Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Лайнер, В. И. Защитные покрытия металлов учеб. пособие

.pdf
Скачиваний:
72
Добавлен:
23.10.2023
Размер:
19.38 Mб
Скачать

В различных гальваностегических процессах выход по току может оставаться либо постоянным в значитель­ ных пределах плотности тока, либо возрастать или по­ нижаться по мере повышения плотности тока. Разобран­ ные случаи графически изображены на рис. 35.

Распределение металла совпадает с вторичным рас­

пределением тока в тех процессах,

которые подчиняются

 

 

 

кривой

1; распределение

 

 

 

металла становится менее

 

 

 

равномерным

по

сравне­

 

 

 

нию с вторичным рас­

 

 

 

пределением тока в про­

 

 

 

цессах,

подчиняющихся

 

 

 

кривой 2 , и более равно­

 

 

 

мерным в процессах, под­

 

 

 

чиняющихся кривой 3.

 

 

 

Выше мы

характери­

 

 

 

зовали

рассеивающую

 

 

 

способность

электролита

 

 

 

как

степень

перераспре­

Рис. 35. Принципиальная зависи­

деления

тока

и

металла

на

поверхности

электро­

мость выхода металла по току от

плотности тока при электролитиче­

дов

в

сторону

большей

ском осаждении из различных вод­

 

ных растворов:

равномерности. Для ко­

1 — электроосаждение меди из кис­

личественной оценки этой

лых электролитов;

2 — хромирова­

степени

перераспределе­

ние или никелирование при низких

pH; 3

осаждение металлов из рас­

ния

предложено

рассеи­

творов

цианистых и

других комп­

 

лексных соединений

вающую способность вы­

(в процентах)

распределения

ражать

как

отклонение

металла

от

первичного

распределения тока. Приняв постоянным выход по току при плотностях тока іб и ід, мы получим значение рассеи­ вающей способности по формуле

k — k

j

ф д ----

Фб

 

 

 

Ея

J -100

 

 

PG =

k

Sb-*».!«)*;. (10)

 

 

 

£ д

 

 

 

 

 

 

Если же учесть уравнение

(9), т. е. изменение выхода по

току в зависимости от плотности тока, то получим

 

РС=100

 

ж

Фд — ФбѴ

( И )

 

 

 

 

 

 

 

Пд

£д /.

 

 

 

 

142

Уравнение (11) переходит в уравнение (10) в част­ ном случае, когда щ ІЦп принимает значение, равное еди­ нице.

Наибольший интерес представляет уравнение (10); оно показывает, что если выход по току с плотностью тока не меняется, то рассеивающая способность может быть вычислена путем двух, максимум трех измерений.

В отношении

~

числитель определяет степень

изменения катодного потенциала в пределах двух значе­ ний плотности тока. Рассеивающая способность тем боль­ ше, чем больше численная величина этого отношения и чем более наклонна кривая поляризации в данных интер­ валах плотности тока. Иллюстрацией этому служит хо­ рошая рассеивающая способность в цианистых медных ваннах с сильно выраженной поляризацией по сравне­ нию с ничтожной рассеивающей способностью в медных сернокислых ваннах, где поляризация незначительна.

При данном значении рассеивающая способность мо­ жет быть увеличена либо повышением катодной поля­ ризации, в результате чего увеличится абсолютное зна­

чение отношения , либо увеличением электропро­

вод водности. Известно, например, что с этой целью часто

вводят соли, увеличивающие электропроводность раство­ ра, повышают температуру электролита и т. д. Но ска­ зать заранее, увеличится ли рассеивающая способность с повышением электропроводности, нельзя. Если факто­ ры, способствующие повышению электропроводности, одновременно в большей степени уменьшают катодную поляризацию, то рассеивающая способность в конечном итоге понизится.

