- •Зиновьев в. Г., Карпов в. В., Фиалковский о, п. Процессы полупроводниковых производств
- •Часть I
- •Содержание
- •1. Общие вопросы полупроводникового производства
- •1.1. Области применения полупроводниковых материалов
- •Классификация полупроводниковых приборов
- •Преобразователи внешних воздействий:
- •1.2. Общие задачи, решаемые в технологии полупроводниковых материалов
- •Соблюдение производственной чистоты
- •Обеспечение микроклимата
- •Подготовка основных и вспомогательных материалов, используемых в полупроводниковом производстве. Требования к материалам
- •Параметры воды
- •2. Процессы кристаллизации
- •2.1. Гомогенная кристаллизация
- •2.2. Гетерогенная кристаллизация
- •3. Методы выращивания полупроводниковых монокристаллов
- •3.1. Методы выращивания объемных монокристаллов из расплава
- •3.1.1. Тигельные методы
- •Метод горизонтальной зонной плавки.
- •Метод вертикальной зонной плавки.
- •3.1.2. Форма кристаллов. Псевдограни.
- •3.1.3. Бестигельные методы получения монокристаллов
- •Метод Вернейля.
- •Метод гарниссажной плавки.
- •Метод вытягивания с пьедестала.
- •Бестигельная зонная плавка.
- •Метод плавки в холодном тигле.
- •3.2. Методы получения монокристаллов из растворов-расплавов
- •Метод зонной плавки в температурном градиенте.
- •3.3. Методы получения монокристаллов из газовой фазы
- •Метод сублимации - конденсации
- •Метод газового транспорта
- •Метод кристаллизации вещества, синтезированного в газовой фазе
- •3.4. Методы получения профилированных кристаллов
- •4. Распределение примесей в процессах кристаллизации
- •4.1. Равновесный коэффициент распределения
- •4.2. Эффективный коэффициент распределения
- •4.3. Особенности распределения примеси по длине кристалла, получаемого из расплава
- •4.3.1. Направленная кристаллизация
- •Равновесная кристаллизация (рис. 40,а).
- •Неравновесная кристаллизация (рис. 40,б).
- •Зонная плавка.
- •Список литературы
- •Часть I
-
Метод плавки в холодном тигле.
Используется для получения тугоплавких монокристаллов. В качестве тигля служит серебряная тонкостенная трубка с углублением под загрузку. Поскольку, полупроводники в жидкой фазе проявляют металлический тип проводимости, в результате индукционного высокочастотного нагрева, расплавленная зона под действием магнитного поля приподнимается над дном проводящего тигля (рис. 30.) и тем самым не взаимодействует с ним. Тигель, охлаждаемый током воды, практически не нагревается.
Рис. 30. Метод плавки в холодном тигле: 1 – затравка; 2 – монокристалл; 3 – расплавленная зона; 4 – серебряный тигель; 5 – кварцевый реактор; 6 – 7 – ток охлаждающей жидкости; 8 – индуктор; 9 – поликристаллическая загрузка.
3.2. Методы получения монокристаллов из растворов-расплавов
Методы основаны на кристаллизации из жидкой фазы, которая представляет собой раствор полупроводникового материала в расплавленном металле, являющимся растворителем. Растворитель должен отвечать следующим требованиям:
-
иметь относительно низкую температуру плавления;
-
хорошо растворять полупроводник в жидком состоянии;
-
обладать минимальной растворимостью в кристалле полупроводника;
-
его атомы при растворении в кристалле полупроводника должны быть электрически нейтральными;
-
быть инертным по отношению к материалу контейнера.
Основное преимущество методов – значительное снижение температуры кристаллизации, что способствует повышению чистоты получаемых материалов, снижает потери летучих компонентов и уменьшает затраты энергии. Метод нашел широкое применение для получения тугоплавких, легко разлагающихся и претерпевающих фазовые превращения в твердом состоянии материалов.
Для растворения кремния и германия применяют олово и свинец, однако метод не нашел широкого применения в технологии в силу его низкой производительности. Например, при выращивании кремния из собственного расплава скорость выращивания составляет~5÷15 см/час, а при его выращивании из раствора-расплава 10-2 см/час.
В случае полупроводниковых соединений, например, AIIIBV, растворителем является металл AIII. Исходя из диаграммы состояния (рис. 31.) видно, что кристаллизация конгруэнтно плавящегося соединения AlllBV возможно как из собственного расплава при температуре Тпл. (о чем говорилось выше), так и из раствора-расплава, например, состава С0 при соответствующей температуре ликвидуса.
Обращаем внимание, что под обозначениями «Сi» понимается концентрации растворенного вещества в кристаллизуемом веществе в различных агрегатных состояниях, что не всегда численно совпадает с концентрацией растворенного компонента, обозначаемыми «х2i», в различных фазах.
Рис. 31. Типичная диаграмма состояния в системе Alll – BV.
Выращивание из раствора-расплава характеризуется относительно низкой производительностью. Лимитирующей стадией является подвод компонента BV к фронту кристаллизации из объема жидкой фазы. Это обстоятельство значительно снижает скорость кристаллизации.
Основные методы выращивания монокристаллов из растворов-расплавов: