
- •Тема 1 Введение.
- •Классификация оборудования.
- •Особенности техники безопасности в п/п производстве.
- •Техническая система и иерархические уровни технической системы
- •Место технической системы среди других систем предприятия
- •Раздел 2 электронная гигиена
- •Пылезащитные камеры с вертикальным ламинарным потоком воздуха для выполнения операций без выделения продуктов химических реакций (а) и с выделением их (б):
- •Приборы для измерения параметров атмосферы производственных помещений
- •Гигрометры: а - волосяной, б - пленочный; 1 - груз, 2 -волос, 3 - стрелка, 4 - неравномерная шкала, 5 - пленочная мембрана
- •Анализатор запыленности:
- •Установки для очистки газов и воды
- •Приборы для измерения давления и расхода
- •Пружинный манометр: 1 - стрелка, 2 - триб, 3, 5 – спиральная и трубчатая пружины, 4 - сектор, 6 - поводок, 7 - держатель, 8 - штуцер
- •Термопарный манометрический преобразователь: 1, 2 - стеклянные трубки и баллон. 3 - платиновый подогреватель, 4 - хромель-копелевая термопара, .5 - цоколи 6 - штырьки
- •Ионизационный манометрический преобразователь:
- •Структурная схема ионизационно-термопарного вакуумметра вит-3:
- •Раздел 3
- •Тема 4 «Оборудование для обработки полупроводниковых материалов»
- •Ориентация с помощью метода световых фигур.
- •Установка для световой ориентации монокристаллов:
- •Оптическая система установки световой ориентации монокристаллов:
- •Резка слитков на пластины.
- •«Алмаз 6м»
- •Станок резки слитков "Алмаз-6м":
- •Шпиндель станка "Алмаз-6м":
- •Барабан станка "Алмаз-6м":
- •Привод подачи слитка станка "Алмаз-6м":
- •Станция очистки и перекачки смазочно-охлаждающей жидкости станка "Алмаз-6м":
- •«Шлифовальное оборудование»
- •Планетарный механизм для двухстороннего шлифования пластин
- •Кинематическая схема станка двухстороннего шлифования
- •Принципиальная схема автомата снятия фасок
- •Принципиальная схема полуавтомата финишной и суперфинишной обработки пластин
- •Принципиальная схема полуавтомата приклеивания пластин к блоку
- •Требования к системе нагрева изделий
- •Индукционный нагрев
- •Принципиальная схема индукционного нагрева
- •Резистивныи нагрев
- •Схемы электрических печей сопротивления: а — прямой нагрев; б — косвенный нагрев; 1 — нагреваемый материал; 2 — выключатель или магнитный пускатель; 3 —- электронагревательный элемент
- •Электронно-лучевой нагрев
- •Электронно-лучевой испаритель с электронной пушкой Пирса
- •Лучистый нагрев
- •Принципиальная схема термической установки с лучистым нагревом:
- •Плазма и ее использование в ионно-плазменных процессах и ионно-лучевых источниках
- •Схемы возбуждения вч-разряда:
- •Нагрев лазером
- •Типовая схема лазерной технологической установки:
- •Раздел 4 классификация кристаллизационных процессов выращивания монокристаллов полупроводников
- •Конструкция установки для выращивания монокристаллов полупроводников методом чохральского
- •Конструкции тепловых узлов установок для выращивания монокристаллов полупроводников
- •Схемы тепловых узлов с различными видами экранировок:
- •Влияние параметров процесса выращивания монокристаллов на их свойства
- •Различные виды распределения гидродинамических потоков в расплаве:
- •Форма изотерм (пунктир) и потоков тепла (стрелки) в расплаве для нагревателей:
- •Галогенные лампы
- •Современные галогенные лампы предлагают целый ряд существенных преимуществ
- •Галогенно-вольфрамовый цикл
- •Раздел 5 оборудование для операций очистки
- •Конструкции узлов крепления пластин на столе
- •Конструкции узлов крепления пластин на столе
- •Конструкции узлов крепления пластин на столе:
- •Конструкция узлов обработки изделий:
- •Способы интенсификации процесса очистки
- •Пьезоэлектрические излучатели
- •Типы магнитострикционных излучателей:
- •Рабочие ванны с различными типами мешалок:
- •Типы распылительных форсунок:
