- •Часть II
- •1. Лазерный нагрев материалов 6
- •2. Лазерное разрушение поглощающих материалов 83
- •3. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред 121
- •Введение
- •1. Лазерный нагрев материалов
- •1.1. Общая характеристика нагревания лазерным излучением
- •1.1.1. Тепловые эффекты в конденсированных средах
- •1.1.2. Основные особенности температурной кинетики при лазерном воздействии
- •1.1.3. Теплопроводностные механизмы отвода тепла. Уравнение теплопроводности, начальное и граничные условия
- •1.2. Термические эффекты, сопровождающие лазерный нагрев
- •1.2.1. Термомеханические эффекты
- •1.2.2. Фазовые переходы в твердом состоянии (лазерное упрочнение)
- •1.2.3. Эмиссионные процессы
- •1.2.4. Основные особенности лазерной активации процессов аррениусовского типа
- •1.2.5. Диффузионно-химические явления
- •1.2.6. Лазерное плавление поверхности
- •1.2.6.1. Вакансионная модель плавления.
- •1.3. Линейные режимы лазерного нагрева.
- •1.3.1. Нагрев полупространства экспоненциально спадающим с глубиной тепловым источником.
- •1.3.2. Нагрев металла импульсным излучением постоянной мощности
- •1.3.3. Нагрев материала лазерным пучком с гауссовым профилем
- •1.3.4. Нагрев материала постоянным лазерным излучением, луч сфокусирован в пятно круглого сечения.
- •1.3.7. Нагрев материалов в интерференционном лазерном поле.
- •1.3.8. Особенности нагрева материала движущимся световым пятном.
- •1.4. Нелинейные режимы лазерного нагрева.
- •1.4.1. Нагрев с учетом температурной зависимости поглощательной способности.
- •1.4.2. Нагрев окисляющихся металлов лазерным излучением. Термохимическая неустойчивость
- •1.4.3. Экзотермические эффекты при импульсном лазерном воздействии на металлы
- •2. Лазерное разрушение поглощающих материалов
- •2.5. Общая характеристика механизмов лазерного разрушения
- •2.1. Механическое низкотемпературное разрушение хрупких материалов.
- •2.1.1. Разрушение упругими напряжениями.
- •2.1.2. Разрушение остаточными напряжениями.
- •2.2. Химические механизмы разрушения
- •2.3. Высокотемпературные механизмы с участием испарения
- •2.4. Поляритонный механизм формирования лазерно-индуцированного поверхностного рельефа
- •2.5. Лазерное испарение.
- •2.5.1. Кинетика испарения плоской поверхности.
- •2.5.1.1. Испарение в вакуум и среду с противодавлением
- •2.5.1.2. Температурная граница перехода от нагрева к испарению
- •2.5.2. Теплофизика перехода от нагрева к испарению
- •2.5.3. Одномерная задача о лазерном нагреве с испарением.
- •2.5.3.1. Установление стационарного режима. Определение квазистационарных параметров.
- •2.5.3.2. Зависимость температуры и скорости лазерного разрушения от плотности светового потока.
- •2.5.4. Вытеснение расплава избыточным давлением паров
- •2.6. Свойства лазерного пара и плазмы, их влияние на процесс разрушения
- •3. Современные представления об оптическом пробое прозрачных сред
- •3.1. Физические представления об оптическом пробое идеальных диэлектриков
- •3.1.1. Оптический пробой газов
- •3.1.1.1. Многофотонная ионизация
- •3.1.1.2. Лавинная ударная ионизация
- •3.1.2. Оптический пробой идеально чистых твердых тел
- •3.1.2.1. Туннельное поглощение; переход Мотта диэлектрик-металл.
- •3.1.3. Роль вынужденного рассеяния Мандельштама Бриллюэна
- •3.2. Тепловой механизм оптического пробоя реальных сред
- •3.2.1. Роль микронеоднородностей в зарождении поглощения и пробое
- •3.2.1.1. Оптические свойства реальных оптических материалов и покрытий
- •3.2.1.2. Основные экспериментальные закономерности и особенности оптического пробоя и разрушения оптически неоднородных сред
- •3.2.2. Механизмы инициирования объемного поглощения в первоначально прозрачной среде
- •3.2.3. Тепловая неустойчивость
- •3.2.4. Статистическая концепция оптического пробоя
- •3.2.5. Размерная зависимость порогов пробоя
- •Контрольные вопросы Список рекомендуемой литературы История кафедры
- •Галина Дмитриевна Шандыбина Взаимодействие лазерного излучения с веществом (силовая оптика).
3.1.2.1. Туннельное поглощение; переход Мотта диэлектрик-металл.
