Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Мотт, Н. Электронные процессы в некристаллических веществах

.pdf
Скачиваний:
42
Добавлен:
22.10.2023
Размер:
18.34 Mб
Скачать

190

Глава 6

на фиг. 6.22. При низких температурах проводимость вещества имеет металлический характер; концентрация носителей соответ­ ствует металлической стороне перехода Мотта. Однако вблизи температуры Кюри сопротивление возрастает на семь порядков.

I

I

I

1

I

1

1 _

О

100

гОО

300

400

500

BOO

 

 

 

 

103/Т, К'1

 

 

Ф и г. 6.23.

Температурная

зависимость удельного

сопротивления E u O f

 

 

легированного избытком

Ей [523].

При низких температурах имеется участок р — Г 1 а. Правая шкала относится к верхнему графику. Н и ж н я я кривая описывает удельное сопротивление образца после т е р м о о б р а ­ ботки .

Невозможно представить, чтобы это было связано со спиновым рас­ сеянием. Касуя и Янасе [269] интерпретируют этот эффект как воз­ никновение локализации электронов на примесных центрах по мере приближения температуры к точке Кюри (со стороны низких температур). Локализованные состояния образуются благодаря поляризации спинов 4/-электропов окружающих атомов. Плот­ ность локализованных состояний весьма высока, хотя энергия их выше, чем для нелокализованных. Вследствие энтропийного вы­ игрыша при достаточно высоких температурах свободная энергия локализованных состояний окажется ниже, и они начнут запол­ няться. Когда температура станет выше точки Кюри, то благодаря флуктуациям намагничения произойдет сильная хаотизация энер­ гии на различных узлах, и перенос носителей будет определяться перескоковым механизмом. Большая энергия активации обуслов­ лена тем, что электрон перескакивает с узла, где он поляризовал окружение, на соседний пустой узел, спин которого ориентирован случайно. Этот спиновый беспорядок устраняется при включении магнитного поля, благодаря чему у магнитных полупроводников очень велико отрицательное магнетосопротивление (фиг. 6.22).

Проводимость по

примесям, и

примесные зоны

191

Как обнаружил Пении

[408] (см.

также [526]),

фотопроводи­

мость чистого селенида европия имеет ту же температурную зависи­ мость, что и темновая проводимость селенида европия, легирован­ ного гадолинием. Характер темновой проводимости при .больших

концентрациях

гадолиния дает

серьезные

основания

полагать,

что спиновые

поляроны

 

 

 

 

 

 

 

 

 

дают

неактивациоииый

 

 

 

 

 

 

 

 

 

вклад

в

проводимость

 

 

 

 

 

 

 

 

 

кристалла. Это согласу­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ется с нашими теорети­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ческими

представления­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ми и находится в соот­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ветствии

со

свойствами

 

 

 

 

 

 

 

 

 

N i O (гл. 4). Весьма веро­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ятно, что фотоэлектроны

 

 

о

wo

 

zoo

300

 

в EuSe движутся по при­

 

 

 

 

г, к

 

 

 

 

месной зоне,

образован­

Ф и г.

6.24. Температурная зависимость края

ной

вакансиями

анио­

оптического поглощения кристалла E u S

[177].

нов. Радиус

спинового

Видно магнитное красное смещение. К р а й

о п р е д е ­

поляр она намного боль­

лен

при

коэффициенте

поглощения

а ~

800

с м - 1 .

 

 

Магнитное

поле равно 2

к Э .

 

 

ше

постоянной

решет­

 

 

 

 

 

 

 

 

 

ки,

но

значительно меньше

расстояния между

примесями,

так

что

для

описания поляроиа

применима

теория

Касуя — Янасе.

На фиг. 6.23 показана аналогичная температурная зависимость, темнового сопротивления окиси ЕиО, легированной примесью Ей. В ферромагнитной области (103 /Г > 100) проводимость осуществля­ ется с помощью перескоков, поскольку логарифм сопротивления пропорционален Т~1^, как это следует ожидать для проводимости, по примесям.