- •Кинематическая схема агрегата (трека) автомата гидромеханической отмывки:
- •Пневмогидравлическая схема установки химической обработки: 1, 4 - ванны, 2 - подогреватель, 3 - насос-эжектор, 5 - поддон, 6 - рассеиватель, 7 - вентили, 8 - электропневматический клапан
- •Раздел 6 Оборудование для наращивания эпитаксиальных слоёв
- •Схемы реакторов для газовой эпитаксии
- •Реактор установки унэс-2п-ка
- •Система газораспределения эпитаксиальной установки
- •Скруббер установки эпитаксиального наращивания унэс-101
- •Способы проведения жидкостной эпитаксии
- •Установка для жидкостной эпитаксии
- •Циклограмма давлений в установке каждения слоев при пониженном давлении
- •Раздел 7 Оборудование для диффузии и окисления
- •Камеры загрузки-выгрузки с ламинарным потоком воздуха термической диффузионной установки
- •Нагревательная камера термической диффузионной установки
- •Установка термической диффузии адс-6-100
- •Нагреватель диффузионной установки
- •Функциональная схема автоматической системы регулирования температуры термической диффузионной установки
- •Устройство загрузки-выгрузки подложек в реакционную трубу
- •Программатор время - команда
- •1.2. Основные технические данные.
- •1.3. Устройство пвк
- •1.4. Работа пвк
- •2. Меры безопасности
- •Время-параметр
- •1.2. Основные технические требования
- •1.3. Устройство
- •1.4. Работа
- •Раздел 8
- •Раздел 8.1 Оборудование для ионной имплантации.
- •Оборудование для очистки с применением низкотемпературной плазмы, радикалов и ионов
- •Установка с реактором диодного типа и анодной связью:
- •Установка плазмохимической обработки
- •Оборудование для плазмохимического удаления фоторезиста
- •Реакционно-разрядные камеры с подачей газа по четырем направлениям с равномерным рассредоточением потока (г) по отдельным трубкам и четырехсторонним рассредоточением потока (д)
- •Установки для нанесения тонких пленок в вакууме
- •Метод термического испарения
- •Метод распыления материалов ионной бомбардировкой
- •Испарители
- •Способы ионного распыления для осаждения гонких пленок
- •Вакуумная установка непрерывного действия "Магна-2м" для нанесения однослойных и многослойных тонких пленок магнетронным распылением:
- •Раздел 9 Газовые и вакуумные системы Общие сведения о вакуумной технике
- •Области вакуума
- •Пластинчато-роторный
- •Пластинчато-статорный
- •Плунжерный
- •Форвакуумный насос
- •Турбомолекулярный насос
- •Модернизированные диффузионные паромасляные насосы
- •Некоторые характеристики рабочих жидкостей высоковакуумных диффузионных насосов
- •Магниторазрядный вакуумный насос норд-25
- •Конденсационный насос со встроенным криогенератором
- •Газовые системы
- •Схемы смесителей:
- •Типовые конструкции клапанов:
- •Корпус; 6 — пружина; 7 — мембрана
- •Регулятор расхода газа: а — конструкция; б — схема включения
- •Магнитные электроразрядные вакууметры
- •Откачка химически активных газов.
- •Объемный дозатор поршневого типа
- •Тэрмоэлектрические преобразователи и термометры сопротивления
- •Общий вид (а) и рабочие концы хромель-алюмелевой (б), платинородий-платиновой (в) и малоинерционной (г) термопар
- •Градуировочные кривые термопар: 1 - хромель-копелевой хк, 2 - хромель-алюмелевой ха, 3 - из сплава нк-са, 4 - платинородий-платиновой пп, 5 - платинородий-платинородиевой пр30/6
- •Платиновые термометры сопротивления:
- •Приборы для измерения и регулирования температуры
- •Автоматический одноточечный потенциометр с ленточной диаграммой ксп4
- •Оптический пирометр и яркости его нити при температурах ниже и выше температуры нагретого тела (б, в) и равной ей (г) :
- •Автоматические системы регулирования и поддержания температуры
- •Раздел 10 Установки совмещения и экспонирования
- •Компоновочная схема эм-576
- •Блочная схема эм-576
- •Механизм выравнивания поверхности подложки и фотошаблона
- •Система совмещения.