Ионизация квантовой системы может возникать и под действием постоянного внешнего электрического поля. В этом случае ионизация обусловлена возникновением потенциального барьера для электрона, связанного в атоме (рис. .5). При возникновении такого потенциального барьера к переходу связанного электрона в свободное состояние приводят два различных эффекта — надбарьерный распад связанной системы и туннельный эффект.
Рис. 3.5. Схема образования потенцнального барьера в постоянном внешнем поле ; – потенциал квантовой системы в отсутствие внешнего поля.
Если действие внешнего поля приводит к тому, что вершина барьера оказывается ниже энергии связи электрона, то связанная система перестает быть связанной – это процесс надбарьерного распада связанной системы.
Соответствующая напряженность внешнего постоянного поля есть атомная напряженность для состояния с заданной энергией связи. Для основного состояния электрона в атоме водорода атомная напряженность = 5•109 В/см. Реализовать в лабораторных условиях столь сильное постоянное поле невозможно по техническим причинам.
Если энергия связи электрона меньше, чем вершина потенциального барьера (рис. .5), то ионизация может происходить за счет туннельного перехода электрона через барьер из связанного в свободное состояние — это так называемый туннельный эффект. Вероятность туннелирования через барьер определяется прозрачностью барьера и экспоненциально зависит от напряженности постоянного внешнего поля . Вероятность туннелирования из основного состояния атома водорода описывается соотношением ( в ат. ед.)
Вероятность туннелирования велика лишь у вершины барьера.
Таким образом, в долазерную эпоху ионизация в переменном электромагнитном поле заключалась в фотоионизации, а в постоянном электрическом поле – в надбарьерном распаде и туннельном эффекте.
Исходя из рассмотренных выше процессов фотоионизации, туннельной ионизации в постоянном поле и многофотонного возбуждения, можно предсказать качественный характер процесса ионизации в выделенных выше областях изменения частоты внешнего поля. Рассмотрим их последовательно.
При в сильном поле, как и в слабом поле, происходит однофотонная ионизация (фотоионизация) квантовой системы.
При (но не ) в сильном поле, в отличие от слабого поля, существенна вероятность ионизации за счет поглощения электроном нескольких фотонов внешнего поля.
При частота внешнего поля гораздо меньше собственной частоты квантовой системы (частоты перехода в непрерывный спектр в данной задаче). Соответственно процесс ионизации носит адиабатический характер, действие переменного поля качественно аналогично действию постоянного поля. В предельном случае, за время , где — период изменения внешнего поля, процесс ионизации в точности соответствует процессу в постоянном поле, т. е. носит туннельный характер. Полученное таким образом выражение для вероятности туннельной ионизации в переменном поле имеет вид
(3.14)
Подводя итоги сказанному выше о механизмах пробоя в чистых средах, следует отметить, что на возникновение пробоя влияет много параметров, характеризующих среду (ширина запрещенной зоны, фотопроводимость, температура, облучаемый объем) и излучение (частота, пространственное и временное распределение излучения, длительность импульса), поэтому в общем случае пороги пробоя лежат в широком диапазоне изменения интенсивности излучения от 109 до 1012 Вт/см2.
Образование свободных электронов в диэлектрике приводит к его металлизации. Происходит так называемый переход Мота диэлектрик-металл.
Для описания экранирования электрического поля вырожденной системой свободных носителей используют радиус экранирования . При вырожденной статистике он связан с концентрацией электронов
( - боровский радиус).
Предположим, что мы постепенно увеличиваем концентрацию электронов . Пока , экранирование несущественно, вещество является изолятором. Но когда соотношение между и изменится на , состояние изолятора станет неустойчивым. Если электронов уйдут от своих атомов (молекул), то они к ним не смогут вернуться из-за сильного экранирования. Ионизованные атомы (молекулы) создадут положительный фон, компенсирующий отрицательный заряд делокализованных электронов. Поэтому равенство есть условие перехода металл-изолятор, который происходит, когда концентрация достигает критического значения .
Движущей силой перехода Мотта является межэлектронное взаимодействие. Из-за перекрытия волновых функций оба уровня размоются в минизоны с уровнями в каждой ( - объем). Поскольку концентрация электронов тоже равна , то, если минизоны не перекрываются, все уровней в нижней минизоне заполнены, а в верхней пустые, то вещество является изолятором со щелью на фермиуровне (см. рис. .6).
Рис. 3.6. Схема перехода Мота.
Повреждения прозрачных материалов могут быть вызваны, кроме того, образованием фононов (гиперзвуковых колебаний) в процессе вынужденного рассеяния Мандельштама Бриллюэна (ВРМБ);