Добавил:
Опубликованный материал нарушает ваши авторские права? Сообщите нам.
Вуз: Предмет: Файл:

книги из ГПНТБ / Вигдорович, В. Н. Совершенствование зонной перекристаллизации

.pdf
Скачиваний:
16
Добавлен:
21.10.2023
Размер:
9.49 Mб
Скачать

Вторая стационарная точка определяется условием 1// = 0 и достигается при бесконечно большой скорости кристаллизации,

т. е. при достаточно больших значениях / производная dx убывает

и п р и /—>оо она стремится к нулю. Оптимальную скорость кристал­ лизации определяли при зонной перекристаллизации теллура от при­ меси селена. Для получения данных о зависимости &эфф от скорости пере­ мещения зоны были проведены экспе­ рименты при LU = 10 и различных скоростях кристаллизации. По кри­ вым распределения концентраций после трех проходов определены зна-

S0 т

мм/ч

Рис. 22. Зависимость эффектив­ ного коэффициента распреде­ ления &эфф (а), необходимого

числа проходов п (б) и времени процесса т (в) для случая сни­ жения концентрации примеси селена на один порядок при

зонной перекристаллизации тел­ лура от скорости движения

зоны f при различных исходных концентрациях:

1

3,2- 10-2; 2 — 7,0- 10~3 и

3

— 4,0» 10_б% (по массе)

Рис. 23. Зависимость числа проходов зоны п от значения эффективного коэффициента рас­ пределения (^эфф) Для случая

снижения концентрации приме­ си на один порядок в началь­ ной точке загрузки = 0)

чения &эфф (рис. 22). Путем сопоставления данных рис. 22, а и рис. 23 *, экстраполированных в области больших и малых / по уравнению Бартона—Прима—Слихтера [33], т. е. в предполо-

*Начальная часть кривой рассчитана по методике, предложенной в работе [62],

аконечная (в области &эфф = 0,9) — по методике, описанной в работе [53, с. 207— 225]. Кривая является общей для всех исходных концентраций, так как в расчете используются относительные, а не абсолютные концентрации.

80

 

,

/

1

[ j

ОТ / , пост-

жении линеинои зависимости

величины In ( —

 

 

 

 

\ «эфф

 

 

 

ровны зависимости п (/) и т (/)

=

(рис. 22,

б и в )

для

различ­

ных исходных

концентраций.

Как

можно

видеть

на

рис.

22, в,

время, необходимое для получения заданной степени очистки тел­ лура от примеси селена, существенно зависит от скорости движения зоны и при значении f = /опт достигает минимума.

Рассмотренный метод оптимизации зонной перекристаллизации практически использовался также при очистке висмута от свинца, никеля, меди, серебра, кадмия и таллия от меди [79] и цинка от кадмия [80].

При анализе особенностей поведения примесей при зонной пере­ кристаллизации висмута [79 ] обратило на себя внимание расхожде­ ние рекомендуемых оптимальных параметров процесса, определен­ ных по изученному распределению различных примесей. Например, если рассматривать содержание примесей на уровне —10~4%, то наибольшее время (/опт = 25 мм/ч) требует очистка от примеси свинца и наименьшее время (/опт = 65 мм/ч) — очистка от примеси никеля, хотя в обоих случаях рекомендуется одинаковое число проходов (яопт = 1). Однако исходные концентрации примеси различны, и это тоже вносит различие в рекомендуемые параметры процесса очистки'. В ходе очистки изменение концентрации сказывается раз­ лично и на эффективность удаления примесей (по мере очистки она растет для никеля и убывает для свинца). Все это требует создания методики выбора оптимального режима с учетом особенностей пове­ дения примесей.

Прежде всего, оптимизацию можно осуществлять для наиболее трудноудаляемой примеси или группы примесей, однако присутствие остальных примесей в очищенном материале, хотя они и удаляются с большей эффективностью, также нежелательно. Удаление этих примесей должно быть осуществлено также в оптимальных режимах. Учитывая и это обстоятельство, можно вести оптимизацию по всем примесям путем усреднения рекомендуемых параметров:

 

£=М

 

i —N

 

 

f

/опт

_

S

Яопт

 

— i=l___

) П0пг = ^

— >

<1П'28)

/опт

pj

где I — индекс, отмечающий принадлежность рекомендуемого пара­ метра (/опт или я011т) определенной примеси, которых всего N. Если имеет место несовпадение рекомендуемых параметров для данной примеси при различных ее исходных концентрациях, то можно про­ извести предварительное усреднение этих значений, а затем обраба­ тывать их с целью получения рекомендаций для совокупности примесей.