Для представления о равномерном распределении тока нельзя исходить из величины катодной поляриза­ ции вообще, а следует исходить из разности катодных потенциалов (величины катодной поляризации) в интер­ вале тех плотностей тока, которые фактически устанав­ ливаются на различных участках поверхности электро­ дов. Как известно, металлы группы железа, в частности никель, осаждаются со значительной катодной поляри­ зацией. Однако в пределах практически применяемых плотностей тока катодный потенциал меняется весьма незначительно. Такое же явление наблюдается при элек­ тролитическом осаждении хрома; общая величина катод­

143

ной поляризации не меньше, чем в медных цианистых электролитах, но в интервалах тех значений плотностей тока, при которых практически осуществляется процесс

хромирования, ветвь кривой

потенциал — плотность то­

 

 

ка поднимается почти па­

 

 

раллельно оси ординат. По

 

 

этой причине вторичное или

 

 

фактическое распределение

 

 

тока при хромировании ма­

 

 

ло отличается от первичного

 

 

распределения.

Рис. 36. Распределение металла

В настоящее время нет

в простых и комплексных элек­

рациональной формулы, вы­

тролитах при

параллельном

включении катодов на различ­

ражающей зависимость ка­

ном расстоянии

от анода

тодного потенциала от плот­

 

 

ности тока в интервалах лю­

бых ее значений. Поэтому для выражения этой зависи­ мости целесообразно пользоваться графическим методом.

Представление о распределении металла (а не рас­ сеивающей способности) в различных электролитах мож­ но составить по данным табл. 16. Указанные в этой таб­ лице катоды /, 2 и 3 коротко замкнуты (рис. 36) и могут, следовательно, изображать различные катодные участки одного объекта. После прохождения некоторого кол«чества электричества катоды /, 2 и 3 взвешивали, на осно­ вании чего представлялось возможным вычислить рас­ пределение металла в различных электролитах.

Медные цианистые ванны, отличаясь большей катод­ ной поляризацией, имеют и большую рассеивающую спо­ собность по сравнению с кислыми ваннами. Однако с увеличением плотности тока рассеивающая способность в них меняется незначительно. Это объясняется тем, что прирост катодного потенциала с увеличением плотности тока становится меньше.

Повышенная температура снижает катодную поляри­ зацию, причем при высоких плотностях тока в меньшей степени, чем при низких. Это объясняется тем, что вы­ ход по току уменьшается с повышением плотности тока и выделяющийся водород интенсивно перемешивает слой электролита, примыкающий к катоду, что понижает по­ ляризацию. Поэтому повышенная температура оказывает при высоких плотностях тока меньшее влияние на поля­ ризацию, уже сниженную благодаря перемешиванию во­ дородом, сравнительно с ее влиянием при низких плот­

144

ностях тока, когда выход по току больше и выделяется меньше водорода. Так как выход по току в холодных ваннах меньше, чем в горячих, то металл при понижен­ ной температуре распределяется равномернее. Влияние перемешивания примерно такое же, как и повышенной температуры. Применяемый для получения блестящих и мягких осадков гипосульфит в медных цианистых ван­ нах несколько снижает катодную поляризацию и рас­ сеивающую способность.

 

 

 

 

Т а б л и ц а 16

Распределение металла на короткозамкнутых катодах

 

различных электролитов

 

 

 

Электролит

Распределение металла на катодах, %

 

1

2

3

 

 

Медный кислый

65,7

19,5

14,8

 

 

66,0

21,0

13,0

Медный цианистый

37,0

31,5

31,5

Цинковый

сернокислый

70,0

19,1

10,9

 

 

74,0

18,5

7,5

Цинковый

цианистый

43,1

32,8

24,1

Цинковый

щелочноцианистый

40,4

33,7

25,9

М ет оды н еп о ср ед ст вен н о го и зуч ен и я р а с п р е д е л е н и я

тока и м ет алла. Все предложенные до сих пор методы имеют один существенный недостаток — они не воспро­ изводят условий реального электролиза. В идеальном случае на основании показаний лабораторного прибора мы должны иметь возможность судить о распределении тока и металла в реальном электролизере на реальных изделиях с различной геометрической формой. Такой прибор пока не создан и, пожалуй, принципиально не может быть создан вследствие сильного влияния геомет­ рических факторов.

