
- •Лекция 1: 9.09.2015
- •Требования, предъявляемые к катодным осадкам в гальванотехнике и гидроэлектрометаллургии. 2
- •Механизм электрокристаллизации металлов
- •Лекция 3: 23.09.2015
- •Влияние природы осаждаемого Ме на величину кристаллов и Ме-п
- •Влияние режима электролиза на структуру металлических покрытий/осадков
- •Влияние состава электролита на структуру гальванических осадков
- •Лекция 4: 30.09.2015
- •Условия получения компактных поликристаллических осадков
- •Влияние различных факторов на рс электролита
- •Методы измерения рассеивающей способности
- •Анодные процессы гальванотехники. Выбор материала, вида и площади поверхности анода
- •Обезжиривание
- •Химическое обезжиривание
- •Электрохимическое обезжиривание
- •Промывочные операции
- •Электрополировка поверхностей Ме
- •Цинкование
- •Сульфатные электролиты цинкования
- •Лекция 10: 18.11.2015
- •Хлористоаммонийные и аммиакатные электролиты цинкования
- •Заключительные операции при цинковании
- •Сульфатные электролиты никелирования
- •Блестящее никелирование
- •Перспективные электролиты никелирования
- •Многослойное никелирование
- •1)Би-никель (двухслойное никелирование).
- •Хромирование. Целевое назначение. Электролиты и их сравнительная характеристика
- •Хромирование из сульфатного электролита
- •Усовершенствование процессов хромирования
- •Интенсификация процесса хромирования
- •Физико – химические свойства Cr-п
- •Механизм процесса анодирования
- •Заключительные операции при анодировании
- •Особые случаи анодирования
- •Электроосаждение сплавов
- •Лекция 15: 23.12.2015
- •Электроосаждение Ме-п в насыпном виде
- •1)Наливной колокол
- •2)Погружные вращающиеся барабаны. Они погружаются в гальваническую ванну, аноды с 2-х сторон вдоль граней барабана, он вращается и идет покрытие.
- •Осаждение Ме-п на реверсивном токе
Сульфатные электролиты никелирования
Основа NiSO4∙7H2O 250-300 г/л
Концентрация весьма значительная, обеспечивает большие плотности тока, обычно до 8÷10 А/дм2. Выше концентрацию делать нецелесообразно, т.к. повысится вязкость, и унос дорогой соли Ni вместе с деталью. Зато, такая концентрация одновременно обеспечивает хорошую электропроводность, если же концентрацию делать меньше, например, для обеспечения повышенной РС – уменьшится рабочая плотность тока, электропроводность и тогда в электролит вводят электропроводящие соли:
Сульфат натрия NaSO4 50÷70 г/л или магния.
Обязательным
компонентом электролита никелирования
являются добавки депассиваторов, т.к.
нерастворимые Ni-аноды в условиях работы
склонны к пассивации. Их Ɛ быстро
сдвигается в «+» сторону в область
выделения О2.
Анод перестает поставлять ионы Ме и
ток тратится на кислород. В качестве
депассиваторов используют хлоридные
соли: NaCl,
лучше NiCl2.
в
условиях анодной поляризации занимают
места, где могут адсорбироваться атомы
отвечающие за формирование пассивной
оксидной пленки.
Рекомендуют
использовать хлорид Ni, когда одновременно
увеличивается количество ионов Ме и
формируется достаточное количество
ионов для депассивации. Если
нет,
то анод меняет цвет и на нем идет
выделение O2.
Если
мало,
анод частично пассивируется и часто в
этом случае выделяется Cl2.
При обычных режимах анод работает в
активной области с Вт=100%. В холодных
электролитах ja
не должна превышать 2-2,5 А/дм2,
в нагретых или при перемешивании может
быть ~ в 2 раза больше. Для обеспечения
нужной ja,
не приводящей к его пассивации, часто
аноды делают в виде отдельных нарубленных
кусочков, помещенных в коррозионностойкие
Ti-корзины.