Можно также неравноценно учитывать оптимальные параметры всех рассматриваемых примесей введением некоторых коэффициентов, назначаемых в соответствии с технологической, физической или эко­

6 В. Н. Вигдорович

§1

номической особенностью примесей. Как один из примеров может быть отмечена возможность усреднения параметров, умноженных на нормированные значения эффективных коэффициентов распреде­ ления (определенных при тех же условиях), что позволит придать больший «вес» технологически трудноудаляемым примесям:

i=N

 

i=N

 

L п =

^ппт

гэфф

(III.29)

 

 

 

2

 

/= 1

 

1=1

 

где &эфф должно соответствовать f onTl и «опт, хотя выбор

^эфф может

быть и приближенным.

 

 

 

После усреднения может быть оценена адекватность полученного результата рекомендациям, вытекающим из эксперимента. Так, может оказаться, что до усреднения параметры, определенные с не­ которой погрешностью (± А /0ПТ и ±Ал0ПТ), имели области перекры­ тия и средний результат оказался в пределах одной из них, причем принадлежащей (если правильно были учтены «веса» рекомендуемых параметров по различным примесям) группе примесей, выделенной как важнейшая. Но может оказаться, что такого перекрытия рекомен­ дуемых параметров с погрешностями не произошло и усреднение дало формальный результат. Тогда рекомендуемые параметры про­ цесса будут допускать изменения в зависимости от ставящихся задач по очистке от примесей в связи с номенклатурой и уровнем исходного содержания примесей и конкретным применением очищенного ма­

териала.

 

 

 

 

Н. Муни-

 

Параметром оптимизации в методе, предложенном И.

цем [81], является средняя часовая производительность

W:

 

 

 

 

W = .

(Ш.ЗО)

где

Q — масса очищенного

материала;

 

 

тц — продолжительность

цикла очистки.

 

 

В свою очередь

Q можно представить в виде

 

где F — площадь

Q =

xLFy,

(III.31)

поперечного сечения загрузки;

 

 

у — удельная

масса

материала;

 

 

L — полная длина загрузки;

 

 

 

а — массовый

выход

годного материала.

 

 

Обозначим требуемую

степень

очистки через

 

 

 

 

 

Л =

% 2-,

(III .32).

 

 

 

 

 

(-'0

 

где

Сдоп— допустимая концентрация примеси;

 

 

Со — исходная концентрация примеси.

 

Выход годного материала представляет собой сложную нелиней­

ную функцию, зависящую от целого ряда

факторов:

А Ф (А я, k 9, LH и А),

(Ш.ЗЗ)

82

где / — скорость кристаллизации; п — число проходов;

k 0 — коэффициент распределения; I — длина зоны.

Продолжительность цикла очистки тц пропорциональна числу проходов п, длине загрузки L и обратно пропорциональна скорости

кристаллизации /:

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

тц= П у .

 

 

 

(III.34)

В формуле (III.30)

используем

выражения

(III.31)

и (III.34),

а также

выражение для

приведенной

скорости

роста

v = 8 с

Получаем

формулу

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

w==£ y D * _ v

 

 

(III.35)

 

 

 

 

o

n

 

 

''

которую

можно переписать в

виде

 

 

 

 

 

где

 

W =

/?ф,

 

 

 

 

(III.36)

 

 

 

 

 

 

 

 

 

 

R =

8

= const и ф = — V.

 

 

 

 

 

 

 

т

п

 

 

Было рассчитано распределение концентрации примеси (Сх/С0) по длине загрузки (хИ) при значениях k от 0,10 до 0,85 (через 0,05)

для

значений UL\

1/15; 1/10 и 1/5.

 

Принимая

во внимание связь

 

между равновесным и эффектив­

 

ным

коэффициентами

распределе­

 

ния по Бартону,

Приму и Слих-

 

теру, выбираются только такие

 

значения v, которые соответст­

 

вуют

значениям k от 0,10 до 0,85

 

для

заданного k 0. Для данных v

 

и k по зависимости

Сх/С0 от хИ

 

находится х

для

различных п и

 

заданного А.