Эффект, который не зависит от наличия примесей,— это гене­ рация экситонов при поглощении света в линии 4/ — 5d. Энергияперехода падает на 0,05 эВ, когда температура становится нижеточки Кюри, поскольку при этом возбужденный светом электрон имеет спин, параллельный спинам 4/-электронов. Этот эффект демонстрируется графиком на фиг. 6.24.

6.13. МАГНЕТОСОПРОТИВЛЕНИЕ

 

В полупроводниках и нормальных металлах величина (р

— Po) р возрастает в слабых магнитных полях пропорционально

Н2.

Для металлических сплавов справедливо правило Колера, соглас­ но которому при изменении остаточного сопротивления сплава р0 относительная величина магнетосопротивления Др/ро остается универсальной функцией аргумента Н/р0. Пиппард [414] дал объяс­ нение этому правилу, указав, что электрон между последователь­ ными столкновениями проходит малую часть орбиты в магнитном:

192

Глава

6

поле, так что при этом

 

 

= const

 

Ро

 

 

где v — скорость Ферми

электрона в металле (или средняя ско­

рость в полупроводнике);

L—длина

свободного пробега. Согласно

этой формуле, магнетосопротивление примесных зон (металличе­ ской области проводимости) должно быть малым, поскольку длина свободного пробега L мала. По этой же причине магнетосопротив­ ление не наблюдалось в аморфных полупроводниках, описанных в следующей главе. Перенос тока в них обусловлен электронами с энергией выше уровня Ес, отделяющего локализованные состоя­ ния от делокализованных (см. 2.9.2).

Б случае вырожденных материалов с узкими зонами (в част­ ности, с примесной зоной) можно предложить следующую общую причину возникновения магнетосопротивления. Магнитное поле увеличивает или уменьшает (в зависимости от направления спина) энергию Ферми на величину ± ц . в # , где и.в магнетон Бора. Если проводимость электронов cr (Е) при Т = 0 определяется их граничной энергией, то в присутствии магнитного поля проводи­ мость примет вид

№ +

цвН) +

о(Е-раН)}

 

т. е.

 

 

(6.14)

8o =

±o-°(EF)(nBH)z.

Эта формула должна быть применима как к обычной проводи­ мости, так и к перескоковой. В последнем случае ее не сопоставля­ ли с экспериментальными данными. Магнетосопротивление, к ко­ торому приводит проводимость (6.14), обычно положительно, хотя можно указать несколько причин, благодаря которым знак (6.14) может измениться. Так, для области сильных магнитных полей Хробочек, Проховский и Сладек [96] нашли, что при концентраци­ ях, соответствующих перескоковому режиму, энергия активации е3 может возрастать с увеличением магнитного поля. Они связывают этот факт с переворотом спина носителя при перескоке. Хробочек и Трыльекий [97] теоретически изучили влияние сильного магнит­ ного поля на вероятность перескока и обсудили зависимость поло­ жительного магнетосопротивления в германии га-типа от ориента­ ции магнитного поля. Кроме отмеченной причины, всегда суще­ ствует причина, обсуждавшаяся в последнем параграфе, посвя­ щенном магнитным полупроводникам. Электрон, находящийся в локализованном состоянии, ориентирует спины электронов, за­ нимающих состояния по соседству, с которыми достаточно велики перекрытия орбиталей. При перескоке электрон оказывается в со-

Проводимость по примесям и примесные зоны

193

стоянии, где спины ок­ ружающих электронов не имеют ориентации, вследствие чего энергия активации е 3 возраста­ ет на величину Ае 3 . Включение магнитного поля приводит к умень­ шению Ае3 . Детали та­ кого механизма не раз­ работаны, но мы полага­ ем, что он является важным для низкотем­ пературной проводи­ мости аморфных веществ (7.4.7).

Другой эффект, су­ щественный в Ge, InSb и других веществах, где велик радиус донорного центра,— это умень­ шение области локали­ зации волновой функ­ ции донорного состоя­ ния в сильном магнит­ ном поле. Такой эффект был впервые предска­ зан Яфетом, Кейсом и Адамсом [547]. Связан­ ное с ним увеличение энергии ионизации до­ нора &i наблюдалось Кейсом и Сладеком [278] в аитимоииде индия. Магнитное поле может вызвать переход металл

— неметалл [47, 144, 221, 548].

