- •Предисловие
- •1. Структура и симметрия твердого тела
- •1.1 Конденсированное состояние вещества. Дальний и ближний порядок. Кристаллические и аморфные тела. Анизотропия кристаллов. Поликристаллы. Полимеры.
- •1.2. Структура кристаллической решетки.
- •1.3. Геометрические элементы кристалла. Вектор обратной решетки.
- •1.4. Дифракция волн в кристалле.
- •1.5. Классификация кристаллов по типам связи.
- •1.6. Симметрия атомов и типы образуемых ими простейших структур.
- •2. Тепловые свойства кристаллов
- •2.1.Теплоемкость кристаллов.
- •2.2. Решеточная теплопроводность твердых тел.
- •3. Электронная структура кристаллов.
- •3.1.Движение электронов в периодическом поле. Зонная структура энергетического спектра электронов в кристалле. Функции Блоха. Дисперсионные кривые. Эффективная масса.
- •3.2. Заполнение зон электронами и деление тел на металлы, диэлектрики и полупроводники.
- •3.3 Температурная зависимость функции распределения электронов по энергетическим состояниям – функция распределения Ферми – Ди-рака.
- •3.4. Электронный газ в металлах.
- •3.5. Электропроводность металлов.
- •3.6. Явление сверхпроводимости.
- •4. Полупроводниковая электроника
- •4.2. Примесные полупроводники.
- •4.3. Электропроводность полупроводников.
- •4.4. Эффект Холла.
- •4.5. Контактные явления в металлах и полупроводниках.
- •4.6. Контакт металла с полупроводником.
- •4.8. Полупроводниковые триоды (транзисторы). Тиристоры.
- •4.9. Гетеропереходы в полупроводниках.
- •5.2. Люминесценция твердых тел
- •5.3. Фотоэлектрические явления в р – n – переходе.
- •5.4. Светодиоды.
- •5.5. Преобразование инфракрасного излучения в видимое.
- •5.6. Полупроводниковые лазеры.
- •6. Магнитные свойства твердых тел
- •6.1. Классификация твердых тел по их магнитным свойствам.
- •6.2. Природа диамагнетизма.
- •6.3. Природа парамагнетизма.
- •6.4. Ферромагнетики.
- •6.5. Антиферромагнетизм. Ферриты.
- •Литература
- •Предметный указатель
NC e µ/kT = NV e − µ/kT e - E /kT |
(18) |
|
Из формулы (18) вытекает выражение для µ: |
|
|
µ = - Eg/2 + ¾ kT ln(mp/mn) |
(19) |
|
Отсюда вытекает, что при Т = 0, а также при mp = mn |
µ = - Eg/2. При |
T > 0 значение химического потенциала смещается к той зоне, где m* меньше. С учетом (17) для собственных полупроводников также получаем:
ni = pi = (NC NV)1/2 e – E /2kT |
(20) |
Следовательно, равновесная концентрация носителей тока определяется шириной запрещенной зоны и температурой полупроводника. Из формулы (17) следует также, что для любого полупроводника
pn = ni2 ( T ) = pi2 ( T ) |
(21) |
4.2.Примесные полупроводники.
При наличии в полупроводнике некоторого количества примесных центров в энергетическом спектре возникают дополнительные уровни, которые могут располагаться как в разрешенных, так и в запрещенных зонах.
Если валентность атомов примеси на единицу больше валентности основных образующих решетку атомов, то примесь легко отдает дополнительный электрон, который переходит в зону проводимости и может свободно перемещаться по кристаллу. В результате появляются дополнительные свободные носители тока и следовательно электропроводность кристалла возрастает. Соответствующие примесные атомы называются донорами, а полупроводник называется донорным. Уровни доноров расположены в запрещенной зоне вблизи дна зоны проводимости на расстоянии Ed, которое значительно меньше ширины запрещенной зоны (Рисунок 22а). Обычно Ed ~ 0, 01 эВ. Донором является, например, пятивалентный мышьяк (As) в решетке германия. Носителями заряда в донорных полупроводниках являются
отрицательные частицы – электроны. Такие полупроводники называются также полупроводниками n – типа, так как для них n>> p.
