- •Зиновьев в. Г., Карпов в. В., Фиалковский о, п. Процессы полупроводниковых производств
- •Часть I
- •Содержание
- •1. Общие вопросы полупроводникового производства
- •1.1. Области применения полупроводниковых материалов
- •Классификация полупроводниковых приборов
- •Преобразователи внешних воздействий:
- •1.2. Общие задачи, решаемые в технологии полупроводниковых материалов
- •Соблюдение производственной чистоты
- •Обеспечение микроклимата
- •Подготовка основных и вспомогательных материалов, используемых в полупроводниковом производстве. Требования к материалам
- •Параметры воды
- •2. Процессы кристаллизации
- •2.1. Гомогенная кристаллизация
- •2.2. Гетерогенная кристаллизация
- •3. Методы выращивания полупроводниковых монокристаллов
- •3.1. Методы выращивания объемных монокристаллов из расплава
- •3.1.1. Тигельные методы
- •Метод горизонтальной зонной плавки.
- •Метод вертикальной зонной плавки.
- •3.1.2. Форма кристаллов. Псевдограни.
- •3.1.3. Бестигельные методы получения монокристаллов
- •Метод Вернейля.
- •Метод гарниссажной плавки.
- •Метод вытягивания с пьедестала.
- •Бестигельная зонная плавка.
- •Метод плавки в холодном тигле.
- •3.2. Методы получения монокристаллов из растворов-расплавов
- •Метод зонной плавки в температурном градиенте.
- •3.3. Методы получения монокристаллов из газовой фазы
- •Метод сублимации - конденсации
- •Метод газового транспорта
- •Метод кристаллизации вещества, синтезированного в газовой фазе
- •3.4. Методы получения профилированных кристаллов
- •4. Распределение примесей в процессах кристаллизации
- •4.1. Равновесный коэффициент распределения
- •4.2. Эффективный коэффициент распределения
- •4.3. Особенности распределения примеси по длине кристалла, получаемого из расплава
- •4.3.1. Направленная кристаллизация
- •Равновесная кристаллизация (рис. 40,а).
- •Неравновесная кристаллизация (рис. 40,б).
- •Зонная плавка.
- •Список литературы
- •Часть I
3.1.1. Тигельные методы
-
Метод Бриджмена-Стокбаргера (старый, практически не применяемый)
Заключается в том, что через печь, имеющую неравномерное распределение температуры по длине, протягивается ампула с материалом (возможна неподвижная ампула и движущаяся печь). Ампула имеет заостренный конец для исключения образования большого числа зародышей.
Другой вариант реализации конструкции – ампула с «перетяжкой», через которую прорастает только зародыш одного кристаллографического направления. Метод прост и экономичен (рис.18.).
Рис. 18 Выращивание по методу Бриджмена-Стокбаргера: а – ампула с заостренным концом; б – аппаратурная реализация метода; в – распределение температуры по длине печи.
Недостатки метода:
-
сложность гарантированного обеспечения монокристаллического роста;
-
высокая дефектность получаемых кристаллов, обусловленная ростом в стесненных условиях и различием коэффициентов термического расширения кристалла и ампулы;
-
прилипание слитков к ампуле требует графитизации поверхности ампулы.
-
Метод горизонтальной направленной кристаллизации Бриджмена (рис. 19.).
В этом методе используется заранее выращенная монокристаллическая затравка. Процесс происходит в атмосфере водорода или инертного газа.
Структурное совершенство кристаллов, получаемых этим методом, выше, чем в вертикальном варианте – открытая поверхность уменьшает механические напряжения. Перемещается либо печь относительно реактора (как на рис. 18.), либо ампула в реакторе. На заводе «Сапфир» этим методом сейчас выращивают, например, сапфир для подложек.
Рис. 19. Направленная кристаллизация по методу Бриджмена: 1 – монокристаллическая затравка; 2 – печь; 3 – лодочка; 4 – реактор.
Рис. 20. Реализация направленной кристаллизации для разлагающихся материалов: 1 – лодочка; 2 – нагреватель; 3 – летучий материал (например, As для GaAs); 4 – ампула; 5 – реактор.
Для получения разлагающихся материалов используется дополнительная тепловая зона с летучим материалом, создающим давление пара для подавления испарения материала (рис. 20). Известно, что при температуре плавления арсенида галлия давление насыщенного пара над расплавом около 1атм. и соответственно температура подпитывающего мышьяка должна быть 610 0С. Однако в этом случае процесс приходится проводить в закрытой системе (в ампуле).
-
Метод горизонтальной зонной плавки.
Метод горизонтальной зонной плавки (метод Пфанна) в основном применяется для глубокой очистки кристаллов от примесей из-за их сильной сегрегации по длине кристалла (рис. 21.). Процесс проводится в устройстве, аналогичном тому которое применяется в методе Бриджмена. Конструкция лодочки такая же, но изменена перемещающаяся печь, способная создавать узкую нагретую зону.
зоны.
Рис. 21. Горизонтальная зонная плавка (метод Пфанна): 1 – реактор; 2 – перемещающаяся печь; 3 – лодочка.
Плотности твердой и жидкой фаз различны (для многих полупроводниковых материалов плотность жидкой фазы больше, чем плотность твердой). В результате плавления уровень жидкой фазы окажется ниже первоначальной высоты слитка и как следствие – высота начальной части слитка будет меньше конечной. Для сохранения постоянного сечения кристалла лодочку наклоняют относительно горизонта на угол (рис. 21.):
, (24)
где h0 – начальная высота слитка, а l – длина расплавленной