
- •1. Принципы выбора и методы обработки материалов
- •2. Металлы
- •2.1. Тугоплавкие металлы
- •2.1.1. Вольфрам
- •2.1.2. Молибден
- •2.1.3. Ниобий
- •2.2.Никель
- •2.3.Медь
- •2.4. Платинит
- •2.5. Щелочные металлы (Na, k, Cs, Li, Rb)
- •2.6.Ртуть
- •2.7. Амальгамы
- •3. Газопоглотители
- •4. Люминесценция, люминофоры и покрытия
- •4.1 Определение, виды, законы, характеристики
- •4.2. Основы технологии изготовления люминофоров
- •4.3. Свс-технология изготовления люминофоров
- •4.4. Люминофоры для компактных, ультрафиолетовых ламп
- •4.5. Нанесение люминофорных покрытий
- •5. Химия стекла и покрытий на стекле
- •5.1. Определение и классификация стёкол
- •5.2 Химическая устойчивость стёкол.
- •5.3. Обработка поверхности стекла.
- •5.4. Нанесение покрытий на стекло.
- •5.5. Химическое травление поверхности стекла
- •5.6. Нанесение покрытий на лон
- •7. Керамика
- •8. Ситаллы
- •9. Газы и пары металлов.
- •10. Эмиссионные покрытия для электродов
- •11. Припои для пайки металлов с металлами,
- •12. Эластомеры и полимеры
- •13. Вакуумные уплотнители, смазочные материалы, органические рабочие жидкости
- •14. Цоколёвочные мастики
- •15.Электропроводность полупроводников
- •16. Полупроводники (общие сведения и классификация) [26].
- •17. Химические процессы технологии материалов электронной техники (тмэт) [25, 26].
- •18. Обработка материалов [26].
- •19. Химические процессы фотолитографии [25, 26].
- •20. Химические процессы при эпитаксии [25, 26].
- •21.Получение защитных плёнок
- •22. Диффузия и ионная имплантация (для соединений aiiibv)
- •23. Травление полупроводников.
- •24. Получение деионизованной воды
- •25. Химия металлов (Ме) и металлических плёнок
14. Цоколёвочные мастики
Применяются для крепления цоколя к стеклу (неразъёмные соединения). По переходу из одной фазы (пастообразные, жидкие) в твёрдую мастики делятся на: 1) плавящиеся; 2) схватывающиеся (присоединение кристаллизационной Н2О); 3) реакционные (постепенное протекание химических реакций между компонентами); 4) конституционные (отверждение в результате водоотщепления).
Соединение осуществляется: 1) путём адгезии (прилипания); 2) охватывание скреплённых деталей (фасонное крепление). Неприятное свойство некоторых мастик – водопоглощение и набухание (отвал цоколя или нарушение изоляции, если токовводы касаются мастики. Поверхности перед цоколеванием необходимо очищать от жирных и масляных пятен, ухудшающих адгезию. Для крепления пластмассовых цоколей (деталей) используются мастики с малой температурой отверждения (< 150оС).
Плавящиеся мастики: 1) пицеин; 2) известково-саратная ; 2) новолаковая; 4) шеллачно-фарфоровая.
Схватывающиеся мастики: 5) ГИПС; 6) мраморный цемент; 7) портландский цемент; 8) силикат калия – окись магния; 9) силикат калия - отмученный мел.
Реакционные мастики: 10) свинцовый глёт –глицерин; 11) розовая мастика; 12) каолин и бура.
Конституционные мастики: 13) шеллачная; 14) бакелитовая (резолевая); 15), 16) силиконосмоляные.
Составы, режимы (временные и температурные) всех мастик можно найти в [1, т. 3, табл. 19-1], там же (табл. 19-4) – электропроводяшая мастика.
Б. ХИМИЯ МАТЕРИАЛОВ ДЛЯ СВЕТОДИОДОВ
И ПОЛУПРОВОДНИКОВЫХ ПРИБОРОВ
15.Электропроводность полупроводников
Рассмотрим возможные типы проводимости на примере чистого и легированного кремния.
Электроводность п/п i- типа проводимости
а) а)
чистый п/п (Si) (низкие
температуры), 1 чёрточка соответствует
1 электрону
б)
б) чистый п/п (Si) при
температуре 200оС:
-
1 электрон покидает своё место под
воздействием теплового излучения;
-
на месте электрона образуется дырка,
квазичастица, аналогичная электрону,
но имеющая положи- тельный заряд
в)
в) чистый п/п
(Si) при приложении
электрического поля, электрон
перемещается против поля, дырка - в
направлении поля. Электропроводность
чистого п/п определяется формулой:
σi=enμn+epμp,
где е - заряд электрона, n- концентрация электронов,p- концентрация дырок,μn иμp- подвижности электронов и дырок (скорости перемещения частиц, имеющих единичный электрический заряд, в электрическом поле единичной напряженности).
Электропроводность п/п n-типа проводимости
Если в чистый п/п ввести атомы
примеси из группы на единицу больше,
чем группа самого п/п (дляSiэто элемент 5 группы, Р), то 4 валентных
электрона Р образуют прочные электронные
пары сSi, а избыточный
5-й электрон
имеет слабую связь с ядром Р. Даже при комнатной температуре этот электрон становится свободным. При приложении электрического поля (Е) происходит ток (перемещение электронов, дырок при этом не образуется.
Проводимость такого п/п: σn=enμn- это проводник с электронным типом проводимости (обозначения см. выше).
Электропроводность п/п р-типа проводимости
Если в чистый
п/п ввести атомы примеси из группы на
единицу меньше, чем группа самого
п/п (дляSiэто элемент
3 группы бор, В), то 3 валентных электрона
атома В образуют прочные связи с
соседними атомамиSi, а
4-ая пара остаётся не заполненной, т.е.
образуется дырка, при этом свободных
электронов нет. При при ложении к такому
п/п электрического поля (Е) происходит
перемещение дырок, а его электропроводсть
называется дырочной (р-типа) и определяется
формулой: σр=eрμр(обозначения см. выше).
Зонные диаграммы для различных пипов п/п
Собственный п/п Примесные п/п
i-типn-тип р-тип
ЗП – зона проводимости, ЗЗ –
запрещённая зона, ВЗ – валентная зона
ΔЕ – ширина ЗЗ, Ес- дно зоны проводимости, Еv- потолок валент- ной зоны, Ед- донорный уровень, Ед« ∆Е, Еа - акцепторный уровень, Еа « ∆Е.