0,6

1

1

1

 

OA

/

°

4, го к

 

 

/

D

3,43к

 

//

л

г, w к

 

1,15 к

<£; о,г -

0,0

 

 

 

а

-о, г

1

1

1

Говоря

о проводи­

Ф и г.

6.25.

Магнетосопротивлеиие

крем­

мости по

примесной зо­

ния, легированного фосфором, в металли­

не в металлической об­

 

ческой области.

 

 

ласти, мы можем отме­

Верхний

график

соответствует

NJJ Nj^ =

4,43 •

тить, что

отрицательное

• 1 0 1 8 с м - 3 , нижний — N D •

= 8 , 0 2 - 1 0

" с м - 3 .

магнетосопротпвление в таком случае наблюдается очень часто. Типичная кривая магне-

тосопротивления показана на фиг. 6.25 [10]. Эффект наиболее

1 3 - 0 1 1 4 2

194

Глава 6

ярко выражен вблизи перехода металл — неметалл, на металли­ ческой стороне. Он велик только до тех пор, пока примесная зона не слилась с зоной проводимости. Тойодзава [507] впервые предположил, что этот эффект обусловлен наличием локализо­ ванных спинов. Он считал, что локализованные спины возни­ кают на тех донорах, вокруг которых концентрация доноров уменьшена за счет флуктуации. Отрицательное магнетосопротивление возникает вследствие рассеяния, зависящего от спина. Дальнейшее развитие этих идей было дано в работе Сасаки [443].

Мы также считаем, что отрицательное магнетосопротивленпе связано со спинами, однако полагаем, что эти спины не связаны с флуктуациями плотности. В соответствии с 5.4 должно существо­ вать спиновое упорядочение на любом доноре при концентрациях, значительно превышающих пороговое значение для перехода ме­ талл — неметалл. Ввиду наличия спинового упорядочения плот­ ность состояний соответствует двум прекрывающимся зонам Хаб­ барда, такчто уровень Ферми лежит в псевдощели, если только ком­ пенсация не слишком велика. В псевдощели величина a" (EF) положительна, что приводит к отрицательному магнетосопротивленпю. В работе Мотта н Зайнамоиа [382] было дано именно такое объяснение в отличие от концепции рассеяния, зависящего отсппна. В случае сравнительно низких концентраций изменение знака Ар/р в более сильных полях, несомненно, обусловлено сокращени­ ем радиуса донорных состояний и связанным с этим уменьшением ширин зон Хаббарда. В случае высоких концентраций образова­ ние псевдощели в перекрывающихся зонах Хаббарда представля­ ется невозможным; малое отрицательное магнетосопротивленпе, которое наблюдается в этом диапазоне концентраций, по-видимому, вызвано быстрым ростом подвижности при увеличении энергии (что и приводит к положительной а", см. замечание на стр. 197).

6.14. ВЫСОКОЧАСТОТНАЯ ПРОВОДИМОСТЬ I I ПОГЛОЩЕНИЕ СВЕТА

В гл. 2 было установлено, что проводимость о (со), а следова­ тельно, и коэффициент поглощения света а должны изменяться как со2 { I n ( / 0 / / ш ) } 4 в пределе низких частот и низких температур. Насколько нам известно, пока еще не было выполнено экспери­ ментов при достаточно низких частотах и температурах, чтобы про­ верить эту формулу. В работах Камминга и др. ]110] и Блиновского и Мициельского [56] были даны более сложные формулы для коэффициента поглощения, которые применимы при частотах, при которых коэффициент поглощения проходит через максимум, и в таком интервале температур, где а (со) еще уменьшается с тем­ пературой. Эти формулы сравнивались с экспериментом, выпол­ ненным Танака и Фэном [491] и Милвордом и Нейрииджером [353].

