
- •Лекция 1: 9.09.2015
- •Требования, предъявляемые к катодным осадкам в гальванотехнике и гидроэлектрометаллургии. 2
- •Механизм электрокристаллизации металлов
- •Лекция 3: 23.09.2015
- •Влияние природы осаждаемого Ме на величину кристаллов и Ме-п
- •Влияние режима электролиза на структуру металлических покрытий/осадков
- •Влияние состава электролита на структуру гальванических осадков
- •Лекция 4: 30.09.2015
- •Условия получения компактных поликристаллических осадков
- •Влияние различных факторов на рс электролита
- •Методы измерения рассеивающей способности
- •Анодные процессы гальванотехники. Выбор материала, вида и площади поверхности анода
- •Обезжиривание
- •Химическое обезжиривание
- •Электрохимическое обезжиривание
- •Промывочные операции
- •Электрополировка поверхностей Ме
- •Цинкование
- •Сульфатные электролиты цинкования
- •Лекция 10: 18.11.2015
- •Хлористоаммонийные и аммиакатные электролиты цинкования
- •Заключительные операции при цинковании
- •Сульфатные электролиты никелирования
- •Блестящее никелирование
- •Перспективные электролиты никелирования
- •Многослойное никелирование
- •1)Би-никель (двухслойное никелирование).
- •Хромирование. Целевое назначение. Электролиты и их сравнительная характеристика
- •Хромирование из сульфатного электролита
- •Усовершенствование процессов хромирования
- •Интенсификация процесса хромирования
- •Физико – химические свойства Cr-п
- •Механизм процесса анодирования
- •Заключительные операции при анодировании
- •Особые случаи анодирования
- •Электроосаждение сплавов
- •Лекция 15: 23.12.2015
- •Электроосаждение Ме-п в насыпном виде
- •1)Наливной колокол
- •2)Погружные вращающиеся барабаны. Они погружаются в гальваническую ванну, аноды с 2-х сторон вдоль граней барабана, он вращается и идет покрытие.
- •Осаждение Ме-п на реверсивном токе
Условия получения компактных поликристаллических осадков
Такие
осадки получаются при весьма сильно
отклоненном от равновесия электродном
Ɛ катода, и скорость образования
кристаллических зародышей намного
больше линейного роста. Скорость
линейного роста определяется поставкой
разряжающихся ионов к растущим граням
кристалла. Первоначально рост идет на
наиболее выгодных участках, там силовые
линии тока гуще, процесс идет быстрее,
но и быстрее истощается область по
разряжающимся ионам. Силовые линии
перемещаются на другие участки, где
есть запас по ионам. На 1-ом участке
катодная плотность тока падает, Ɛ
снижается и возникает возможность
адсорбции ПАВ. Т.е. при восстановлении
концентрации ионов Ме на 1-ом участке
процесс осаждения будет проходить при
большей
,
т.к. ПАВ закрыли поверхность, образовались
кристаллы зародышей, которые вновь
будут расти до момента возникновения
концентрационных ограничений по
разряжающимся ионам. За счет периодического
перемещения силовых линий с одних
участков на другие и адсорбции ПАВ,
получаются мелкокристаллические
плотноупакованные покрытия. В качестве
ПАВ - различные коллоиды и гидроксиды,
действие их аналогично. Компактные
осадки будут получаться, когда не
достигается
,
обусловленная поставкой ионов из объема
раствора к катоду, т.е. рабочая плотность
тока должна быть меньше предельной
плотности тока.
Лекция 5: 7.10.2015
Распределение Me и тока по катодной поверхности. Понятие о рассеивающей способности.
Одним из недостатков технологии электроосаждения является неравномерность осаждения покрытий по толщине, особенно на сложно профилированных деталях. Неравномерность приводит к перерасходу цветных Me, снижению антикоррозионных и функциональных свойств. В случае осаждения драгоценных Me, неравномерность приводит к избыточному росту толщины покрытия на тех участках детали, где излишняя толщина не нужна.