На рис. 24 представ­

Рис. 24. Схема зависимости функции ф от

лена

зависимость

 

ф

от v для раз­

приведенной скорости роста о для различ­

 

ного числа проходов п:

личных п. Точка,

в которой значе­

(цифры на кривых по И. Н. Муниду [81])

ние ф максимально

(фтах), соответ­

 

ствует оптимальным условиям. По экспериментально определенным D

и 6

находится f и

затем по уравнению (III.35) определяется W.

Необходимо отметить, что примеров практического применения этого метода не публиковалось.

Недостатком рассмотренных расчетных методов оптимизации режима зонной перекристаллизации является неопределенность от­ ношения толщины диффузионного слоя б и коэффициента диффузии примеси в расплаве D.

6*

83

Кроме достижения определенной степени очистки, часто требуется получать также совершенные кристаллы. Теория концентрационного переохлаждения по­ казала, что совершенство структуры кристалла определяется формой и структурой фронта кристаллизации. На основе этой теории оценивалась зависимость крити­ ческой скорости роста (т. е. той максимально допустимой скорости роста, которая еще обеспечивает требуемое совершенство кристалла) от состава расплава. На рис. 25 показано влияние скорости роста и состава расплава на структуру фронта кристаллизации, откуда следует, что скорость кристаллизации не может быть бес­ предельно увеличена. При рассмотрении требований к выбору оптимального ре­

жима зонной перекристаллизации было отмечено, что одним из основных требова­ ний является получение совершенных крис­ таллов. Г. В. Никитина и В. Н. Романенко [82] исследовали оптимальный выбор ско­ рости кристаллизации на примере полупро­ водниковых соединений. Скорость роста полупроводникового кристалла влияет не только на его структурные свойства, но и на многие другие, в частности на электричес­ кие. В подавляющем большинстве случаев практика требует выращивания кристаллов либо высокосовершенных, либо с не очень большой степенью несовершенства структуры. Таким образом, выбор подходящей скорости для выращивания является важнейшим тех­ нологическим вопросом. Критической ско­ ростью роста называется та максимально допустимая скорость, которая еще обеспечи­ вает требуемое совершенство кристалла.

Теория концентрационного переохлаж­ дения позволяет получить связь между величиной критической скорости роста fKp, градиентом температур в расплаве вблизи

фронта кристаллизации G, коэффициентом диффузии примеси в расплаве D и пара­

метрами диаграммы состояния основа—примесь [4]:

/кр :

k0DG

dC

(III.37)

( l ~ k 0)С ТВ

d T ‘

 

 

где k0 —- равновесный коэффициент распределения примеси;

 

dT

 

 

 

---- наклон касательной к линии ликвидус (величина, обратная величине

dCldT);

 

 

 

Ств — состав кристаллов по линии солидус.

 

Поскольку кристаллизация проходит в условиях, мало отличающихся от равно­

весных, величину Ств можно считать составом на линии солидус равновесной диа­

граммы состояния. Выражение (III.37) получено для определения /кр в случае сильно разбавленных растворов, когда коэффициент k 0 можно считать постоянным. Для

оценок же в области концентрированных растворов формулу (III.37) удобнее пере­ писать в виде

t

DG

dC

Гкр~

( С ж - С тв)

(III.38)

d T ’

где Сж— состав расплава по линии ликвидус, соответствующий (по коноде) составу кристаллов по линии солидус Ств. Множитель (d_C/dT)/(C}K— Ств) находится гра­

фически из диаграммы состояния. Находя —---- для различных составов и

зная величины D и G, можно определить концентрационную зависимость крити­ ческой скорости роста fKp (Ств).

84

Этим методом были Исследованы критические скорости кристаллизации в си­ стемах: Ge—Si, InSb—GaSb, InAs—AlAs и др. [82—84]. На рис. 26 показана за­ висимость критической скорости роста от состава для систем InSb—GaSb и InAs— AlAs. Можно видеть, что критическая скорость

роста в очень сильной степени зависит от со­ става кристалла.

В настоящее время предложен и приме­ няется ряд методов определения оптимального режима процесса зонной перекристаллизации. Выбор того или иного метода связан с требова­ ниями, предъявляемыми к получаемому мате­ риалу, наличием определенных исходных фи­

зико-химических

или аппаратурно-методических

данных и т. д.

 

 

 

 

 

 

 

 

К сожалению, вопрос оптимизации про­

цесса

зонной

перекристаллизации

разработан

еще недостаточно

полно,

но даже

применение

предложенных методов определения

оптималь­

ных

 

условий

дает,

несомненно,

экономический

эффект.