Проводимость по примесям и примесные зоны

195

Прямые оптические переходы, наблюдавшиеся в этих работах, существенно отличались от потерь дебаевского типа, возникающих при термически активированных перескоках, которые обсужда­ лись в 2.10. Дебаевские потери впервые наблюдались Поллаком и Джеболлом [421] в кремнии гс-типа. Некоторые результаты при­ ведены на фиг. 6.26. Теория, которая была дана этими авторами

Ю/Т, К'1

Ф и г. 6.26. Температурная зависимость удельной электропроводности на переменном токе для кремния n-типа при малой степени компенсации [421].

и развита в последующих работах Поллака [417, 418], весьма сход­ на с изложенной в 2.10, за исключением предположения о случай­ ном распределении энергий. Для малых компенсаций это допуще­ ние несправедливо и расчет становится более сложным. Тем не. менее основные результаты сохраняют силу, в частности выраже­ ние

о _ = а — о ^ = Aas,

13*

196

Глава 6

где

а_ — проводимость на переменном токе, а = — проводимость

на постоянном токе; показатель степени s близок к 0,8, величина А не зависит от температуры, за исключением случая предельно низ­ ких температур. Так же, как и в гл. 2, основной процесс является процессом дебаевского типа, и главный вклад в поглощение дают

пары центров, для которых

разность энергетических уровней

WD

 

 

 

 

 

порядка кТ, а расстояние R

 

 

 

 

 

между

ними

 

такое,

что

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

- 2 аН

 

СО.

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

Теория

предсказывает,

что

 

 

 

 

 

частотная

зависимость

 

про­

 

 

 

 

 

водимости

имеет

вид

 

 

3

 

 

 

 

Этот

вывод

 

подтверждается

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

экспериментальной

 

зависи­

 

 

 

 

 

мостью ст (со) ~

со0 '8 ,

которая

 

 

 

 

 

наблюдается

 

иа

германии и

 

 

 

 

 

кремнии, где Уф~

101 2

с - 1 .

 

 

 

 

 

Однако величина v p ,

как

бы­

 

 

 

 

 

ло показано в 4.2,

очень

чув­

 

 

 

 

 

ствительна

к

ряду

физичес­

 

 

 

 

 

ких

параметров.

Так,

 

если

 

 

 

 

 

вокруг

 

центра

 

возникает

 

 

 

 

 

сильная поляризация, то

при

 

 

 

 

 

низких

температурах

 

Г ф 0 И

яг

 

 

 

 

будет

 

содержать

множитель

 

г

з

 

e~2v

(см.

4.6),

а

при

высо­

 

 

 

 

 

т,

к

 

ких,

когда

Г > 6 / 2 , мно­

Ф и г .

6.27.

Температурная

зависи­

житель

exp

 

 

(—WHlkT).

 

Обсудим

теперь

темпера­

мость проводимости

(на переменном то­

ке) различных

образцов германия р-ти-

турную

зависимость.

В

гл. 2

па при высокой компенсации для двух

предполагалось,

что

компен­

частот:

103 Гц

(/) и

105 Гц (II)

[200].

сация не

мала

и

что

тепло­

 

 

 

 

 

вая

энергия

к Т

мала

по

сравнению с шириной зоны. Поэтому доля

электронов,

способ­

ных совершать перескоки,

была

пропорциональна

кТ,

причем

доля пустых мест, куда они могли попадать, также была про­ порциональна кТ. Кроме того, при использовании соотношения Эйнштейна величина кТ появлялась в знаменателе выражения для проводимости, так что окончательно а ~ кТ. Следует отме­

тить, что в работе Поллака и Джеболла [421] степень

компенсации

К была мала и «дырки» были поэтому невырождены.

Отсюда сле-

 

Проводимость

по примесям и примесные зоны

197

дует, что

одна степень

кТ выпадает,

поэтому о

не

зависит от

Г 1 ) .

 

 

 

 

 

Голин

[200] измерял

проводимость

р-германия

на

переменном

токе; его работа

отличалась от работы Поллака и Джеболла в том

отношении, что

компенсация К была велика

« 0,4). В этом

случае величина

а (со) должна

быть пропорциональна Т.

Некото­

рые

результаты

приведены на

фиг. 6.27.