Практически
всегда на близких участках детали или
катода, покрытие будет садиться более
толстым, чем на удаленных/углубленных.
Т.к. расстояние до близлежащих меньше,
чем дальних, меньше сопротивление
столба электролита, то сила или плотность
тока на близлежащих участках будет
выше, а это предполагает осаждение
более толстого слоя покрытия. Распределение
тока или Me
по катодной поверхности связанное
только с геометрическими параметрами,
т.е. с разноудаленностью называется
первичным
распределением ().
=
=
=
- связано только с геометрией.
Но
существует понятие вторичного
распределения ()
– это реальное распределение тока или
Me
по катодной поверхности:
=
=
=
- определяется на опыте.
зависит
от многих факторов: состава электролита,
режима процесса и им можно управлять,
делая покрытие более равномерным, чем
оно могло бы быть, исходя только из
геометрических параметров.
Соотношение
и
определяет
параметр – рассеивающая способность
(РС) электролита, показывает степень
отношения реального
к
и выражается в %: РС=
∙100%.
- отношение расстояний,
–
реальное отклонение толщин или плотностей
тока. Идеальное распределение, т.е.
одинаковая толщина достигается, когда
стремится или равно 1.
Близкая по понятию величина – это кроющая способность (КС). В отличие от РС она показывает возможность электролита давать покрытие в труднодоступных местах или углублениях без учета равномерности толщины.
I
– в углу покрытие есть, большая разницы
толщин; II
– в углу покрытия нет, равномерность
толщины.
.
Даже на плоских деталях часто наблюдается
неравномерность толщины, связанная с
появлением краевого эффекта. За счет
сосредоточения силовых линий именно
по краям детали получается, что толщина
покрытий на краях может быть намного
больше, чем в центре детали.
Чем хуже РС, тем больше будет разнотолщинность, даже на плоской детали. Величину РС можно выразить через некоторые электрохимические параметры, которыми можно управлять.
Выразим
напряжение, которое будет реализовываться
в ванне или ячейке на ближнем или дальнем
участке:
,
,
,
параллельное соединение, поэтому
.
Анод плоский, Ɛ на всей поверхности примерно одинаковый, поэтому:
,
=
;
=
.
=
, тогда
.
=
,
делим на
и выявляем, что:
=
=
+
.
Выразим
через
:
=
,
=
.
Вторичное
распределение:
=
+
,
переходим к исходной формуле РС: РС=
=
=
Изменение
потенциала (в данном случае
)
приходящееся на единицу тока или
плотности тока - величина поляризуемости
(Рк)
- это сопротивление протеканию электрохим.
процесса, которое зависит от многих
факторов. Поляризуемостью можно
управлять, она непостоянна – это хорошо.
Величина,
обратная от сопротивления –
электропроводность электролита и
поэтому РС=Рк∙χ
, а электропроводность тоже изменяема.
Если использовать величину удельной
электропроводности и величину плотности
тока, то размерность такого произведения
– см, и произведение (Рк∙χ)
часто сравнивают с величиной расстояния
до ближнего участка катода. Если
расстояние до ближнего участка больше
>>>>
Рк∙χ, то распределение покрытия будет
определяться только геометрическими
параметрами и разноудаленностью. И
наоборот,
<<<<Рк∙χ,
покрытие стремится к идеальному
распределению. В некоторых источниках,
геометрический и электрохим.параметры
выражают через критерий Вагнера: χ∙Рк∙
.
Распределение
Me
и распределение тока на катодной
поверхности будут совпадать между
собой в том случае, если Вт=100% или Вт не
зависит от плотности тока. Это достигается
не всегда:
=
=
.
Помимо электрохимических параметров
нужно также знать зависимость Вт от
применяемой плотности тока. Учет выхода
по току: РС=[1-
(1- Рк∙χ)], а когда выхода по току равны
или 100%, то формула превращается в
исходное состояние.