- •Система автофокусировки.
- •Оборудование для перспективных методов литографии.
- •Система эос
- •Устройство нанесения фоторезиста:
- •Оптико-механическое оборудование для изготовления фотошаблонов
- •Способ генерирования.
- •Фотоповторитель для изготовления эталонных фотошаблонов.
- •Оптическая схема фотоповторителя
- •Раздел 11 Оборудования для сборки имс и заключительных операций
- •Кинематическая схема установки эм-438а
- •Назначение микроскопа мт-2
- •Технические данные
- •Устройство и работа микроскопа
- •Устройство и работа составных частей микроскопа
- •Последовательность монтажа проволочных перемычек
- •Механизм микросварки
- •Координатный стол микросварочной установки проверка технического coctояhия
- •Возможные неисправности и методы их устранения
- •Общая характеристика установки эм-4480
- •Технические данные установки эм-4480
- •Учебный элемент «Устройство и работа составных частей установки эм-4480»
- •Установка присоединения выводов эм-4480
- •Тумба управления
- •Устройство микросварки
- •Станина
- •Пульт управления
- •Оборудование для герметизации интегральных микросхем
- •Способы герметизации металлостеклянных и металлокерамических корпусов ис
- •Функциональная схема герметизации
- •Установка угп-50 для герметизации интегральных микросхем пластмассой
- •Раздел 12 Оборудование для испытаний и измерений
- •Контактирующее устройство зондовых установок эм-6010:
- •Устройство зондовой установки эм-6010
- •Раздел 13 Промышленные роботы и гибкие производственные системы
- •Раздел 14 Ремонт, наладка и профилактические работы.
- •Тема 1. Износ деталей машин.
- •Тема 2. Система планово-предупредительного ремонта (ппр).
- •Виды ппр.
- •Периодичность ремонта и нормы простоя оборудования при ремонте.
- •Тема. Коэффициенты, характеризующие эффективность работы оборудования.
- •Конюхов и.Е. Ремонт технологического оборудования. Тема. Ремонтно-технологические характеристики оборудования.
- •Надежность.
- •Организация ремонтного обслуживания цехах, участках и на предприятии.
- •Методика расчета ремонтного цикла и внутрициклового обслуживания.
- •Основы технологии ремонта то
- •Алгоритм диагностики схемы синхронизации
Раздел 12 Оборудование для испытаний и измерений
Установки ЭМ-6010, ЭМ-6010-1, ЭМ-6020 и ЭМ-6020-1 имеют одинаковую конструкцию и состоят из стола и следующих устройств: позиционирования, контактирующего и визуального наблюдения, а также шкафа электрооборудования.
Устройство позиционирования предназначено для автоматической транспортировки, ориентации и совмещения контактных площадок структур полупроводниковых пластин с зондами контактирующего устройства и состоит из механизмов загрузки и ориентации, координатного стола, блоков пневмооборудования и управления, а также пульта оператора. Механизм загрузки служит рррдля перемещения полупроводниковых пластин из подающей кассеты на диск предметного столика и далее в приемную кассету. Подлежащая контролю полупроводниковая пластина подается струей воздуха из подающей кассеты на пневмодорожку и перемещается по ней на предметный столик, плоскость которого должна быть расположена на одной высоте с рабочей плоскостью пневмодорожки или на 0,1 - 0,3 мм ниже ее. Датчик, установленный на пневмодорожке, следит за наличием на ней пластины, а фотодатчик, расположенный на предметном столике, обеспечивает его исходное положение по двум координатам и углу. После выполнения контактирования пластина перемещается с предметного столика воздухом по пневмодорожке в приемную кассету. Рабочие плоскости предметного столика и пневмодорожки в этом случае должны быть расположены так же, как при загрузке. Пневмодорожка представляет собой плиту с расположенными под углом 45° отверстиями, через которые подается воздух. Полупроводниковая пластина, попав на пневмодорожку, как бы всплывает на воздушной подушке и перемещается вдоль нее воздушным потоком. При работе установки подающая и приемная кассеты перемещаются на шаг по вертикали после поступления очередной пластины. Перемещение осуществляется винтовой парой, шестеренчатым редуктором и шаговым электродвигателем, т.е. приводом, аналогичным приводу подачи кассет в автоматах нанесения и проявления фоторезиста. Ключи управления механизма загрузки служат для согласования сигналов датчиков с логическими устройствами. Механизм ориентации служит для установки полупроводниковой пластины в определенное положение относительно ее базового среза и имеет два ролика: ведущий, получающий привод от электродвигателя, и ведомый, не имеющий привода, но вращаемый при ориентировании полупроводниковой пластины трением о нее. Когда полупроводниковая пластина струями воздуха прижимается к обоим роликам, она начинает вращаться против часовой стрелки до тех пор, пока ее базовый срез не установится на опорную поверхность планки механизма ориентации. Ведущий ролик при этом не касается поверхности пластины, поэтому она больше не поворачивается, а считается предварительно сориентированной, и датчик подает сигнал в систему управления о наличии пластины на предметном столике.