 

 

х )

При очень низких температурах следует ожидать

резкого

падения а

стемпературой, а ~ Т2 [417].

Замечание автора при корректуре. В работе Вольфа и др. [545] изучался энергетический спектр полупроводников методом туннельного барьера. Было получено наиболее прямое доказательство существования псевдощелп, возни­ кающей при перекрытии двух зон; модель псевдощели использовалась в 6.14 для объяснения отрицательного магиетосопротивления. В работе Мотта [374] обсуждался вопрос о том, может ли существовать псевдощель в отсут­ ствие магнитного порядка.

ГЛ А В А 7

НЕ К Р И С Т А Л Л И Ч Е С К И Е П О Л У П Р О В О Д Н И К И

7.1.ВВЕДЕНИЕ

Одна из главных целей настоящей книги состоит в том, чтобы использовать теоретические представления, изложенные в преды­ дущих главах, для объяснения свойств аморфных полупровод­ ников. В этой главе мы опишем несколько экспериментальных методик, которые применяются для измерения параметров таких полупроводников, а также результаты измерений и модели, пред­ ложенные для интерпретации этих результатов. Более детальное описание свойств отдельных веществ будет дано в трех последних главах.

Изучение ряда физических явлений часто дает достаточную информацию об аморфном полупроводнике, и на это мы обращаем внимание в настоящей главе. Однако для некоторых изученных материалов интерпретация таких явлений была проведена несколь­ ко поспешно. По мере проведения более тщательных измерений становится ясно, что каждый аморфный полупроводник, так же как и кристаллический,' обладает своими индивидуальными свой­ ствами, в связи с чем и возникают новые схемы обобщения свойств аморфных полупроводников.

В этой главе содержатся разделы, посвященные получению веществ и их классификации, изучению их структуры, электриче­ ским измерениям, фотопроводимости, оптическому поглощению, эффектам в сильных электрических полях. Мы также дадим крат­ кий обзор основных представлений, развитых в гл. 2.

7.2. ПОЛУЧЕНИЕ АМОРФНЫХ ПОЛУПРОВОДНИКОВ I I И Х КЛАССИФИКАЦИЯ

Существует два обычных способа получения аморфных твердых тел: а) нанесение на подложку путем распыления и б) охлаждение расплава х ) .

Первым способом изготовляются тонкие пленки, а вторым — объемные образцы. Если материал возможно получить в аморфной

х ) К другим методам изготовления относятся электролитическое осажде­ ние из растворов и облучение кристаллических материалов высокоэнергетичными частицами (нейтронами и ионами).

//екристаллические

полупроводники

199

фазе охлаждением из расплава, то обычнеезго можно получить так­ же и распылением. «Щель толщин», существующая между образ­ цами, изготовленными распылением/и охлаждением, может быть сужена или даже перекрыта путем использования различных способов утончения образцов, например травления. Существуют, однако, различия в структуре у/ материалов, полученных раз­ личными способами, так что при' сравнении их свойств следует соблюдать известную осторожность.

>— Вещества, полученные охлаждением расплава, обычно называ- \j ют стеклами. Они имеют более высокую стойкость по отношению

 

1 — I — I — 1 — 1 — I

I

I '

• I

 

 

о

юо

гоо

зоо

4оо

 

 

 

 

Температура,

 

Ф п г. 7.1.

Записи дифференциального теплового анализа

G e l G T e 8 2 S b 2 [189].

а — нагрев со

скоростью 25

К / м и н ; б — быстрое охлаждение; в

медленное о х л а ж д е ­

 

 

ние;

г нагрев.

 

 

к кристаллизации, чем аморфные вещества, полученные путем напы­ ления. Благодаря такой стойкости в ряде случаев удается пере­ крыть весь интервал температур размягчения, вплоть до жидкого . состояния без появления каких-либо признаков фазовых перехо­ дов. Такие стабильные стекла имеют, однако, фазовый переход второго рода вблизи температуры стеклования Tg. Этот переход соответствует появлению новых внутренних степеней свободы тела и проявляется в возникновении размягчения; при этом возрастают

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