Если валентность примесных атомов на единицу меньше валентности основных атомов решетки, (In в Ge, B в Si ), то такие примеси могут захватить электрон, что приводит к возникновению дырки в валентной зоне. Соответствующие примесные атомы называются акцепторами, а полупроводник называется акцепторным или полупроводником р – типа, поскольку носителями заряда в этом случае являются положительные квазичастицы – дырки, причем концентрация дырок на много порядков выше концентрации электронов: p>> n. Уровень примеси в таких полупроводниках находится в запрещенной зоне вблизи потолка валентной зоны; обычно на расстоянии Еа ~ 0,01 эВ.(Рисунок 22б).
Рассмотрим теперь зависимость концентрации электронов на примесных уровнях от температуры. В примесном полупроводнике электроны могут переходить в зону проводимости не только из валентной зоны, но и с донорных уровней, дырки же могут возникать при переходах электронов из валентной зоны на акцепторные уровни. При этом следует учесть , что нахождение двух электронов на одном примесном донорном уровне невозможно вследствие сильного межэлектронного отталкивания. В результате донорный уровень может быть заселен не более чем однократно. По той же причине акцепторный уровень не может быть пустым, т.е. может быть заселен одноили двукратно. С учетом этого обстоятельства для вычисления вероятности нахождения электрона на примесном уровне в функцию распределения Ферми – Дирака вводится так называемый фактор вырождения g. Для мелких доноров g = ½, для мелких акцепторных уровней: g = 2. Таким образом, выражение для концентрации электронов на примесном уровне можно получить, если концентрацию примесных атомов N* умножить на функцию, аналогичную (10):
f(E*) = (1 + g e(E* -µ)/kT) – 1 |
(22) |
где E* - энергияпримесногоуровня.
При низких температурах, kT << Eg, число электронов, попавших в зону проводимости с донорных уровней, может на много порядков превышать число электронов, возбужденных из валентной зоны. В этом случае концентрация n электронов в зоне проводимости примерно равна числу свободных мест на донорных уровнях, Nd+. Полагая в формуле (22) E* = - Ed, получим:
Nd+ = Nd[1 – f( - Ed)] = Nd(1 + 2 e(E + µ)/kT), – 1 (23)
где Nd – концентрация атомов донорной примеси. Обычно Nd ~ 1022 – 1023
м-3.
Приравняв n из формулы (14) и Nd+ из формулы (23), получим уравнение для определения химического потенциала µ:
NC e µ/kT = Nd (1 + 2 eµ/kT eE /kT) – 1 |
(24) |
При очень низких температурах, Ed >> kT, доноры ионизированы слабо, и знаменатель в правой части выражения (24) много больше единицы. Следовательно, из (24) получаем:
µ = − Ed/2 + ½ kT ln(Nd/2NC) |
(25) |
______ |
|
n =√NC Nd/2 e –E /2kT |
(26) |
Таким образом, при Т – 0 химический потенциал стремится к середине между дном зоны проводимости и донорным уровнем (Рис.22а). При увеличении температуры он сначала повышается, достигает максимума, после чего начинает понижаться и при некоторой температуре Т = Тs пересекает уровень доноров - Ed. Температура
Ts = Ed [k ln(3NC/Nd)] – 1 |
(27) |
называется температурой истощения примеси. Например, в Ge для примеси c Ed ~ 0,01 эВ и Nd = 1022 м- 3 согласно (27) получим: Ts = 30 K.
