
- •Лекция 1: 9.09.2015
- •Требования, предъявляемые к катодным осадкам в гальванотехнике и гидроэлектрометаллургии. 2
- •Механизм электрокристаллизации металлов
- •Лекция 3: 23.09.2015
- •Влияние природы осаждаемого Ме на величину кристаллов и Ме-п
- •Влияние режима электролиза на структуру металлических покрытий/осадков
- •Влияние состава электролита на структуру гальванических осадков
- •Лекция 4: 30.09.2015
- •Условия получения компактных поликристаллических осадков
- •Влияние различных факторов на рс электролита
- •Методы измерения рассеивающей способности
- •Анодные процессы гальванотехники. Выбор материала, вида и площади поверхности анода
- •Обезжиривание
- •Химическое обезжиривание
- •Электрохимическое обезжиривание
- •Промывочные операции
- •Электрополировка поверхностей Ме
- •Цинкование
- •Сульфатные электролиты цинкования
- •Лекция 10: 18.11.2015
- •Хлористоаммонийные и аммиакатные электролиты цинкования
- •Заключительные операции при цинковании
- •Сульфатные электролиты никелирования
- •Блестящее никелирование
- •Перспективные электролиты никелирования
- •Многослойное никелирование
- •1)Би-никель (двухслойное никелирование).
- •Хромирование. Целевое назначение. Электролиты и их сравнительная характеристика
- •Хромирование из сульфатного электролита
- •Усовершенствование процессов хромирования
- •Интенсификация процесса хромирования
- •Физико – химические свойства Cr-п
- •Механизм процесса анодирования
- •Заключительные операции при анодировании
- •Особые случаи анодирования
- •Электроосаждение сплавов
- •Лекция 15: 23.12.2015
- •Электроосаждение Ме-п в насыпном виде
- •1)Наливной колокол
- •2)Погружные вращающиеся барабаны. Они погружаются в гальваническую ванну, аноды с 2-х сторон вдоль граней барабана, он вращается и идет покрытие.
- •Осаждение Ме-п на реверсивном токе
Блестящее никелирование
В большинстве случаев используют покрытия, получающиеся при введении в электролит никелирования, в частности в сульфатный, специальных блескообразующих добавок. Блестящее покрытие не требует дополнительной трудоемкой механической полировки, обладают лучшими декоративными и антикоррозионными свойствами, а также специальными. Для никелирования мб использованы различные, но специальные блескообразующие добавки. Первоначально использовалась дисульфонафталиновая кислота как в цинковании. Но она работает лишь при низких температурах и дает устойчивый блеск при малых плотностях тока, что невыгодно. Стали использовать более эффективные блескообразователи. Для никелирования выявлено, что нужно применять определенную комбинацию блескообразователей, и они здесь поделены на 2 группы: слабые и сильные. Слабые блескообразователи дают устойчивый блеск лишь на полированной поверхности, с ростом толщины покрытия блеск снижается, поляризация растет незначительно, а продукты распада блескообразователей включаются в покрытие. Главное, что слабые блескообразователи формируют в Ni-П внутренние напряжения сжатия и это важно, т.к. в отсутствии блескообразователей в самом покрытии формируются внутренние напряжение растяжения, т.е. в присутствии слабых блескообразователей можно получить не напряженные пластичные покрытия. Сильные блескообразователи дают устойчивый блеск малозависящий от толщины и исходного состояния поверхности. Поляризация в присутствие сильных блескообразователей большая, покрытия сильно размельчаются в кристаллики, продукты распада блескообразователей включаются в состав покрытия, дополнительно делая его более напряженным. В итоге, для получения качественного прочно сцепленного, блестящего и пластичного покрытия при никелировании используют комбинацию слабых и сильных блескообразователей. Важно, чтобы их совместное присутствие не мешало друг другу при адсорбции и влияло на механические характеристики покрытия в нужном направлении. Не все блескообразователи оказались совместимы друг с другом, но лучшие результаты были получены, когда в качестве слабых блескообразователей использовали вещества содержащие серу, а в качестве сильных – вещества, имеющие двойные или тройные связи.
-
слабые. Из них может включаться сера.
Сильные:
C=O, C=,
C≡C-
, C≡N-.
