РАСЧЕТ ПРИПУСКОВ И МЕЖПЕРЕХОДНЫХ РАЗМЕРОВ
.pdf
б – двухсторонние связи.
Рис.3. Условное обозначение опорных точек и схемы базирования призматической детали.
7
Число проекций заготовки или изделия на схеме базирования должно быть достаточным для четкого представления о размещении опорных точек.
Смена баз – преднамеренная или случайная замена одних баз другими с сохранением их принадлежности к конструкторским, технологическим или измерительным базам.
Погрешность базирования – отклонение фактически достигнутого положения заготовки или изделия при базировании от требуемого.
Закрепление – приложение сил или пары сил к заготовке или изделию для обеспечения постоянства их положения, достигнутого при базировании.
Установка – процесс базирования и закрепления заготовки или изделия. Погрешность установки – отклонение фактически достигнутого положения
заготовки или изделия при установке от требуемого.
ВИДЫ БАЗ
По назначению базы подразделяются на конструкторские, технологические
и измерительные.
Конструкторская база – база, используемая для определения положения детали или сборочной единицы в изделии.
Конструкторские базы, в зависимости от выполняемых ими функций, разделяют на основные и вспомогательные.
Основная база – конструкторская база, принадлежащая данной детали или сборочной единице и используемая для определения ее положения в изделии
(рис.4).
8
I, II, III – комплект основных баз шестерни
I, II – основные базы вала
I, II, III – комплект основных баз корпусной детали. Рис.4. К определению основной базы.
9
Вспомогательная база – конструкторская база, принадлежащая данной детали или сборочной единице и используемая для определения положения присоединяемой к ним детали или сборочной единицы (рис. 5).
Технологическая база – база, используемая для определения положения заготовки или изделия в процессе изготовления или ремонта (рис.6).
Измерительная база – база, используемая для определения относительного положения заготовки или изделия и средств измерения (рис.7).
По лишаемым степеням свободы различают следующие базы:
Установочная база – база, лишающая заготовку или изделие трех степеней свободы – перемещения вдоль одной координатной оси и поворотов вокруг двух других осей (рис.8).
Направляющая база – база, лишающая заготовку или изделие двух степеней свободы – перемещение вдоль одной координатной оси и поворота вокруг другой оси (рис.8).
Опорная база – база, лишающая заготовку или изделие одной степени свободы – перемещение вдоль одной координатной оси или поворота вокруг оси
(рис.8)
Двойная направляющая база – база, лишающая заготовку или изделие четырех степеней свободы: перемещений вдоль двух координатных осей и поворотов вокруг этих осей (рис.9).
Двойная опорная база – база, лишающая заготовку или изделие двух степеней свободы – перемещений вдоль двух координатных осей (рис.10).
По характеру проявления базы могут быть явными и скрытыми.
10
I, II, III – один из комплектов вспомогательных баз вала со шпонкой.
I, II, III – один из комплектов вспомогательных баз корпуса Рис.5. К определению вспомогательной базы
11
Рис.6. Технологические базы:
I, II, III – комплект технологических баз, определяющих положение заготовки в приспособлении.
12
Рис.7.Измерительная база. А – измерительная база детали
Рис.8. Схема баз призматической детали: I – установочная база заготовки, лишающая ее перемещения вдоль оси Z и поворотов вокруг
осей X и Y ;
II – направляющая база заготовки, лишающая ее перемещения вдоль оси Y и поворотов вокруг оси Z;
III – опорная база заготовки, лишающая ее
перемещения вдоль оси X;
13
Рис.9. Двойная направляющая база детали, лишающая ее перемещений вдоль осей Y и Z и поворотов вокруг осей Y иZ (Поверхность I )
Рис.10. Двойная опорная база детали, лишающая ее |
перемещений вдоль осей X и Y.(Поверхность I ) |
14
Рис.11. Характер проявления баз:
I – установочная явная база заготовки;
II– направляющая скрытая база заготовки; III – опорная скрытая база заготовки;
1- 6 – опорные точки;
7 – заготовка
16