- •1. Принципы выбора и методы обработки материалов
- •2. Металлы
- •2.1. Тугоплавкие металлы
- •2.1.1. Вольфрам
- •2.1.2. Молибден
- •2.1.3. Ниобий
- •2.2.Никель
- •2.3.Медь
- •2.4. Платинит
- •2.5. Щелочные металлы (Na, k, Cs, Li, Rb)
- •2.6.Ртуть
- •2.7. Амальгамы
- •3. Газопоглотители
- •4. Люминесценция, люминофоры и покрытия
- •4.1 Определение, виды, законы, характеристики
- •4.2. Основы технологии изготовления люминофоров
- •4.3. Свс-технология изготовления люминофоров
- •4.4. Люминофоры для компактных, ультрафиолетовых ламп
- •4.5. Нанесение люминофорных покрытий
- •5. Химия стекла и покрытий на стекле
- •5.1. Определение и классификация стёкол
- •5.2 Химическая устойчивость стёкол.
- •5.3. Обработка поверхности стекла.
- •5.4. Нанесение покрытий на стекло.
- •5.5. Химическое травление поверхности стекла
- •5.6. Нанесение покрытий на лон
- •7. Керамика
- •8. Ситаллы
- •9. Газы и пары металлов.
- •10. Эмиссионные покрытия для электродов
- •11. Припои для пайки металлов с металлами,
- •12. Эластомеры и полимеры
- •13. Вакуумные уплотнители, смазочные материалы, органические рабочие жидкости
- •14. Цоколёвочные мастики
- •15.Электропроводность полупроводников
- •16. Полупроводники (общие сведения и классификация) [26].
- •17. Химические процессы технологии материалов электронной техники (тмэт) [25, 26].
- •18. Обработка материалов [26].
- •19. Химические процессы фотолитографии [25, 26].
- •20. Химические процессы при эпитаксии [25, 26].
- •21.Получение защитных плёнок
- •22. Диффузия и ионная имплантация (для соединений aiiibv)
- •23. Травление полупроводников.
- •24. Получение деионизованной воды
- •25. Химия металлов (Ме) и металлических плёнок
2. Металлы
Требования к химическому составу металлов и сплавов для ЭВП:
1) минимальное содержание летучих в вакууме примесей (Zn,Bi,Cd,Sb,Sn,Mn,Pи др.);
2) минимальное газопоглощение в процессе сборки прибора;
3) минимальное содержание окислов, которые могут разлагаться в вакууме при повышенной температуре деталей, и углерода;
4) наличие в сплавах легирующих элементов и примесей, обеспечивающих идентичность их свойств (разные плавки).
Требования к металлам и сплавам для газоразрядных прибо- ров(ГРП):
1) они не должны реагировать с наполняющими газами и парами металлов;
2) они не должны распыляться и испаряться при рабочих температурах деталей;
3) они не должны выделять вредные для элементов прибора газы.
2.1. Тугоплавкие металлы
Наибольшее распространение в производстве ЭВП и ИС получили тугоплавкие металлы W,Mo,Ta,Nb. Технология их получения отличается от технологии других металлов (восстановление руды, плавление в металлургическом цикле и переплавка после выделения электролитическим путём) – она носит название порошковая металлургия (ПМ) или металлокерамика и включает следующие этапы: 1) восстановление (окисел + Н2) – получение порошка металла; 2) прессование; 3) сварка (в Н2или в вакууме); 4) ковка в штабики; 5) протяжка для получения проволоки или прокатка для получения ленты. Для ПМ важно иметь необходимую гранулометрию порошка для обеспечения хорошего спекания и получения плотности, близкой к плотности чистого металла.
Преимущества ПМ:1) ПМ позволяет вводить в металл разнообразные присадки (для управления рекристаллизацией); 2) высокая чистота металла из-за отсутствия контакта с тиглем – поэтому ПМ применяется для получения чистыхFe,Ni,Ptи других металлов; 3) можно изготавливать пористые детали (каркас для заполнения другими заполнителями); 4) особенно важна ПМ для тех металлов, которые в результате химических процессов их выделения получаются в виде порошка.
Недостаток ПМ: сравнительно небольшие штабики компактного металла, большие слитки получают дуговой плавкой в вакууме или в защитной атмосфере.
2.1.1. Вольфрам
Получение W. Сырьё: вольфрамит (вольфраматFeиMn–FeWO4+MnWO4) и шеелит (CaWO4).
Получение порошка W из вольфрамита– 1) измельчение; 2) получение щелочного вольфрамата; 3) осаждение минеральной кислотой вольфрамовой кислоты (H2WO4); 4) образование раствора вольфрамата аммония:H2WO4+ 2NH4OH= (NH4)2WO4+2H2O; 5) осаждение (путём выпаривания или нейтрализацией соляной кислотой) паравольфрамата аммония: 12(NH4)2WO4→ 14NH3↑ + 5(NH4)2∙O∙12WO3∙5H2O+ 2H2O; 6) образование вольфрамового ангидрида (WO3) путём прокаливания (500÷550оС -для марок ВА, ВМ; 800÷850оС – для марок ВЧ, ВТ): 5(NH4)2∙O∙12WO3∙5H2O→ 12WO3+ 10NH3↑ + 10H2O
Получение порошка W из шеелита:1)CaWO4+ 2HCl=WO3+CaCl2+H2O; 2) удаление солей Са промывкой. Неочищенный вольфрамовый концентрат (WO3) содержит до 2% примесей (Fe,Ca,SiO2).