Предложенные до сих пор методы измерения равно­ мерности распределения металла могут быть разделены

10— 1004 145

на две основные группы. Первая группа предусматривает параллельное расположение электродов при полном пе­ ресечении ими электролита; катоды располагаются по одну или обе стороны анода на различном расстоянии от него (рис. 37). Вторая группа методов предусматри­ вает применение катодов, согнутых под различным углом

 

 

 

 

 

при плоских анодах. В од­

 

 

 

 

 

них методах катоды не пере­

 

 

 

 

 

секают весь электролит, в

 

 

 

 

 

других они полностью пере­

 

 

 

 

 

секают его.

 

первой

 

 

 

 

 

Особенностями

 

 

 

 

 

группы

 

приборов являются

 

 

 

 

 

прямолинейное

распределе­

 

 

 

 

 

ние силовых линий и отсут­

 

 

 

 

 

ствие в них краевого эффек­

 

 

 

 

 

та. Хотя в реальном элект­

 

 

 

 

 

ролизере силовые

линии

не

 

 

 

 

 

распределяются

 

прямоли­

 

 

 

 

 

нейно

и

краевой

эффект

 

 

 

 

 

(без искусственных прие­

 

 

 

 

 

мов)

оказывает

заметное

 

 

 

 

 

влияние,

приборами первой

 

 

 

 

 

группы

удобно

пользовать­

Рис. 37. Схема измерения рас­

ся для сравнения между со­

пределения

тока, по

Херингу

бой электролитов различно­

 

и Блюму:

 

го состава, при

различном

д — дальний

катод; б — ближ­

ний катод;

а — анод;

Лд— ам­

электрическом

и

темпера­

перметр

для дальнего

катода;

турном

 

режиме.

Для

по­

Л^— амперметр

для

ближнего

лучения

воспроизводимых

катода;

Л — амперметр

для из­

мерения

общей

силы тока;

результатов измерения необ­

V — вольтметр;

П — переключа­

 

 

тель

 

ходимо производить в элек­

тролизерах со строго посто­ янными размерами при одинаковом отношении расстоя­ ний катодов от анода.

Приборы второй группы имеют то преимущество, что они дают некоторое представление о распределении ме­ талла на выпуклых участках и в углублениях, но в ка­ честве приборов сравнения менее пригодны. Они дают представление о том, как распределяется металл на дан­ ном или на подобных ему катодах, при таком же краевом эффекте, при таком же экранировании силовых линий и т. д.

Не следует обязательно соблюдать определенные раз­

146

меры электродов и расстояние между ними, например, обязательно применять электроды с площадью 1 дм2, а расстояние двух катодов от анода поддерживать в от­ ношении 5: 1 или 2:1. Как размеры электродов, так и расстояние между ними могут быть произвольными. Однако для получения воспроизводимых и сравнимых результатов эти размеры должны быть фиксированы и оговорены, поскольку рассеивающая способность зави­ сит как от размеров электродов, так и от расстояния между ними, не только относительного, но и абсолютно­

го; с этими параметра­

 

ми связано сопротивле-

Катод

ние электролита.

 

Ячейка Хулла, по­

 

лучившая

в последнее

 

время широкое приме­

 

нение для

исследова­

 

ния рассеивающей спо­

 

собности электролитов, отличается тем, что ка­ тод расположен не па­ раллельно аноду, а под определенным углом к

нему (рис. 38). Горизонтальная проекция такой ячейки имеет вид не прямоугольника, а трапеции с определен­ ным соотношением между размерами каждой стенки. Распределение тока на таком наклонном катоде чисто математическим путем весьма трудно рассчитать, однако экспериментально достаточно легко установить количест­ во осажденного металла (или силу тока) на отдельных катодных полосках. Зная изменение выхода по току с плотностью тока, можно внести соответствующий коэф­ фициент и кривые распределения тока пересчитать на кривые распределения металла. Удобнее катод сделать сборным, например, из 10 равных нумерованных частей, лежащих в одной плоскости. При этом представляется возможным каждый катодный участок взвешивать на аналитических весах до и после электролиза. Получен­ ные при этом в результате несложного расчета значения толщин покрытий по меньшей мере на 15—20% точнее определения значений, полученных всеми другими ме­ тодами.