 

 

 

 

 

 

 

 

Рис.

26.

Расчетные

кривые

критической

скорости

роста

(f

) для

систем

InSb —GaSb (1)

и

InAsAl—As

(2)

при

G =

50

град/см

и D ~

1* 10-4 см2/* с (по

Г. В.

 

Никитиной и В. Н. Романенко) [10,

с. 379—382; 82]

ВЫБОР РАЦИОНАЛЬНОГО СПОСОБА ПЕРЕМЕЩЕНИЯ НАГРЕВАТЕЛЕЙ ПРИ ЗОННОЙ ПЕРЕКРИСТАЛЛИЗАЦИИ

После того как рассчитан оптимальный режим процесса зонной пере­ кристаллизации, т. е. найдены, исходя из исходного содержания при­ месей, значения коэффициентов распределения, значения скорости кристаллизации f и число проходов п для получения заданного уровня необходимой очистки, процесс может быть осуществлен тремя из­ вестными способами [22]: «с одним нагревателем»' (способ /), «на проход» (способ II) и «с подхватом» (способ III) (рис. 27). Экономи­ ческие оценки очистки исходного материала до требуемого уровня этими способами будут различными.

Способ / отличается от способов II и I I I наибольшей продолжи­ тельностью процесса,, но из-за использования только одного постоянно работающего нагревателя имеет наименьший расход энергии. Спо­ соб I I I отличается компактностью установки и меньшим числом од­ новременно работающих нагревателей, а следовательно, и меньшим

расходом энергии при

продолжительности

процесса, сравнимой

с продолжительностью

процесса по способу

II. Результаты сопо­

ставления способов очистки должны зависеть от числа необходимых проходов, числа применяемых нагревателей, длины загрузки и дру­ гих параметров процесса. Анализ зависимостей между ними в общем виде с целью определения рациональных условий осуществления способов I, //.и I I I был выполнен В. Н. Вигдоровичем и В. П. Шу­ миловым [85]. Пренебрегая длиной нагревателя, малой по сравнению

85

С длиной загрузки, Для продолжительности процесса по способу / получаем формулу

 

Т/ ==

( т ^ Т г ) '

(III.39)

 

 

 

 

При способе

I I система

нагревателей делает п/ N

проходов на

расстояние L +

(N — 1)

и формула имеет вид

 

 

%и — Ln

N + м — 1

(III.40)

 

 

 

NM

 

Рис. 27. Способы перемещения нагревателей в процессе зонной перекристал­ лизации; с одним нагревателем — способ I (а), с N нагревателями — способ II (б) и возвратно-поступательное перемещение N нагревателей на расстоя­ нии d — способ III (е); положение нагревателей в начале прохода показано сплошной линией, в конце прохода — штриховой

При способе III система нагревателей делает п -{- N — 1 пере­ мещений на расстояние d = LIN и формула имеет вид

т/// — ^ ---- дг—~ \~[

~ г ) >

(III.41)

 

где т7, т77 и хш — продолжительность

процессов

при способах I,

II и III соответственно;

 

 

L — длина загрузки;

 

 

 

М— число нагревателей, умещающихся по длине загрузки (М — L/d, где d — шаг нагревателей);

86

 

/ и /* — скорости перемещения и

возвращения нагрева­

 

телей

соответственно;

 

 

N — число

нагревателей;

 

 

 

п — число

проходов.

 

соблюдается равенство

Необходимо отметить,

что для способа II I

N = М.

В отличие от работы [22] для

способа II полагаем N =f=п.

Из формул (III.40) и (III.41) при N =

1 получим формулу (III.39).

Приняв,

что N = п, увидим тождественность формул (II 1.40) и

(III.41). Предположим, что формулы (III.40) и (III.41) — частные выражения некоторой общей формулы, имеющей вид:

 

— х)2 = у 2

 

 

(III.42)

или, если разрешить его относительно времени процесса т, то

 

(* +

*/;

 

 

(III.43)

 

\ х — у.

 

 

 

 

 

 

Следует отметить, что это не единственная, а наиболее простая

форма записи общего выражения.

 

(II 1.43) справедливо для

Из условия, что верхнее уравнение

способа II, а нижнее — для способа III,

можно найти величины х,

у и получить общую формулу:

 

 

 

 

т — L 2пМ + (N — 1 )(л 4 -М )

+

я .

