- •Лекция 1: 9.09.2015
- •Требования, предъявляемые к катодным осадкам в гальванотехнике и гидроэлектрометаллургии. 2
- •Механизм электрокристаллизации металлов
- •Лекция 3: 23.09.2015
- •Влияние природы осаждаемого Ме на величину кристаллов и Ме-п
- •Влияние режима электролиза на структуру металлических покрытий/осадков
- •Влияние состава электролита на структуру гальванических осадков
- •Лекция 4: 30.09.2015
- •Условия получения компактных поликристаллических осадков
- •Влияние различных факторов на рс электролита
- •Методы измерения рассеивающей способности
- •Анодные процессы гальванотехники. Выбор материала, вида и площади поверхности анода
- •Обезжиривание
- •Химическое обезжиривание
- •Электрохимическое обезжиривание
- •Промывочные операции
- •Электрополировка поверхностей Ме
- •Цинкование
- •Сульфатные электролиты цинкования
- •Лекция 10: 18.11.2015
- •Хлористоаммонийные и аммиакатные электролиты цинкования
- •Заключительные операции при цинковании
- •Сульфатные электролиты никелирования
- •Блестящее никелирование
- •Перспективные электролиты никелирования
- •Многослойное никелирование
- •1)Би-никель (двухслойное никелирование).
- •Хромирование. Целевое назначение. Электролиты и их сравнительная характеристика
- •Хромирование из сульфатного электролита
- •Усовершенствование процессов хромирования
- •Интенсификация процесса хромирования
- •Физико – химические свойства Cr-п
- •Механизм процесса анодирования
- •Заключительные операции при анодировании
- •Особые случаи анодирования
- •Электроосаждение сплавов
- •Лекция 15: 23.12.2015
- •Электроосаждение Ме-п в насыпном виде
- •1)Наливной колокол
- •2)Погружные вращающиеся барабаны. Они погружаются в гальваническую ванну, аноды с 2-х сторон вдоль граней барабана, он вращается и идет покрытие.
- •Осаждение Ме-п на реверсивном токе
Условия получения компактных поликристаллических осадков
Такие осадки получаются при весьма сильно отклоненном от равновесия электродном Ɛ катода, и скорость образования кристаллических зародышей намного больше линейного роста. Скорость линейного роста определяется поставкой разряжающихся ионов к растущим граням кристалла. Первоначально рост идет на наиболее выгодных участках, там силовые линии тока гуще, процесс идет быстрее, но и быстрее истощается область по разряжающимся ионам. Силовые линии перемещаются на другие участки, где есть запас по ионам. На 1-ом участке катодная плотность тока падает, Ɛ снижается и возникает возможность адсорбции ПАВ. Т.е. при восстановлении концентрации ионов Ме на 1-ом участке процесс осаждения будет проходить при большей , т.к. ПАВ закрыли поверхность, образовались кристаллы зародышей, которые вновь будут расти до момента возникновения концентрационных ограничений по разряжающимся ионам. За счет периодического перемещения силовых линий с одних участков на другие и адсорбции ПАВ, получаются мелкокристаллические плотноупакованные покрытия. В качестве ПАВ - различные коллоиды и гидроксиды, действие их аналогично. Компактные осадки будут получаться, когда не достигается , обусловленная поставкой ионов из объема раствора к катоду, т.е. рабочая плотность тока должна быть меньше предельной плотности тока.
Лекция 5: 7.10.2015
Распределение Me и тока по катодной поверхности. Понятие о рассеивающей способности.
Одним из недостатков технологии электроосаждения является неравномерность осаждения покрытий по толщине, особенно на сложно профилированных деталях. Неравномерность приводит к перерасходу цветных Me, снижению антикоррозионных и функциональных свойств. В случае осаждения драгоценных Me, неравномерность приводит к избыточному росту толщины покрытия на тех участках детали, где излишняя толщина не нужна.
Практически всегда на близких участках детали или катода, покрытие будет садиться более толстым, чем на удаленных/углубленных. Т.к. расстояние до близлежащих меньше, чем дальних, меньше сопротивление столба электролита, то сила или плотность тока на близлежащих участках будет выше, а это предполагает осаждение более толстого слоя покрытия. Распределение тока или Me по катодной поверхности связанное только с геометрическими параметрами, т.е. с разноудаленностью называется первичным распределением ().
= == - связано только с геометрией.
Но существует понятие вторичного распределения () – это реальное распределение тока или Me по катодной поверхности: = == - определяется на опыте. зависит от многих факторов: состава электролита, режима процесса и им можно управлять, делая покрытие более равномерным, чем оно могло бы быть, исходя только из геометрических параметров.
Соотношение и определяет параметр – рассеивающая способность (РС) электролита, показывает степень отношения реального к и выражается в %: РС= ∙100%. - отношение расстояний, – реальное отклонение толщин или плотностей тока. Идеальное распределение, т.е. одинаковая толщина достигается, когда стремится или равно 1.
Близкая по понятию величина – это кроющая способность (КС). В отличие от РС она показывает возможность электролита давать покрытие в труднодоступных местах или углублениях без учета равномерности толщины.
I – в углу покрытие есть, большая разницы толщин; II – в углу покрытия нет, равномерность толщины. . Даже на плоских деталях часто наблюдается неравномерность толщины, связанная с появлением краевого эффекта. За счет сосредоточения силовых линий именно по краям детали получается, что толщина покрытий на краях может быть намного больше, чем в центре детали.
Чем хуже РС, тем больше будет разнотолщинность, даже на плоской детали. Величину РС можно выразить через некоторые электрохимические параметры, которыми можно управлять.
Выразим напряжение, которое будет реализовываться в ванне или ячейке на ближнем или дальнем участке: , , , параллельное соединение, поэтому .
Анод плоский, Ɛ на всей поверхности примерно одинаковый, поэтому:
,
= ;=.
= , тогда .
=, делим на и выявляем, что:=
= + . Выразим через : = , = .
Вторичное распределение: = + , переходим к исходной формуле РС: РС= = =
Изменение потенциала (в данном случае ) приходящееся на единицу тока или плотности тока - величина поляризуемости (Рк) - это сопротивление протеканию электрохим. процесса, которое зависит от многих факторов. Поляризуемостью можно управлять, она непостоянна – это хорошо.
Величина, обратная от сопротивления – электропроводность электролита и поэтому РС=Рк∙χ , а электропроводность тоже изменяема. Если использовать величину удельной электропроводности и величину плотности тока, то размерность такого произведения – см, и произведение (Рк∙χ) часто сравнивают с величиной расстояния до ближнего участка катода. Если расстояние до ближнего участка больше >>>> Рк∙χ, то распределение покрытия будет определяться только геометрическими параметрами и разноудаленностью. И наоборот, <<<<Рк∙χ, покрытие стремится к идеальному распределению. В некоторых источниках, геометрический и электрохим.параметры выражают через критерий Вагнера: χ∙Рк∙.
Распределение Me и распределение тока на катодной поверхности будут совпадать между собой в том случае, если Вт=100% или Вт не зависит от плотности тока. Это достигается не всегда: = =. Помимо электрохимических параметров нужно также знать зависимость Вт от применяемой плотности тока. Учет выхода по току: РС=[1- (1- Рк∙χ)], а когда выхода по току равны или 100%, то формула превращается в исходное состояние.