Очистка вольфрамового концентрата: 1) растворение в аммиаке (NH3); 2) удаление нерастворённых примесей фильтрованием; 3) обработка в кипящейHCl– получается зернистая жёлтаяWO3; 4) промывка в вакуумных фильтрах; 5) снова растворение в аммиаке; 6) отфильтровывание; 7) выпаривание – получается паравольфрамат аммония (см. выше); 8) промывкаH2Oи его сушка; 9) прокаливание при температуре 250оС на воздухе; 10) обработкаHCl. Получается окончательно очищенныйWO3(примеси: 0,024%Fe2O3; 0,01%SiO2; 0,009% СаО; 0,018%Al2O3; Р – следы).
Введение присадок (для регулирования процессов рекристаллизации)
Для марок ВА и ВМ – сушка с присадками, для марки ВТ – прокалка WO3с азотнокислым торием (Th(NO3)4) при 800÷850оС для образованияThO2:Th(NO3)4∙ (5H2O) → > 400oC→ThO2.
Присадки по маркам, вес.% Таблица 2.1
-
Марка
К2О
SiO2
Al2O3
Th2O
La2O3
Y2O3
1
2
3
4
5
6
7
ВА
0,32
0,45
0,03
-
-
-
ВМ
0,32
0,45
-
0,25
-
-
Продолжение таблицы 2.1
1
2
3
4
5
6
7
ВЧ
-
-
-
-
-
-
ВРН
0,32
-
-
-
-
-
ВТ7/10
-
-
-
0,7/1,0
ВТ15/30/50
-
-
-
1,5/3/5
ВЛ
-
-
-
-
1,0
-
ВИ
-
-
-
-
-
3,0
Получение W из WO3 проводится в лодочках в водородных печах при температурах 650-900оС по реакции:WO3 + 3Н2 ↔ W+ 3H2Oв два этапа (при 650оС:WO3 + Н2 ↔ WО2+H2Oи при 850оС:WO2 + 2Н2 ↔ W+ 2H2O). Поток Н2, осушенный чистый – навстречу движущимся лодочкам. ЗёрнаWполучаются размером от 0,5 до 500 мкм в зависимости от гранулометрииWO3, влажности и скорости потока Н2 .
Для прессования штабиков(сечением от 8 х 8 до 40 х 40 мм, длиной 200÷600 мм) делают смесь порошкаWс раствором камфоры с эфиром, прессование проводят в стальных формах при давлениях до 4÷6 т/см2 на прессе до 600 т.
Предварительное спекание штабиков проводится в водородных печах приt= 1200÷1400оС в течение 2-х часов – получается штабик с прочностью мела.
Окончательное спекание (сварка) штабиковпроводится прямым пропусканием через него тока в потоке Н2(токи от 5000 до 10000А при напряжении 10÷50В в зависимости от размеров штабика – ток составляет 90% от тока плавления штабика), при этом уменьшаются объём штабика – усадка 13÷17% и его электрическое сопротивление – необходимо следить за постоянством тока. Время сварки 40÷50 минут, температура штабика 2700÷3100оС, спекание проводится в водоохлаждаемом стеклянном колпаке.
Ковка штабиков, прошедших окончательное спекание, в прутки или листы и последующее волочение проволоки или ковка ленты проводятся при подогреве в среде водорода. Для облегчения волочения проволоки (для смазки) она покрывается аквадагом (коллоидный раствор графита в воде).
Химичекие свойства W
При высоких температурах Wреагирует с О2, СО, СО2,N2,H2O,CnHm.. Не реагирует с парамиHgи Н2. При 600÷700оС в среде О2или воздуха образуется низшая окисьWсиневато-стального цвета (W4O11), при более высоких температурах – жёлтаяWO3, дымит при 1300оС. При 2300оСWcN2образует нитридWN2,WcH2Oобразует ангидридW2O5– эта реакция приводит к водяному циклу (цикл Лэнгмюра), результатом которого является почернение колб ламп накаливания. При соединении атомовWи С образуются карбиды (WCилиW2C), которые приводят к хрупкости тела накала изW. Кислоты и щёлочи (H2SO4,HCl,HNO3,NaOH,KOH) не реагируют сW– они используются при вытравливанииMoкернов, на которые навиваются моно-, би- или триспирали изWпроволок. Смеси кислотHF+HNO3иHF+HClхорошо растворяютW.
Удаление аквадагасWпроволок осуществляется анодным травлением в 10% водном кипящем растворе соды (Na2CO3∙10H2O) – при этом частично стравливается иW. ДляWпроволок штабиков, которые впаиваются в стекло, очистку ведут в растворе: 50 см3HNO3 + 30cм3 H2SO4 + 20 см3 Н2О с обработкой хромовой кислотой (H2CrO4) и промывкой Н2О. Лёгкое протравливаниеWповерхности проводят в 3% растворе перекиси водорода (Н2О2).
Электролитическая очистка от аквадага. Механизм электролитического травления переменным током состоит в том, что анодная составляющая тока вызывает растворение слоя металла под графитовой смазкой – при этом ослабляется их связь. Катодное выделение газообразного водорода способствует отделению графитовой оболочки и её сбрасыванию в электролит. Для полного удаления графита проволока после электролизных ванн пропускается через ряд протирочных устройств. В качестве электролита при очистке используется 20% раствор едкого натра (NaOH). Плотность и сила тока (скорость очистки) при травлении зависит от диаметра проволоки: 20 мкм – 1А, 2,75А/см2, 60м/мин; 100 мкм – 14А, 7,7А/см2, 40м/мин; 300мкм – 30А, 5,5А/см2, 40м/мин.