При небольшом повышении температуры над Ts практически все электроны переходят с примесных атомов в зону проводимости и тогда n = Nd. В этой области температур
µ = kT ln(Nd/NC) |
(28) |
В конце концов, при kT ~ Eg заметный вклад в концентрацию электронов в зоне проводимости начнут давать электроны, перешедшие непосредственно из валентной зоны. Концентрация электронов вновь начнет расти и станет почти равной концентрации ni в собственном полупроводнике. За температуру перехода к собственной проводимости
принимают температуру Ti, при которой концентрация носителей в собственном полупроводнике совпадает с концентрацией носителей в донорном полупроводнике в области истощения примеси, ni (Ti) = Nd:
Ti = Eg [ k ln(NCNV/Nd2)] – 1 |
(29) |
Согласно этому уравнению, чем шире запрещенная зона полупроводника и чем выше концентрация примеси, тем выше температура перехода к собственной проводимости. При Nd = 1022 м– 3, что составляет ~ 0,001% от основных атомов, Ti в германии равна 480 К, а в кремнии она же составляет 650 К. Значение Ti определяет предельную температуру работы большинства электронных приборов.
Формулы для акцепторного полупроводника имеют тот же вид, что и для донорного полупроводника при замене NC на NV и Ed на Еа. Зависимость химического потенциала от температуры для акцепторного полупроводника представлена на рисунке 22б.
В донорном полупроводнике электроны являются основными носителями. В то же время, при температурах выше абсолютного нуля имеется некоторое количество дырок, которые в данном случае являются неосновными носителями. В акцепторном полупроводнике основными носителями являются дырки, а неосновными – электроны. Соотношение между концентрациями основных и неосновных носителей определяется законом действующих масс согласно формулам (17) и (21). Его можно сформулировать так: произведение концентрации электронов и дырок в полупроводнике не зависит от его легирования, а зависит только от температуры; это произведение равно квадрату концентрации носителей в собственном полупроводнике.Отсюда вытекает, что в области примесной проводимости концентрация неосновных носителей оказывается намного меньшей, чем в собственном полупроводнике при той же температуре.
4.3.Электропроводность полупроводников.
Из формулы (50) части 3 видно, что электропроводность вещества определяется концентрацией носителей заряда и их подвижностью. В то время как в металлах носителями заряда являются квазисвободные электроны, удельная электрическая проводимость полупроводников в общем случае определяется как электронами (n), как и дырками (р):
σ = σn + σp = enun + epup |
(30) |
где е – заряд частицы, n - концентрация электронов, un – их подвижность. p и up – соответственно концентрация и подвижность дырок.
Поскольку электронный (и дырочный) газ в полупроводниках не вырожден, температурная зависимость подвижности определяется
формулой (57) части 3: |
|
______ u = AT – 3/2 |
(31) |
где А =eα√π/8m*k – не зависящий от температуры коэффициент пропорциональности, различный для электронов, A = An, и дырок, A = Ap. В отличие от металлов, однако, концентрация носителей в полупроводниках сильно зависит от температуры.
Концентрация электронов и дырок в собственном полупроводнике определяется формулой (20). Подставляя (31) и (20) в выражение (30) с учетом (15) и (16а) получаем:
σ = σi = σ0 e- E |
/2kT |
(32) |
где |
_____ |
|
σ0 = 2e(2πk√mnmp )3/2 h –3 (An + Ap) |
(33) |
Зависимость σ от Т удобно представить в полулогарифмических координатах:
lnσi = lnσ0 – Eg/2kT |
(34) |
Если отложить по оси абсцисс величину (2кТ) – 1, а по оси ординат lnσi, то на графике получится прямая, отсекающая на оси ординат отрезок, равный lnσ0, (Рисунок 23). При этом тангенс угла наклона прямой равен по величине ширине запрещенной зоны: tg α = Eg.
В случае примесных полупроводников в области температур ниже температуры перехода к собственной проводимости, Ts < T < Ti, концентрация носителей одного знака (основных) значительно выше концентрации носителей противоположного знака (неосновных). Имеем: n>>p для донорных полупроводников или p>>n для акцепторных полупроводников. В этом случае в формуле (30) имеет смысл оставлять только одно слагаемое, соответствующее основным носителям. При температурах ниже температуры истощения примеси (T < Ts) или выше температуры перехода к собственной проводимости (T > Ti) проводимость, как и в собственных полупроводниках, очень резко