Самый старый и надежный вариант: 1,4-бутилдиол (сильный) – сахарин(слабый); кумарин(сильный) – ПТСА(слабый).
Потом на их основании создали разнообразные композиции с различными торговыми названиями: НИБ-3, НИБ-5 (серосодержащие, слабые); НИБ-11, НИБ-12 (сильные). Затем серия: Rado-2 (слабый), Rado-57 (сильный). Московские: ЦНК.
Часто блескообразователи работают не сразу, а требуют предварительной проработки на случайных деталях с целью восстановления нужных эффективных форм, влияющих на электрокристаллизацию. Блескообразователи в ходе работы разлагаются и продукты разложения загрязняют электролит. При накоплении избыточных количеств загрязнений они начинают включаться в покрытие, делая его некачественным и напряженным, поэтому электролиты никелирования требуют периодической очистки. Блескообразователи в ходе процесса расходуются и из нужно корректировать по мере работы ванны. Это делается по результатам анализа или нормам расхода добавки на единицу количества электричества. Наибольший эффект блескообразования при температуре не выше 50÷60◦С. При более высоких температурах блеск пропадает, т.к. начинают преобладать силы десорбции и растущие кристаллы под действием блескообразователей не выравниваются, не измельчаются, не разлагаются и не приобретают текстуру роста.
Лекция 12: 2.12.2015
Механизм блескообразования и выравнивания поверхности
При гальваническом никелировании с помощью блескообразующих добавок (БОД) удается получить блестящие и выровненные поверхности. Блеск покрытия получается из-за того, что покрытие формируется мелкокристаллическим, плотноупакованным как под действием электролита, так и под действием БОД. Но этого часто оказывается мало, т.к. важна не только мелкокристалличность, но и определенная ориентация кристаллов. Блеск покрытия получается, когда текстура роста направлена перпендикулярно поверхности.
Формирование
нужной кристаллической структуры под
действием блескообразователей (БО)
происходит за счет того, что в участках
роста отдельных кристаллических граней
первоначально быстрее достигается Ɛ,
при котором формируются продукты
восстановления БО, которые эти растущие
грани будут блокировать. В этом
направлении рост прекращается и силовые
линии идут туда, где поверхность не
заблокирована и возможен рост кристаллов
до того момента, когда на новых участках
опять не достигнется потенциал
восстановления БО до тех форм, которые
заблокируют соседние участки, в итоге
рост кристаллических граней на всех
участках как бы выравнивается. Кристаллы
не только размягчаются, но и приобретают
нужную направленность. Аналогично
действуют не только сами добавки БО,
но и различные коллоидные частицы,
которые формируются в прикатодном
слое. Этими частицами могут выступать:
гидроксид Ni,
образующийся за счет выделения O2;
продукты неполного восстановления Ме,
сопутствующие загрязнениям и некоторые
другие. Все это приводит к повышенной
электродной поляризации и формированию
в отсутствие ПАВ полублестящих покрытий,
в присутствии ПАВ – блестящих.
Одновременно с блеском часто достигается
эффект микровыравнивания поверхности,
ее сглаживание идет на субмикроуровне.
Сглаживание здесь не затрагивает
макронеровности, но тем не менее качество
улучшается и блеск сохраняется. Часть
БО относится к выравнивающим добавкам.
Их действие объясняют формированием
диффузионного слоя различной толщины
на микровыступах и микроуглублениях.
На микровыступах этот диффузионный
слой тоньше, т.е. добавка БО туда подойдет
быстрее, заблокирует поверхность, и
рост кристаллов на выступающих участках
затормозятся. В углублениях наоборот,
диффузионный слой толще, добавка туда
проникает с трудом и в меньшей степени
блокирует поверхность, рост кристаллов
продолжается. В итоге углубление
дорастают до среднего профиля и
поверхность получается сглаженной. Не
все БО обладают таким свойством. Но,
например, 1,4-бутилдиол является
выравнивающей добавкой. Степень
выравнивания можно оценить: P=
Не забывать, что надежное выравнивание блескообразования достигается в очищенных от примесей электролитах и при оптимальных температурах, т.е. когда адсорбционные свойства добавок реализуются максимально.