Координатный стол предназначен для точных перемещений полупроводниковых пластин по трем координатам и углу и состоит из привода, предметного столика и нагревателя. Привод представляет собой линейный шаговый электродвигатель (ЛШД), статором которого является чугунная плита с обрамлением. В плиту вклеена ферромагнитная пластина с нарезанными по координатам X и Y канавками, заполненными компаундом. Индуктором (ротором) шагового электродвигателя является система постоянных магнитов и электромагнитов, соединенных общим корпусом, на котором крепятся предметный стол, электрические коммутационные устройства и элементы пневмосистемы. Для ориентирования индуктора относительно канавок статора служат специальные регулировочные винты. Взаимодействие индуктора со статором осуществляется магнитным потоком, создаваемым при возбуждении катушки электромагнита. В результате индуктор перемещается по плите статора. В рабочем положении между плитой статора и индуктором пневмосистемой создается воздушная подушка, снижающая силы трения. Управляют ЛШД, не имеющим никаких передаточных звеньев, специальные датчики линейных перемещений, состоящие из периодической миры и фотоэлектрической анализирующей головки. Линейный шаговый электродвигатель перемещает координатный стол только по координатам Х и У. Предметный столик служит для фиксирования полупроводниковой пластины вакуумом и перемещения ее по вертикали и горизонтали на определенный угол. Для окончательной ориентации, выполняемой визуально под микроскопом, полупроводниковая пластина взвешивается над поверхностью предметного столика воздушным потоком, подаваемым из пневмосистемы. Нижнее положение предметного столика контролируется датчиком исходного положения, состоящим из фотодатчика и заслонки. Предварительная (грубая) регулировка нижнего положения предметного столика выполняется изменением высоты фотодатчика, а окончательная (точная) - поворотом эксцентрика, расположенного в заслонке. При правильной регулировке в момент срабатывания зазор между упорами, ограничивающими ход предметного столика по вертикали, должен быть 0,3-0,5 мм. На предметном столике крепится нагреватель, верхняя плоскость которого относительно корпуса установок ЭМ-6020 и ЭМ-6020-1 должна иметь электрическую емкость не более 50 пФ, а в установках ЭМ-6010 и ЭМ-6010-1 – не более 1000 пФ. Сопротивление изоляции при одном отключенном выводе нагревателя должно быть не менее 5*1010 Ом.
Блок пневмооборудования служит для управления подачей сжатого воздуха и создания вакуума, необходимых для работы механизмов загрузки и ориентации, привода и предметного столика установки. Этот блок смонтирован на раме, на которой установлены реле, регуляторы давления, манометры, электропневматические клапаны, дроссели и другие элементы пневмовакуумной системы. Установка имеет автономный блок подготовки воздуха. Проходя через фильтры грубой и тонкой очистки, воздух приобретает необходимую чистоту. Оба блока соединены между собой пневморазъемами. Блок управления представляет собой устройство, предназначенное для выполнения логических функций по формированию цифровых сигналов, поступающих на исполнительные механизмы установки. Пулы оператора служит для размещения органов управления, звуковой сигнализации и световой индикации и выполнен в виде панели, на которой находятся кнопки, счетчики, индикаторы, динамик, переключатели координат и платы-ключи управления.