В ячейке Хулла можно получить представление не только о количественном распределении тока (металла)

10*

147

на участках катода, находящихся на различном расстоя­ нии от анода, но и качественное представление о допу­ стимых плотностях тока для получения светлых, полублестящих и блестящих покрытий, об изменении твердо­ сти, пористости и других характеристик на этих участках и т. д. При электроосаждении сплавов в ячейке Хулла можно устанавливать также состав сплава на различ­ ных катодных участках.

На основании данных, получаемых в ячейке Хулла, можно корректировать производственную ванну по ос­ новным и вспомогательным компонентам, например блескообразователям и др.

Для максимальной равномерности распределения то­ ка на различных участках профилированных изделий ре­ шающую роль играют изменение потенциала с плотно­ стью тока, электропроводность электролита и изменение выхода по току с плотностью тока. В хромовых элек­ тролитах катодный потенциал весьма незначительно ме­ няется в пределах тех значений плотности тока, при ко­ торых происходит осаждение металла, а выход по току повышается по мере повышения плотности тока. По этим причинам при хромировании наблюдается исключитель­ но неравномерное распределение металла и приходится прибегать к различным искусственным приемам, напри­ мер к специальному расположению профилированных анодов, к применению экранов и т. д.

К р о ю щ а я способност ь. Помимо рассеивающей способ­ ности, различают еще так называемую кроющую способ­ ность. Последняя также характеризует способность ван­ ны покрыть имеющиеся на катоде углубления. Но в то время, как рассеивающая способность дает представле­ ние о количественном распределении металла на катод­ ной поверхности, кроющая способность дает представ­ ление о наличии или отсутствии покрытия на различных участках изделий независимо от толщины покрытия. Если какой-нибудь предмет сложной формы покрыт по всей поверхности, то это еще не значит, что толщина осажденного металла везде одинакова. В ряде случаев при весьма тонких покрытиях (порядка тысячных или десятитысячных долей миллиметра) кроющая способ­ ность ванны играет большую роль.

Для измерения кроющей способности может служить ванна с плоским анодом и согнутым под прямым углом катодом (рис. 39). Графически кроющую способность

148

изображают вычерчиванием покрытых граней выпрям­

ленного угла.

Кроющая способность или работа в глубину опреде­ ляется не только характером распределения силовых линий в электролите и на элек­ тродах, но и минимальной плот­ ностью тока, при которой дости­ гается потенциал выделения ме­ талла. Так, например, при хроми­ ровании этот минимум плотности тока в десятки и сотни раз боль­ ше, чем при меднении, серебре­ нии, никелировании и др.

Для количественного опреде­

 

ления работы ванны в глубину

 

Пен предложил в качестве като­

 

да использовать пластину, в кото­

 

рой просверлены углубления диа­

 

метром 12,5 мм. Высота каждого

Рис. 39. Ванна для опреде*

*

постепенно возраста-

углубления

Ления кроющей способности:

ет от 1,25 до 12,5 мм, т. е. в пер-

/ — анод: 2 —катод

вой ямке

глубина составляет

 

10% от ее диаметра, а в последней 100%. Пен выражал кроющую способность 40%, если 4-я ямка покрылась полностью, а 5-я неполностью.

4. Факторы, влияющие на микрорассеивающую способность

Особенности распределения металла при осаждении на мелкопрофилированной металлической поверхности впервые наблюдались в 1935 г. Мейером. На микроскопи­ ческих снимках медных покрытий, полученных из кис­ лых электролитов, покрытие наблюдается также и в по­ рах основного металла, в то время как при меднении из цианистых электролитов поры почти не покрываются. Поскольку цианистые электролиты обладают значитель­ но лучшей макрорассеивающей способностью, чем кис­ лые, то предполагается, что факторы, влияющие на мак­ рорассеивающую способность, распространяются и на микрорассеивающую способность. Было также установ­ лено, что при определенных обстоятельствах в углубле­ ниях микропрофиля может даже высадиться больше металла,чем на микропиках.

