической подложке. Дискретные компоненты, входящие в состав ГИС, называют навесными компонентами, подчеркивая этим их обособленность от основного технологического цикла получения ГИС. Кроме транзисторов и диодов, навесными компонентами ГИС могут быть полупроводниковые ИМС.
Принадлежность конкретной ИМС к - соответствующей группе отражается первой цифрой в обозначении ИМС:
1,5,6,7 - полупроводниковые;
2,4,8 - гибридные;
3 - прочие (куда входят пленочные).
Подгруппы и виды ИМС.
Другой классификационный признак ИМС – подгруппы и виды. Ему соответствуют две буквы в обозначении ИМС. Деление на подгруппы и виды осуществляется в зависимости от характера выполняемых ими функций в радиоэлектронной аппаратуре. Например, подгруппы (1-я буква): генераторы, усилители, ключи, преобразователи и т. д. Микросхемы в подгруппе подразделяются на виды (2-я буква), различающиеся по роду тока, частоте, форме сигнала и др. например, подгруппа усилители (У) подразделяется на виды: усилитель низкой частоты (Н), высокой частоты (В), постоянного тока (Т) и т. д. Деление ИМС на подгруппы, виды и их условные обозначения установлены (рекомендованы) ОСТ11073.915 – 80. в таблице 8.1 в качестве примера приведены некоторые подгруппы и виды (наиболее часто применяемые) и их обозначения. Полная таблица всех подгрупп и видов довольно внушительна. Кроме того, по мере развития микроэлектроники ГОСТ периодически изменяется, что, как правило, приводит к появлению в обозначениях. Пользоваться нужно действующим
Аналоговые и цифровые ИМС.
В зависимости от вида обрабатываемого сигнала все микросхемы делятся на аналоговые и цифровые.
Аналоговыми называют микросхемы, предназначенные для обработки и преобразования аналоговых сигналов. К аналоговым сигналам относят сигналы, изменяющиеся по закону непрерывной функции. Например, усилители (У), генераторы (Г) в табл. 8.1 относятся к аналоговым ИМС.
Цифровыми называют микросхемы, предназначенные для обработки и преобразования цифровых сигналов. К цифровым сигналам относят сигналы, изменяющиеся по закону дискретной функции и выраженные в цифровом виде. В наиболее распространенной двоичной системе цифровой сигнал имеет два значения - нуль (0) и единица (1). Например, триггеры (Т), логические элементы (Л) в табл. 8.1 относятся к цифровым ИМС.
Степень интеграции.
Интегральные схемы подразделяют по функциональной сложности ИС. Функциональную сложность характеризуют степенью интеграции N, под которой понимают количество элементов в кристалле (чипе). Обычно N характеризуют количеством транзисторов в чипе. К настоящему времени N достигает 100000 и более. Повышение степени интеграции, а вместе с ней и сложности выполняемых микросхемой функции – одна на главных (объективных) тенденций микроэлектроники. Для количественной оценки введем условный коэффициент К степени интеграции (ГОСТ 17021 - 88):
К=lgN, (8.1)
Таблица 8.1
Подгруппа ИМС (обозначения) |
Вид ИМС (обозначения) |
Обозначение подгруппы и вида |
Генераторы (Г) |
Гармонических сигналов (С) |
ГС |
Прямоугольных сигналов (Г) |
ГГ | |
Сигналов специальной формы (Ф) |
ГФ | |
Линейно-изменяющихся сигналов (Л) |
ГЛ | |
Шума (М) |
ГМ | |
Прочие (П) |
ГП | |
Усилители (У) |
Низкой частоты (Н) |
УН |
Высокой частоты (В) |
УВ | |
Постоянного тока (Т) |
УТ | |
Операционные (Д) |
УД | |
Дифференциальныые (С) |
УС | |
Прочие (П) |
УП | |
Триггеры (Т) |
Универсальные – типа JK (В) |
ТВ |
RS – триггеры (Р) |
ТР | |
Счетные – типа Т (Т) |
ТТ | |
D – триггеры (М) |
ТМ | |
Прчие (П) |
ТП | |
Схемы цифровых устройств (И) |
Регистры (Р) |
ИР |
Сумматоры (М) |
ИМ | |
Счетчики (Е) |
ИЕ | |
Шифраторы (В) |
ИВ | |
Дешифраторы (Д) |
ИД | |
Прочие (П) |
ИП | |
Логические злементы (Л) |
Элемент И (И) |
ЛИ |
Элемент НЕ (Н) |
ЛН | |
Элемент ИЛИ (Л) |
ЛЛ | |
Элемент И-НЕ (А) |
ЛА | |
Элемент ИЛИ-НЕ (Е) |
ЛЕ | |
Элемент И-ИЛИ (С) |
ЛС | |
Элемент И-ИЛИ-НЕ (Р) |
ЛР | |
Элемент ИЛИ-НЕ / ИЛИ (М) |
ЛМ | |
Элемент И-НЕ / ИЛИ-НЕ (Б) |
ЛБ |
Величину К округляют до ближайшего целого большего числа. В зависимости от величины К различают:
1-ю степень интеграции, К=1, (N10);
2-ю степень интеграции, К=2, (10<N100);
3-ю степень интеграции, К=3, (100<N1000),
и т.д.
Имеется шестая степень интеграции. На очереди ИМС седьмой степени интеграции.
На практике и в литературе, особенно в зарубежной, для оценки для оценки функциональной сложности широко используется другие понятия (термины): малая (МИС) или просто ИС, средняя (СИС), большая (БИС) и сверхбольшая (СБИС) микросхемы. Эти понятия зависят не только от N, но еще от функционального назначения и технологии изготовления (в нашей стране эти понятия также рекомендованы ГОСТ 17021-88). Эти данные приведены в таблице 8.2.
В зарубежной литературе сложность цифровых микросхем часто оценивают количеством эквивалентных вентилей (двухвходовых логических элементов – Usable gates). К настоящему времени количество эквивалентных вентилей в одной ИМС достигает 10000 и более.
Для характеристики уровня технологии производства ИС вводят показатель плотности упаковки, означающий количество транзисторов (элементов) на единицу площади (1мм2) чипа (кристалла). Плотность упаковки достигает 1000 транзисторов на 1мм2 и более.
Таблица 8.2
Наименование ИС |
Вид ИС
|
Число элементов N |
ИС (IC) |
Цифровая |
1100 |
Аналоговая |
1100 | |
СИС (MSI) |
Цифровая |
1011000 |
Аналоговая |
101500 | |
БИС (LSI) |
Цифровая |
1001(0,51)105 |
Аналоговая |
50110000 | |
СБИС (VLSI) |
Цифровая с регулярной структурой |
Более 100000 |
Цифровая с нерегулярной структурой |
Более 50000 | |
Аналоговая |
Более 100000 |
Ранее, до выхода ГОСТ 17021-88 было иное определение понятий МИС, СИС, БИС, СБИС, которые можно встретить в нашей литературе. В столбце Наименование ИС в скобках приведены английские наименования (аббревиатуры) ИС (IC-Integrated Circuit).