Растворение таких кусочков идет
полностью и по мере их расхода кусочки
досыпаются в корзину. Можно использовать
пластинчатые листовые аноды, но по мере
их растворения уменьшается площадь
поверхности, рабочая ja
повышается и такие аноды могут быстро
пассивироваться, поэтому их надо часто
менять. Остаются нерабочие остатки
анодов, которые нужно рубить на кусочки
или направлять на переплавку. Сульфатные
электролиты работают в большинстве
случаев в слабокислой области pH=4,3÷5.
При меньших pH ускоряется параллельный
процесс выделения H2
и снижается Вт. При больших значениях
pH прикатодная область за счет выделяющегося
Н2
быстро подщелачивается, образуется
гидроксид Ni, который включается в состав
покрытия, делая его некачественным.
Поэтому в электролиты вводят буферные
добавки, удерживающие рН. Самой простой
и доступной добавкой является борная
кислота: 30÷40 г/л ( на грани растворимости).
Считается, что она в прикатодной области
образует коллоидную частицу с Ni(OH)2,
которая имеет «─» заряд и эта заряженная
частица выталкивается из прикатодной
области, имеющей одноименный заряд.
H3BO3H++H2BO3-
Ni2++2→Ni
2H2O+2→H2+2OH-
=> Ni2++2OH-→Ni(OH)2
=> Ni(OH)2
·H2BO3-
Буферная емкость борной кислоты не самая максимальная, а стало быть она будет ограничивать величину рабочей плотности тока, которая будет отвечать за подщелачивание. Существуют другие буферные добавки и их буферная емкость видна из графика:
Чем больше буферная емкость, тем на больших плотностях можно работать: H3BO3 3÷5, уксусная кислота (CH3COOH) 8÷10, глицин (C2H5NO2) ~15, янтарная кислота (НООС-СН2-СН2-СООН) 20÷30 А/дм2.
Электролиты никелирования работают при повышенных t=40÷60◦C. Чаще работают при 40◦, в этих условиях лучше растворяются аноды, увеличивается электропроводность среды и Вт, в целом возрастает РС и покрытия получаются более светлыми. Одновременно повышается растворимость гидроксидов прикатодной области и можно работать при более высоких плотностях тока, в 1,5-2 раза выше, чем при обычной температуре. Часто в процессе никелирования используется воздушное или механическое перемешивание за счет движения подвесок с деталями. Перемешивание позволяет увеличить рабочие плотности тока и способствует более быстрому удалению водородных пузырьков с поверхности, которые обычно при их залипании делают покрытие более пористым в виде язв. Для устранения действия этих пузырьков на качество покрытия практически во все электролиты никелирования целесообразно вводить добавки смачивателей: ПАВ снижают поверхностное натяжение на границе Ме-П – водородный пузырек. Для никелирования нехарактерно наступление предельной диффузионной плотности тока, т.к. быстрее портится качество покрытия из-за включения гидроксидов, но в отличие от многих других процессов, катодная поляризация весьма большая 300-400 мВ. Следовательно, без специальных добавок блескообразователей покрытия изначально получаются светлыми, мелкокристаллическим, плотноупакованным, часто полублестящим. Этот эффект связывают с тем, что Ni и Ni-покрытие обладают высокими адсорбционными свойствами и на его поверхности быстро и прочно адсорбируются продукты полуреакций и параллельных реакций. В частности частички Ni(OH)2 в прикатодной области могут блокировать растущие грани Ni-П, в результате чего они не растут в линейных размерах, а образуются новые кристаллические зародыши, структура размельчается. С точки зрения качества – это хорошо, но размельченная структура и включение гидроксидов ведут к напряженным покрытиям и в толстых слоях растрескиваются, шелушатся и отходят от поверхности. По другой теории, высокая ηк связана с тем, что ионы Ni имеют очень мощную и прочную гидратную оболочку. Для ее разрыва в ДЭС требуется большая энергия, которую обеспечивает высокая катодная поляризация, и часто высокую энергию активации относят к замедленной хим. реакции распада аквакомплекса.