149

Ö последнее десятилетие микрорассеивающая способ­ ность была объектом многих исследований, поскольку она влияет на выравнивание поверхности при получении блестящих гальванических покрытий. Из-за трудностей, возникающих при изготовлении подходящих микропро­ филей, часто получаются очень разбросанные результа­ ты. Микропрофиль образуется в результате наличия пор и других поверхностных пороков, так же как и в резуль­ тате шлифовочных и полировочных рисок. Было также выяснено, что явление микрорассеивающей способности может встретиться на профилях, размеры которых совер­ шенно не укладываются в области микроизмерений. В настоящее время изготавливают различные виды по­ добных профилей для целевых испытаний.

Микрорассеивающую способность часто исследуют на катодах с определенными пилообразными углублениями. Можно также получать гальванопластическим способом отпечатки катодов с Ѵ-образными насечками различной глубины и углов наклона, чтобы располагать воспроиз­ водимыми величинами профилей. Профили квазисину­ соидной формы получают путем спиралеобразного обма­ тывания проволокой цилиндрических стержней. При этом величина профиля может изменяться в результате при­ менения проволоки различного диаметра. Для этих целей в качестве катодов широко используют секторы от мат­ риц патефонных пластинок; толщину покрытия в глуби­ не и на остриях канавок измеряют под микроскопом на изготовленных шлифах.

При помощи бритвенного лезвия можно наносить на

латунное основание Y-образные надрезы различной ве­ личины. .

Как уже было сказано, понятие о микрорассеивающей способности применяют к поверхностям, у которых не проявляется первичное распределение тока. Следова­ тельно, область микрорассеивающей способности огра­ ничивают профилями, у которых первичная плотность, тока везде одинакова. При одинаковой первичной плот­ ности том процессы транспорта вещества к катоду слу­ жат мерой распределения металлопокрытий. Так как микрорассеивающая способность распространяется так­ же на такие величины профиля, которые находятся еще в области «макроразмеров», то при этом не может быть речи о транспортировке или поверхностной диффузии к месту кристаллизации адсорбированных атомов, возни­

150

кающих вначале при разряде на катодной поверхности. Под этим больше понимается транспортировка в электро­ лите разрядоспособных частиц именно в катодном диф­ фузионном слое. Следовательно, микрорассеивающая способность появляется в области поверхностных про­ филей, в которых имеется действительная разница в тол­ щине катодных диффузионных слоев.

В электролитах с высокой концентрацией разрядо­ способных гидратированных или других комплексных ионов уменьшение концентрации комплексов в катодном диффузионном слое в результате разряда при электро­ лизе обычно мало. В катодной области с большой толщи­ ной диффузионного слоя в углублениях профиля допол­ нительная доставка ионов к катоду происходит без зна­ чительного замедления. Такие электроды обычно обладают хорошей микрорассеивающей способностью и ограниченной концентрационной поляризацией. И толь­ ко при высоких катодных плотностях тока можно прид­ ти к местному сильному обеднению разрядоспособными комплексами и тем самым к отличительной черте микро­ рассеивающей способности — к действительной разнице в толщине катодного диффузионного слоя. Следователь­ но, микрорассеивающая способность этих электролитов часто очень сильно зависит от плотности тока.

В электролитах с ограниченной концентрацией разря­ доспособных комплексов уменьшение концентрации этих комплексов в диффузионном слое сильное. В результате высокой концентрационной поляризации местные разли­ чия в толщине катодного диффузионного слоя сильно сказываются на дополнительной доставке разрядоспособ­ ных ионов. Транспортировка разрядоспособных комплек­ сов к катоду зависит от различия в толщине диффузион­ ного слоя. В местах с повышенной толщиной диффузион­ ного слоя дополнительная доставка разрядоспособных комплексов сильно замедлена. Обусловленное этим уменьшение концентрации разрядоспособных ком­ плексов вызывает в таких местах повышение ка­ тодной поляризации и тем самым уменьшение ка­ тодной плотности тока. Благодаря этому скорость

роста металлопокрытия замедляется

по отношению

к остальным частям поверхности. В

качестве при­

мера можно привести медноцианистый электролит, в ко­ тором разряд происходит через комплекс [Cu(CN)^].

В результате разряда на катоде ионов меди происходит

151

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