 

 

2NM

а

 

 

■(N-l)(n- ■М)

2

 

 

(III.44)

 

2NM

а

+

я

 

 

или

 

 

 

 

 

т = Ш м 12пМ +

- !) К«±«) +

(М+М))} ( у + у - ) •

(Ш -45)

Полагая в формуле (II 1.45) число нагревателей N — 1,

получим

выражение для продолжительности процесса по способу I (верхние знаки в квадратных скобках формулы (III.45) соответствуют выра­ жению для способа II, а нижние — выражению для способа III).

Можно дать геометрическую интерпретацию полученной общей

зависимости.

Формула (II 1.45) дает зависимость времени процесса

от величин N

и М, которую можно изобразить в трехмерном про­

странстве множеством точек, так как величины N и М могут прини­ мать только дискретные значения. Для наглядности предположим, что N и М могут принимать непрерывно меняющиеся значения от 1 до оо, тогда зависимость (III.45) можно изобразить в виде двух по­ верхностей (рис. 28).

Точка А на поверхности соответствует способу I, кривые а, лежащие на поверхности ABCD, — способу II и кривая Ь, лежащая на поверхности АКСР, — способу III.

Рассмотрим условия рационального получения очищенного ма­ териала. Затраты на очистку загрузки (Я) складываются из стои­

87

мости загрузки, поступившей на очистку (F), затрат на электро­ энергию, подводимую к каждому нагревателю в единицу времени (R), а также прочих видов затрат в единицу времени на эксплуатацию установки (G), т. е.

H = F ' + R N x + Gz.

(III.46)

Предполагая, что величины затрат не зависят от способа переме­ щения нагревателей и что N я М — непрерывно меняющиеся вели-

Рис. 28. Зависимость времени

процесса т

(при Lif -{- Lff* = 1)

от числа нагревателей

{N)

и числа

нагревателей,

уменьшаю­

щихся по длине загрузки

(М), для

способа II (кривые а на

поверхности ABCD) и для

 

способа III (кривая в на поверх­

ности AKCD). Линия

ADC

является

общей для

поверхнос­

тей ABCD и AKCD:

АА '

= ВВ' =

DD' — п

(п — число

проходов), СС =

2п—1

КВ ’ — (2п—1)/п

—, '

чины, можно найти значения N и М, при которых затраты на очистку

загрузки минимальны.

 

 

 

 

 

 

Воспользуемся условиями экстремума:

„т, ...

дН

 

г,

дН

г.

Ж- 0 И_Ш " _ 0

иполучим формулу для оптимального числа нагревателей:

дг — i f G i f 2пМ — [ { п ± п) + ( М + М ) }

v

( Ш 48)

V R V

± п) + (М + М) - ’

,

в которой верхние знаки соответствуют способу II:

 

 

N„ = Y

^ V M ^ ,

 

(III .49)

88

а нижние — способу III:

N m = y ^ V ~ \ -

0 11-50)

При этом значение М принимается максимально возможным, так как дН1дМ <5 0. Время на очистку при способе II будет равно

а затраты на получение продукта равны

Нп = F + RL [ У ^ + V M = i f ( у + ± - ) • (Ш.51)

При способе III

H,„ = F + R l { Y % +

T)’ (-L + y

.

(III.52)

Зависимость Н от соотношения G и R при оптимальном числе на­

гревателей N для способа II (при п > Л 1 и п < М ) и

для способа III

приведены на рис. 29.

и

 

 

Из сравнения формул (Ш.51)

 

 

(III.52) можно видеть, что затраты

Рис. 29. Зависимость затрат (Я) на получение

материала от соотношения V G/R, где G и R — эксплуатационные и энергетические затраты соответственно, при оптимальном числе нагрева­ телей (N ): кривая 1 — для способа II при п > М, кривая 2 — для способа II при п < М; кривая в — для способа III (сплошными линиями пока­ заны участки кривых, соответствующие целым

значениям N); ОА у

м

— I,

О Я = У М — 1

и ОС = V п — 1,

где

п — число проходов;

F — стоимость поступившей

на очистку за­

грузки

 

на очистку загрузки при способе II больше, чем затраты при способе

III, если

______ У м

+ У п

и

п >

М,

(III.53)

У М ( п — 1) + У п (М— 1)

 

 

 

 

и меньше, если

 

 

 

 

 

У м

+ У п

и

п <

М.

(III.54)

У м {п — \) - \ - У п ( М — 1)

 

 

 

 

89

Соседние файлы в папке книги из ГПНТБ